本發(fā)明涉及真空蒸鍍領(lǐng)域，特別設(shè)計(jì)一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備及其控制方法。

背景技術(shù)：

在真空環(huán)境中，將材料加熱并鍍到基片上稱為真空蒸鍍，真空蒸鍍是將待成膜的物質(zhì)置于真空中進(jìn)行蒸發(fā)或升華，使之在工件或基片表面析出的過程。

目前，蒸鍍工藝被廣泛地應(yīng)用于電子器件的鍍膜生產(chǎn)過程中，其原理是將待成膜的原材料放置于真空環(huán)境中，通過電阻加熱或電子束加熱使原材料加熱到一定溫度發(fā)生蒸發(fā)或升華，氣態(tài)的原材料凝結(jié)沉積在待成膜的基板表面而完成鍍膜。

然，目前真空蒸鍍設(shè)備，在進(jìn)行鍍膜時(shí)通常不能使氣態(tài)的原材料均勻的凝結(jié)沉積在待成膜的基板表面，而且，原材料被蒸鍍在基板的同時(shí)有大量的原材料被蒸鍍到了蒸鍍腔壁上，使得大量原材料被浪費(fèi)，導(dǎo)致原材料的利用率很低。

因此，本發(fā)明人有鑒于真空蒸鍍設(shè)備實(shí)在有其改良的必要性，遂以其多年從事相關(guān)領(lǐng)域的創(chuàng)作設(shè)計(jì)及專業(yè)制造經(jīng)驗(yàn)，積極地針對一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備及其控制方法進(jìn)行研究改良，在各方條件的審慎考慮下終于開發(fā)出本發(fā)明。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明目的：為解決背景技術(shù)中存在的問題，即為了能夠讓原材料均勻的凝結(jié)沉積在基板表面，并避免原材料蒸鍍到蒸鍍腔壁造成大量浪費(fèi)，提高原材料利用率，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備，用于真空蒸鍍，使原材料均勻在基板上鍍膜，并且避免原材料蒸鍍到蒸鍍腔壁，提高原材料利用率。

技術(shù)方案：一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備，包括第一蒸鍍腔、設(shè)置于所述第一蒸鍍腔內(nèi)的第一蒸發(fā)源以及基板，還包括氣壓傳感器、單片機(jī)、驅(qū)動電機(jī)以及設(shè)置在所述基板下方且覆蓋所述基板的蒸鍍面的管陣，所述管陣由若干導(dǎo)向管組成，所述氣壓傳感器與所述導(dǎo)向管的數(shù)量相同，所述導(dǎo)向管包括固定管以及套設(shè)在所述固定管內(nèi)部的活動管，所述固定管內(nèi)設(shè)置有用于控制所述活動管沿著所述導(dǎo)向管的軸向水平移動的控制裝置，所述氣壓傳感器設(shè)置在所述固定管的開口處且與所述單片機(jī)連接，所述單片機(jī)與所述驅(qū)動電機(jī)連接，所述驅(qū)動電機(jī)與所述控制裝置連接。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，還包括設(shè)置在所述第一蒸鍍腔上方的第二蒸鍍腔以及設(shè)置在所述第二蒸鍍腔內(nèi)的第二蒸發(fā)源。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，所述第一蒸鍍腔內(nèi)設(shè)置有兩端分別與所述第一蒸鍍腔的腔壁密封貼合的擋板，所述擋板將所述第一蒸鍍腔分隔成兩個(gè)子腔；所述擋板上開設(shè)有連通所述兩個(gè)子腔的第一蒸發(fā)孔，所述第二蒸鍍腔底部開設(shè)有與所述第一蒸發(fā)孔相互對立的第二蒸發(fā)孔。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，還包括第一通氣管、第二通氣管以及容氣盒，所述第一通氣管分別與所述第一蒸發(fā)孔以及第二蒸發(fā)孔連通，所述第二通氣管與所述第一通氣管垂直且連通，所述容氣盒與所述第二通氣管連通；所述管陣佇立在所述容氣盒的上方，且所述導(dǎo)向管與所述容氣盒的內(nèi)腔連通。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，所述第一通氣管在靠近所述第一蒸發(fā)孔的一端設(shè)置有第一單向閥，在靠近所述第二蒸發(fā)孔的一端設(shè)置有第二單向閥，所述第一單向閥的氣體流動控制方向與所述第二單向閥的氣體流動控制方向?yàn)橄喾捶较颉?/p>

