本實(shí)用新型涉及光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種新型中性漸變?yōu)V光片的制備裝置。

背景技術(shù)：

中性漸變?yōu)V光片是重要的攝影元件，其制備技術(shù)主要采用電子束蒸發(fā)或熱蒸發(fā)技術(shù)，使蒸發(fā)材料交替或混合沉積在待鍍膜的工件上，使待鍍膜的工件獲得所需的薄膜結(jié)構(gòu)。在實(shí)際制備的過程中，由于蒸發(fā)源的蒸發(fā)位置、鍍膜材料的蒸發(fā)分布以及鍍膜面上不同位置的運(yùn)動規(guī)律千差萬別，導(dǎo)致要同時在待鍍膜工件上獲得特定厚度分布的薄膜結(jié)構(gòu)非常困難。因此，已有大量的針對鍍膜修正擋板的文獻(xiàn)和專利申請。

對于中性漸變?yōu)V光片來說，由于不同部位的膜層厚度不同，并且不同材料在同一位置的厚度也不相同。因此，理想的制備方法是引入非常復(fù)雜的真空鍍膜系統(tǒng)，一般來說將生產(chǎn)線布置成流水作業(yè)模式，一臺鍍膜機(jī)鍍制一個膜層或者膜料，其他的鍍膜機(jī)鍍制其它材料。但是這種鍍膜設(shè)備投入過大，對于小批量產(chǎn)品的生產(chǎn)并不適用。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種新型中性漸變?yōu)V光片的制備裝置，其有效解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：

一種新型中性漸變?yōu)V光片的制備裝置，所述制備裝置設(shè)置在鍍膜機(jī)真空室內(nèi)，制備裝置包括第一修正擋板、第二修正擋板和第三修正擋板；其中，所述第一修正擋板設(shè)置在真空室內(nèi)的鍍膜傘架下方；所述第二修正擋板和第三修正擋板錯落設(shè)置在第一修正擋板下方；且第二修正擋板設(shè)置在金屬膜料蒸發(fā)源的上方，第三修正擋板設(shè)置在介質(zhì)膜料蒸發(fā)源的上方；第一修正擋板的截面形狀為中空的圓形，中空部分的形狀為橢圓形；第二修正擋板的截面呈“水滴”狀；第三修正擋板的截面呈“月牙”狀。

進(jìn)一步，所述第一修正擋板的截面的橢圓形中空部分的長半軸長度為圓形截面半徑的三分之一，短半軸長度為圓形截面半徑的四分之一。

進(jìn)一步，所述第二修正擋板的“水滴”狀截面的橫向?qū)挾葹樗龅谝恍拚龘醢宓膱A形截面半徑的四分之一，縱向長度為第一修正擋板的圓形截面半徑的二分之一。

進(jìn)一步，所述第三修正擋板的“月牙”狀截面的外圓弧半徑與所述第一修正擋板的圓形截面的半徑保持一致；“月牙”狀截面的內(nèi)弧由兩條相交于“月牙”狀截面的中軸線的線段構(gòu)成，兩條所述線段的交點(diǎn)與外圓弧的圓心之間的距離為第一修正擋板的圓形截面半徑的三分之一，線段的另一端點(diǎn)與外圓弧的圓心之間的垂直距離為第一修正擋板的圓形截面半徑的五分之一。

本實(shí)用新型具有以下有益技術(shù)效果：

本申請的制備裝置針對每一種材料的蒸發(fā)特性進(jìn)行膜厚修正，材料的厚度分布精確可控；針對中性漸變?yōu)V光片的整體分布進(jìn)行膜厚修正，濾光片的整體光譜分布精確可控；可直接對已有的鍍膜機(jī)進(jìn)行改造升級；鍍制的中心漸變?yōu)V光片的線性度好。

附圖說明

圖1為本申請的第一修正擋板的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本申請的第二修正擋板的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本申請的第三修正擋板的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本申請的制備裝置在鍍膜機(jī)真空室內(nèi)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本申請的制備裝置在鍍金屬膜時的修正擋板結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本申請的制備裝置在鍍介質(zhì)膜時的修正擋板結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面，參考附圖，對本實(shí)用新型進(jìn)行更全面的說明，附圖中示出了本實(shí)用新型的示例性實(shí)施例。然而，本實(shí)用新型可以體現(xiàn)為多種不同形式，并不應(yīng)理解為局限于這里敘述的示例性實(shí)施例。而是，提供這些實(shí)施例，從而使本實(shí)用新型全面和完整，并將本實(shí)用新型的范圍完全地傳達(dá)給本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員。

如圖1-4所示，本實(shí)用新型提供了一種新型中性漸變?yōu)V光片的制備裝置，所述制備裝置設(shè)置在鍍膜機(jī)真空室4內(nèi)，制備裝置包括第一修正擋板1、第二修正擋板2和第三修正擋板3；其中，第一修正擋板1設(shè)置在真空室內(nèi)的鍍膜傘架5下方；第二修正擋板2和第三修正擋板3錯落設(shè)置在第一修正擋板1下方；且第二修正擋板2設(shè)置在金屬膜料蒸發(fā)源6的上方，第三修正擋板3設(shè)置在介質(zhì)膜料蒸發(fā)源7的上方；第一修正擋板1的截面形狀為中空的圓形，中空部分的形狀為橢圓形；第二修正擋板2的截面呈“水滴”狀；第三修正擋板3的截面呈“月牙”狀。

第一修正擋板1的截面的橢圓形中空部分的長半軸長度為圓形截面半徑的三分之一，短半軸長度為圓形截面半徑的四分之一。第二修正擋板2的“水滴”狀截面的橫向?qū)挾葹樗龅谝恍拚龘醢宓膱A形截面半徑的四分之一，縱向長度為第一修正擋板的圓形截面半徑的二分之一。第三修正擋板3的“月牙”狀截面的外圓弧半徑與所述第一修正擋板的圓形截面的半徑保持一致；“月牙”狀截面的內(nèi)弧由兩條相交于“月牙”狀截面的中軸線的線段構(gòu)成，兩條所述線段的交點(diǎn)與外圓弧的圓心之間的距離為第一修正擋板的圓形截面半徑的三分之一，線段的另一端點(diǎn)與外圓弧的圓心之間的垂直距離為第一修正擋板的圓形截面半徑的五分之一。

如圖5-6所示，本申請的制備裝置在鍍制中性漸變?yōu)V光片的過程中，第一修正擋板1，始終固定不動；在鍍制金屬薄膜材料的時候，第二修正擋板2升起，第三修正擋板3落下；在鍍制介質(zhì)薄膜材料的時候，第三修正擋板3升起，第二修正擋板2落下；本申請的修正擋板可以吊裝在真空室內(nèi)，也可以固定點(diǎn)氣缸的活塞缸上，由氣缸驅(qū)動其升起或下落。

上面所述只是為了說明本實(shí)用新型，應(yīng)該理解為本申請并不局限于以上實(shí)施例，符合本實(shí)用新型思想的各種變通形式均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。