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      一種原位合成定向生長(zhǎng)M7C3涂層的制備方法與流程

      文檔序號(hào):11583059閱讀:325來源:國(guó)知局

      本發(fā)明涉及耐磨涂層領(lǐng)域,特別是一種原位合成定向生長(zhǎng)m7c3涂層的制備方法。



      背景技術(shù):

      鐵基碳化物m7c3(m=cr,fe)增強(qiáng)材料是一種性能優(yōu)良的耐磨材料,被廣泛用于礦山、水泥、火力發(fā)電等行業(yè),具有“工業(yè)牙齒”的美稱。近年來,隨著我國(guó)“一帶一路”戰(zhàn)略的實(shí)施以及大型水利工程、橋梁工程及高速鐵路等重大項(xiàng)目的建設(shè),對(duì)耐磨損性能更高、節(jié)能效果更優(yōu)、磨耗更低的耐磨材料需求隨之增加。但當(dāng)增加m7c3含量來提高材料的抗磨性時(shí),發(fā)現(xiàn)其耐磨性不升反降,二者呈反比關(guān)系。其原因是鐵基碳化物m7c3為柱狀生長(zhǎng)特征,當(dāng)兩個(gè)m7c3柱體生長(zhǎng)相交時(shí)會(huì)在相交處產(chǎn)生微裂紋,微裂紋隨著m7c3含量的增加而增多,達(dá)到一定值時(shí)將引起宏觀裂紋的產(chǎn)生,使材料提前失效破壞,出現(xiàn)耐磨性不升反降的問題。而m7c3定向生長(zhǎng)不僅可避免柱體間相交裂紋的產(chǎn)生,同時(shí)因m7c3柱體的橫截面硬度均高于縱截面,所以定向生長(zhǎng)的m7c3橫截面均處于工作面,使耐磨性得到提高。

      專利公告號(hào)為cn106086592a的發(fā)明專利公開了“一種碳化物定向生長(zhǎng)耐磨鋼鐵的制備方法”,其以石墨粉、高純鐵粉及合金粉末為原料,經(jīng)球磨混料后用壓片機(jī)壓成多根柱形試樣,再疊放到一端開口一端閉口的石英管內(nèi),在真空狀態(tài)下對(duì)石英管感應(yīng)加熱熔煉,待冷卻后打碎石英管取出耐磨材料。

      上述方案中,制備的耐磨材料為整體塊狀,且材料塊體大小受石英管的管徑尺寸限制,所以不適用于尺寸較大的工件,更不能在任意形狀工件表面制備出定向生長(zhǎng)的m7c3涂層。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本發(fā)明的目的是提供一種原位合成定向生長(zhǎng)m7c3涂層的制備方法,在零件表面制備抗磨涂層不僅耐磨性得到提高,而且表面涂層與整體塊狀相比所用原料較少,從而可節(jié)約大量昂貴合金粉末。

      本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思:本發(fā)明采用等離子原位合成法制備定向生長(zhǎng)m7c3涂層。由于cr為中等強(qiáng)度碳化物形成元素,所以通過冶金反應(yīng)ncr+(7-n)fe+3c=m7c3(m=cr,fe)較容易生成m7c3。另外,m7c3的本征生長(zhǎng)特征為長(zhǎng)柱狀,表1為m7c3晶體各晶面的自由能esurf和生長(zhǎng)速度rhkl,其中m7c3晶體界面能越高的晶面其生長(zhǎng)速率越大,反之界面能越小晶面生長(zhǎng)速率越小,如:{640}{620}的界面能esurf分別為-9.2955和-9.13474kcal/mol/?,生長(zhǎng)速率rhkl分別為1.01843和0.96411/?;{011}{002}界面能esurf分別為-2.67987和-2.65248kcal/mol/?,生長(zhǎng)速率rhkl分別為0.11519和0.13107/?,這遵循晶體生長(zhǎng)的熱力學(xué)與動(dòng)力學(xué)定律。由晶體生長(zhǎng)gibbs-wulff定理及bfdh模型可知:m7c3晶體中晶面{640}{620}{260}等生長(zhǎng)較快,從而決定碳化物m7c3生長(zhǎng)形態(tài)時(shí)的形態(tài)重要性較小,最終消失,而晶面{011}{002}{101}{111}生長(zhǎng)速率較小,其決定m7c3生長(zhǎng)形態(tài)的重要性最大,最終顯露出來。長(zhǎng)大后m7c3晶體由{011}{002}{101}晶面組成,由于晶面{011}與晶面{002}的面數(shù)和為6,從而組成一個(gè)近似六面結(jié)構(gòu)。因晶面{101}界面能遠(yuǎn)高于{011}與{002},生長(zhǎng)速率較快,最終顯露面積最小,所以m7c3晶體本征生長(zhǎng)形態(tài)為長(zhǎng)六棱柱狀。可見在理論上不僅較容易合成m7c3,且其本身具有單向生長(zhǎng)的物理特性。因晶體長(zhǎng)大方式和進(jìn)程主要是由熱流控制,所以若想實(shí)現(xiàn)m7c3定向生長(zhǎng),需維持一維方向熱傳導(dǎo),這樣不僅抑制了m7c3晶體其他方向生長(zhǎng),而且能使所有m7c3晶體沿逆熱流方向推進(jìn)長(zhǎng)大,獲得定向生長(zhǎng)的m7c3。