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，所述第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源、第一蒸發(fā)孔、第二蒸發(fā)孔、第一通氣管以及第二通氣管的數(shù)量均為兩個(gè)。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，還包括設(shè)置在所述第一蒸鍍腔的腔壁上的多個(gè)真空抽氣孔。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，包括以下工作步驟：

（1）、設(shè)置在各導(dǎo)向管內(nèi)的氣壓傳感器將各自檢測出的氣壓值傳輸給單片機(jī)；

（2）、單片機(jī)執(zhí)行操作：以兩個(gè)導(dǎo)向管為一組，對每組相鄰的導(dǎo)向管內(nèi)的氣壓傳感器輸出的氣壓值進(jìn)行計(jì)算，具體為，首先將相鄰的氣壓值代入公式l=（p1-p2）·d1進(jìn)行計(jì)算，其中，p1是較大的氣壓值，p2是較小的氣壓值，d1是在所述第一蒸鍍腔內(nèi)消耗1pa的蒸氣所需移動的距離，l是待移動距離；然后將計(jì)算得出的l傳輸給驅(qū)動電機(jī)，并向驅(qū)動電機(jī)輸出提供較小氣壓值的氣壓傳感器所處導(dǎo)向管內(nèi)的控制裝置進(jìn)行驅(qū)動所對應(yīng)的控制信號；

（3）、驅(qū)動電機(jī)向提供較小氣壓值的氣壓傳感器所處導(dǎo)向管內(nèi)的控制裝置輸出驅(qū)動力，以使所述控制裝置控制所處導(dǎo)向管內(nèi)的活動管沿著所述導(dǎo)向管的軸向水平向前移動l的距離。

本發(fā)明實(shí)現(xiàn)以下有益效果：本發(fā)明真空蒸鍍設(shè)備在運(yùn)行時(shí)，由導(dǎo)向管內(nèi)的氣壓傳感器檢測到氣壓值然后傳輸給單片機(jī)，單片機(jī)以兩個(gè)導(dǎo)向管為一組，將計(jì)算出的移動距離傳輸給驅(qū)動電機(jī)，并向驅(qū)動電機(jī)輸出提供較小氣壓值的氣壓傳感器所處的導(dǎo)向管內(nèi)的控制裝置進(jìn)行驅(qū)動所對應(yīng)的控制信號，驅(qū)動電機(jī)提供驅(qū)動力，以使所述控制裝置控制氣壓值較小的導(dǎo)向管內(nèi)的活動管伸出，使其中的氣體和另一根較大氣壓導(dǎo)向管內(nèi)的氣體同時(shí)到達(dá)基板，達(dá)到對基板上的產(chǎn)品均勻的鍍膜；由于蒸鍍腔室內(nèi)第一通氣管與第一蒸發(fā)孔以及第二蒸發(fā)孔連通，并且在第一通氣管的靠近第一蒸發(fā)孔那端設(shè)有第一單向閥，在靠近第二蒸發(fā)孔那端設(shè)有第二單向閥，使氣體只能從第一通氣管內(nèi)流動到與第一通氣管垂直連通的第二通氣管，并從第二通氣管流動到容氣盒內(nèi)，使原材料避免在傳送過程中蒸鍍到蒸鍍腔壁上造成大量浪費(fèi)，提高原材料的利用率。

附圖說明

此處的附圖被并入說明書中并構(gòu)成本說明書的一部分，示出了符合本公開的實(shí)施例，并于說明書一起用于解釋本公開的原理。圖1為本發(fā)明提供的一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明提供的一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備的電子器件連接示意圖；

圖3為本發(fā)明提供的一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備的導(dǎo)向管排列俯視圖；

圖4為本發(fā)明提供的一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備的導(dǎo)向管排列立體圖；

圖5為本發(fā)明提供的一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備的導(dǎo)向管結(jié)構(gòu)示意圖。

其中：1.第一蒸鍍腔，2.第二蒸鍍腔，11.第一蒸發(fā)源，12.基板，13.氣壓傳感器，14.單片機(jī)，15.驅(qū)動電機(jī)，16.導(dǎo)向管，17.控制裝置，18.擋板，19.第一通氣管，20.第二通氣管，21.第二蒸發(fā)源，22.容氣盒，23.第一蒸發(fā)孔，24.第二蒸發(fā)孔，111.真空抽氣孔，161.固定管，162.活動管，191.第一單向閥，192.第二單向閥。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。

實(shí)施例一

參考圖1-圖5，圖1為本發(fā)明提供的一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為本發(fā)明提供的一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備的電子器件連接示意圖，圖3為本發(fā)明提供的一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備的導(dǎo)向管排列俯視圖，圖4為本發(fā)明提供的一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備的導(dǎo)向管排列立體圖，圖5為本發(fā)明提供的一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備的導(dǎo)向管結(jié)構(gòu)示意圖。

具體的，本實(shí)施例提供一種控制導(dǎo)向管縱向長度的真空蒸鍍設(shè)備，包括第一蒸鍍腔（1）、設(shè)置于所述第一蒸鍍腔（1）內(nèi)的第一蒸發(fā)源（11）以及基板（12），還包括氣壓傳感器（13）、單片機(jī)（14）、驅(qū)動電機(jī)（15）以及設(shè)置在所述基板（12）下方且覆蓋所述基板（12）的蒸鍍面的管陣，所述管陣由若干導(dǎo)向管（16）組成，所述氣壓傳感器（13）與所述導(dǎo)向管（16）的數(shù)量相同，所述導(dǎo)向管（16）包括固定管（161）以及套設(shè)在所述固定管（161）內(nèi)部的活動管（162），所述固定管（161）內(nèi)設(shè)置有用于控制所述活動管（162）沿著所述導(dǎo)向管（16）的軸向水平移動的控制裝置（17），所述氣壓傳感器（13）設(shè)置在所述固定管（161）的開口處且與所述單片機(jī)（14）連接，所述單片機(jī)（14）與所述驅(qū)動電機(jī)（15）連接，所述驅(qū)動電機(jī)（15）與所述控制裝置（17）連接。

具體的，第一蒸發(fā)源（11）可以是電阻加熱、感應(yīng)蒸發(fā)、電子束槍以及真空電弧，本實(shí)施例中以電阻加熱為例。

具體的，如圖3-5所示，基板（12）下方的管陣是由若干個(gè)導(dǎo)向管（16）組成，并且氣壓傳感器（13）與導(dǎo)向管（16）的數(shù)量相同，在本實(shí)施例中所述管陣由40根導(dǎo)向管（16）組成，在每根導(dǎo)向管（16）內(nèi)均有氣壓傳感器（13），即氣壓傳感器（13）為40個(gè)；導(dǎo)向管（16）內(nèi)活動管（162）的作用是為了讓氣態(tài)的原材料可以快速到達(dá)基板（12），因氣態(tài)的原材料在大容器內(nèi)流動速度與導(dǎo)向管（16）內(nèi)流動速度不同，在導(dǎo)向管（16）內(nèi)氣態(tài)的原材料只能沿著導(dǎo)向管（16）進(jìn)行流通，而在較大容器內(nèi)氣態(tài)的原材料會向四周流通，流動速度比導(dǎo)向管（16）內(nèi)的流動速度小。

具體的，將原材料放在第一蒸發(fā)源（11）上，第一蒸發(fā)源（11）加熱使原材料蒸發(fā)或升華，氣態(tài)的原材料進(jìn)入導(dǎo)向管（16），導(dǎo)向管（16）開口處的氣壓傳感器（13）檢測到氣態(tài)原材料的氣壓值，然后將感測到的氣態(tài)原材料的氣壓值傳輸給單片機(jī)（14），單片機(jī)（14）以兩個(gè)導(dǎo)向管（16）為一組，計(jì)算兩根導(dǎo)向管（16）內(nèi)的氣壓值，算出氣壓值較小的那根導(dǎo)向管（16）中活動管（162）需要移動的距離，然后單片機(jī)（14）將計(jì)算出的移動距離傳輸給驅(qū)動電機(jī)（15），并向驅(qū)動電機(jī)（15）輸出提供較小氣壓值的氣壓傳感器（13）所處導(dǎo)向管內(nèi)的控制裝置（17）進(jìn)行驅(qū)動所對應(yīng)的控制信號，控制裝置（17）接收到控制信號，驅(qū)動電機(jī)（15）向提供較小氣壓值的氣壓傳感器（13）所處導(dǎo)向管（16）內(nèi)的控制裝置（17）輸出驅(qū)動力，以使所述控制裝置（17）控制所處導(dǎo)向管（16）內(nèi)的活動管（162）沿縱向伸出，使其中氣態(tài)的原材料與另一根較大氣壓值的導(dǎo)向管（16）內(nèi)氣態(tài)的原材料同時(shí)到達(dá)基板（12），對基板（12）上的產(chǎn)品均勻的鍍膜。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，所述真空蒸鍍控制方法包括以下工作步驟：

（1）、設(shè)置在各導(dǎo)向管（16）內(nèi)的氣壓傳感器（13）將各自檢測出的氣壓值傳輸給單片機(jī)（14）；

（2）、單片機(jī)（14）執(zhí)行操作：以兩個(gè)導(dǎo)向管（16）為一組，對每組相鄰的導(dǎo)向管（16）內(nèi)的氣壓傳感器（13）輸出的氣壓值進(jìn)行計(jì)算，具體為，首先將相鄰的氣壓值代入公式l=（p1-p2）·d1進(jìn)行計(jì)算，其中，p1是較大的氣壓值，p2是較小的氣壓值，d1是在所述第一蒸鍍腔（1）內(nèi)消耗1mpa的蒸氣所需移動的距離，l是待移動距離；然后將計(jì)算得出的l傳輸給驅(qū)動電機(jī)（15），并向驅(qū)動電機(jī)（15）輸出提供較小氣壓值的氣壓傳感器（13）所處導(dǎo)向管(16)內(nèi)的控制裝置（17）進(jìn)行驅(qū)動所對應(yīng)的控制信號；

（3）、驅(qū)動電機(jī)（15）向提供較小氣壓值的氣壓傳感器（13）所處導(dǎo)向管（16）內(nèi)的控制裝置（17）輸出驅(qū)動力，以使所述控制裝置（17）控制所處導(dǎo)向管（16）內(nèi)的活動管（162）沿著所述導(dǎo)向管（16）的軸向水平向前移動l的距離。

具體的，原材料被第一蒸發(fā)源（11）蒸發(fā)或升華，氣態(tài)的原材料流動到導(dǎo)向管（16）內(nèi)，而導(dǎo)向管（16）內(nèi)的氣壓傳感器（13）在第一時(shí)間內(nèi)檢測到氣態(tài)的原材料，并且分析氣態(tài)的原材料的氣壓值，并將氣態(tài)原材料的氣壓值傳輸給單片機(jī)（14），單片機(jī)（14）將以兩根導(dǎo)向管（16）為一組，并對每組相鄰的導(dǎo)向管（16）內(nèi)的氣壓傳感器（13）輸出的氣壓值進(jìn)行計(jì)算，具體的，計(jì)算公式為l=（p1-p2）·d1，其中p1是兩根導(dǎo)向管（16）中氣壓值較大的，p2是兩根導(dǎo)向管（16）中氣壓值較小的，d1是氣態(tài)的原材料在第一蒸鍍腔（1）內(nèi)消耗1pa的蒸氣所需要移動的距離，l則為導(dǎo)向管（16）中活動管（162）的移動距離，其中導(dǎo)向管（16）中活動管（162）最大的移動距離不會觸碰到基板（12），然后單片機(jī)（14）將計(jì)算出的活動管（162）所需縱向伸出的距離，傳輸給驅(qū)動電機(jī)（15），并且向驅(qū)動電機(jī)（15）輸出提供較小氣壓值的氣壓傳感器（13）所處導(dǎo)向管（16）內(nèi)的控制裝置（17）進(jìn)行驅(qū)動所對應(yīng)的控制信號，所述驅(qū)動電機(jī)（15）向提供較小氣壓值的氣壓傳感器（13）所處導(dǎo)向管（16）內(nèi)的控制裝置（17）輸出驅(qū)動力，以使所述控制裝置（17）控制所處導(dǎo)向管（16）內(nèi)的活動管（162）沿著所處導(dǎo)向管（16）的縱向水平移動l的距離，使較小氣壓值導(dǎo)向管（16）內(nèi)氣態(tài)的原材料與較大氣壓值導(dǎo)向管（16）內(nèi)氣態(tài)的原材料同時(shí)到達(dá)基板（12）上需要鍍膜的產(chǎn)品表面，進(jìn)行均勻的鍍膜。

如：原材料被第一蒸發(fā)源（11）蒸發(fā)或升華，氣態(tài)的原材料流動到導(dǎo)向管（16）內(nèi)，而導(dǎo)向管（16）內(nèi)的氣壓傳感器（13）在第一時(shí)間內(nèi)檢測到氣態(tài)的原材料，并且分析氣態(tài)的原材料的氣壓值，并將氣態(tài)原材料的氣壓值傳輸給單片機(jī)（14），單片機(jī)（14）將以兩根導(dǎo)向管（16）為一組，并對每組相鄰的導(dǎo)向管（16）內(nèi)的氣壓傳感器（13）輸出的氣壓值進(jìn)行計(jì)算，具體計(jì)算公式為l=（p1-p2）·d1，假設(shè)p1較大氣壓值為60pa，p2較小氣壓值57pa，d1為消耗1pa的蒸氣所需要移動距離為1cm，則計(jì)算出l=（60-57）·1=3cm，然后單片機(jī)（14）將計(jì)算出活動管（162）所需縱向伸出3cm傳輸給驅(qū)動電機(jī)（15），并且向驅(qū)動電機(jī)（15）輸出提供57pa的氣壓傳感器（13）所處導(dǎo)向管（16）內(nèi)的控制裝置（17）進(jìn)行驅(qū)動所對應(yīng)的控制信號，所述驅(qū)動電機(jī)（15）向提供57pa的氣壓傳感器（13）所處導(dǎo)向管（16）內(nèi)的控制裝置（17）輸出驅(qū)動力，以使所述控制裝置（17）控制所處導(dǎo)向管（16）內(nèi)的活動管（162）沿著所處導(dǎo)向管（16）的縱向水平移動3cm，使57pa的導(dǎo)向管（16）內(nèi)氣態(tài)的原材料與60pa的導(dǎo)向管（16）內(nèi)氣態(tài)的原材料同時(shí)到達(dá)基板（12）上需要鍍膜的產(chǎn)品表面，進(jìn)行均勻的鍍膜。

實(shí)施例二

請復(fù)參考參考圖1-圖5。

在本發(fā)明第二實(shí)施例中，與上述實(shí)施例一內(nèi)容基本相同，不同之處在于，作為被發(fā)明的一種優(yōu)選方式，所述真空蒸鍍設(shè)備還包括設(shè)置在所述第一蒸鍍腔（1）上方的第二蒸鍍腔（2）以及設(shè)置在所述第二蒸鍍腔（2）內(nèi)的第二蒸發(fā)源（21）。

具體的，第一蒸鍍腔（1）上方設(shè)有第二蒸鍍腔（2），并在第二蒸鍍腔（2）內(nèi)設(shè)有第二蒸發(fā)源（21），這樣設(shè)置，第二蒸鍍腔（2）內(nèi)的第二蒸發(fā)源（21）和第一蒸鍍腔（1）內(nèi)的蒸發(fā)源（11）使原材料同時(shí)蒸發(fā)或升華，提高鍍膜效率。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，所述第一蒸鍍腔（1）內(nèi)設(shè)置有兩端分別與所述第一蒸鍍腔（1）的腔壁密封貼合的擋板（18），所述擋板（18）將所述第一蒸鍍腔（1）分隔成兩個(gè)子腔；所述擋板（18）上開設(shè)有連通所述兩個(gè)子腔的第一蒸發(fā)孔（23），所述第二蒸鍍腔（2）底部開設(shè)有與所述第一蒸發(fā)孔（23）相互對立的第二蒸發(fā)孔（24）。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，還包括第一通氣管（19）、第二通氣管（20）以及容氣盒（22），所述第一通氣管（19）分別與所述第一蒸發(fā)孔（23）以及第二蒸發(fā)孔（24）連通，所述第二通氣管（20）與所述第一通氣管（19）垂直且連通，所述容氣盒（22）與所述第二通氣管（20）連通；所述管陣佇立在所述容氣盒（22）的上方，且所述導(dǎo)向管（16）與所述容氣盒（22）的內(nèi)腔連通。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，所述第一蒸發(fā)源（11）、第二蒸發(fā)源(21)、第一蒸發(fā)孔（23）、第二蒸發(fā)孔（24）、第一通氣管（19）以及第二通氣管（20）的數(shù)量均為兩個(gè)。

具體的，如圖1所示，在第一蒸鍍腔（1）內(nèi)設(shè)有與腔壁密封貼合的擋板（18），將第一蒸鍍腔（1）分隔成兩個(gè)子腔，擋板（18）設(shè)有連通兩個(gè)子腔的第一蒸發(fā)孔（23），第一蒸發(fā)孔（23）有兩個(gè)，靠近兩個(gè)第一蒸發(fā)源（11），并且在第二蒸鍍腔（2）的底部開設(shè)有與所述兩個(gè)第一蒸發(fā)孔（23）相互對立的兩個(gè)第二蒸發(fā)孔（24）；當(dāng)?shù)谝徽舭l(fā)源（11）和第二蒸發(fā)源（21）

蒸發(fā)或升華原材料時(shí)，氣態(tài)的原材料不會分散到別處，氣態(tài)的原材料只有從第一蒸發(fā)孔（23）和第二蒸發(fā)孔（24）中流動到第一通氣管（19）中。

具體的，氣態(tài)的原材料流動到第一通氣管（19），并從第一通氣管（19）流動到與第一通氣管（19）垂直連通的第二通氣管（20），再由第二通氣管（20）流動到與第二通氣管（20）連通的容氣盒（22）內(nèi)，氣態(tài)的原材料再由容氣盒（22）流動到導(dǎo)向管（16）中，其中第一通氣管（19）和第二通氣管（20）均為兩根，并與第一蒸發(fā)孔（23）和第二蒸發(fā)孔（24）連通。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，所述第一通氣管（19）在靠近所述第一蒸發(fā)孔（23）的一端設(shè)置有第一單向閥（191），在靠近所述第二蒸發(fā)孔（24）的一端設(shè)置有第二單向閥（192），所述第一單向閥（191）的氣體流動控制方向與所述第二單向閥（192）的氣體流動控制方向?yàn)橄喾捶较颉?/p>

具體的，第一單向閥（191）為兩個(gè)，分別設(shè)置在靠近第一蒸發(fā)孔（23）的位置，使第一蒸發(fā)源（11）蒸發(fā)或氣化后的氣態(tài)的原材料單向的流入第一蒸發(fā)孔（23）進(jìn)入第一通氣管（19），而氣態(tài)的原材料無法回流；第二單向閥（192）也為兩個(gè)，分別設(shè)置在靠近第二蒸發(fā)孔（24）的位置，使第二蒸發(fā)源（21）蒸發(fā)或升華后的氣態(tài)的原材料單向的流入第二蒸發(fā)孔（24）進(jìn)入第一通氣管（19），而氣態(tài)的原材料無法回流；因此經(jīng)過第一單向閥（191）的氣態(tài)原材料與經(jīng)過第二單向閥（192）的氣態(tài)原材料在第一通氣管（19）內(nèi)相互擠壓，可以快速的進(jìn)入第二通氣管（20），再由第二通氣管（20）進(jìn)入到容氣盒（22），然后從導(dǎo)向管（16）中噴出，對基板（12）上產(chǎn)品進(jìn)行鍍膜，使原材料避免在傳送過程中蒸鍍到蒸鍍腔壁上造成大量浪費(fèi)，提高原材料的利用率。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，真空蒸鍍設(shè)備還包括設(shè)置在所述第一蒸鍍腔（1）的腔壁上的多個(gè)真空抽氣孔（111）。

具體的，設(shè)置在第一蒸鍍腔（1）的腔壁上的多個(gè)真空抽氣孔（111），真空抽氣孔（111）是單向的抽氣孔，目的是讓抽氣機(jī)連通真空抽氣孔（111）將真空蒸鍍設(shè)備內(nèi)的空氣抽出，制造出真空環(huán)境。

上述實(shí)施例只為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的是讓熟悉該技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此來限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本發(fā)明精神實(shí)質(zhì)所作出的等同變換或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。