      表1m7c3晶體各晶面的自由能esurf和生長(zhǎng)速度rhkl

      本發(fā)明技術(shù)方案為:

      一種原位合成定向生長(zhǎng)m7c3涂層的制備裝置,所述裝置包括工件支架,所述支架上設(shè)有基板,所述基板上方涂層反應(yīng)熔池,所述涂層反應(yīng)熔池兩側(cè)設(shè)有陶瓷保溫板,所述陶瓷保溫板上方設(shè)有等離子弧槍;

      所述基板底部設(shè)有冷卻水槽,所述冷卻水槽與進(jìn)水管連接,所述進(jìn)水管與水泵連接,所述水泵與制冷機(jī)連接,所述制冷機(jī)與出水管連接。

      優(yōu)選地,所述陶瓷保溫板、涂層反應(yīng)熔池上方設(shè)有保溫陶瓷纖維。

      進(jìn)一步優(yōu)選地,所述冷卻水槽、進(jìn)水管、水泵、制冷機(jī)、出水管之間設(shè)有閥門,所述陶瓷保溫板材質(zhì)為剛玉。

      一種原位合成定向生長(zhǎng)m7c3涂層的制備方法,所述方法包括如下步驟:

      1)清理基板表層污物,若在零件表面制備涂層時(shí),則需對(duì)其表面進(jìn)行噴砂處理,然后將預(yù)處理好的基板或零件放入工件支架,夾緊固定;

      2)配置并混合用于原位反應(yīng)的合金粉末;

      3)根據(jù)涂層寬度把混合好的合金粉末預(yù)敷在基板表面,對(duì)其搗實(shí)壓平,再沿預(yù)敷層兩側(cè)鋪設(shè)耐高溫陶瓷保溫板;

      4)打開循環(huán)冷卻水系統(tǒng)對(duì)基板底部實(shí)施冷卻處理;

      5)開啟等離子弧設(shè)備,對(duì)預(yù)敷層粉末進(jìn)行加熱,邊加熱邊用硅酸鋁陶瓷纖維覆蓋熔池表面保溫,待熔化、反應(yīng)、冷卻后得到m7c3涂層。

      優(yōu)選地,所述步驟2)合金粉末包括以下按質(zhì)量百分比計(jì)組分:cr粉20%-60%、c(石墨)粉5%-8%,余量為fe-ni粉。

      所述fe-ni粉中ni質(zhì)量百分比為30%;re質(zhì)量百分比為1%;fe質(zhì)量百分比為69%。

      所述cr粉粒度為75-150μm,所述fe-ni粉粒度為60-180μm。

      優(yōu)選地,所述步驟3)涂層的合金粉末采用預(yù)敷粉末工藝,預(yù)敷層厚度搗實(shí)壓平后厚度為3-5mm。

      優(yōu)選地,所述步驟3)陶瓷保溫板材質(zhì)為剛玉,其氧化鋁含量為99.5%,耐熱溫度大于1600℃。

      優(yōu)選地,所述步驟4)冷卻水水溫為2-3℃,流速為1-1.5m/s。

      優(yōu)選地,所述步驟5)等離子弧通過cnc控制按一定速度移動(dòng),等離子弧參數(shù)為:電流:75-85a;電壓:35-45v;離子氣流量:5-6l/min;保護(hù)氣流量為:7-8l/min;cnc移動(dòng)速度:40-60mm/min。

      進(jìn)一步優(yōu)選地,所述陶瓷纖維的厚度為30-50mm,耐熱溫度為1200-1300℃。涂層應(yīng)邊加熱邊用硅酸鋁陶瓷纖維覆蓋熔池表面,防止熱量從上部散失。

      本發(fā)明有益效果:

      1)該方法為原位自生定向生長(zhǎng)m7c3增強(qiáng)相,生成的m7c3不僅與基體界面結(jié)合力大,且定向生長(zhǎng)的m7c3橫截面具有很高的抗磨性能。

      2)該方法采用循環(huán)冷卻水從涂層底部強(qiáng)制制冷,上部采取保溫措施,從而在熔池冷卻過程中形成由上而下的溫度梯度,所用的冷卻系統(tǒng)與等離子設(shè)備簡(jiǎn)單、穩(wěn)定、易操控。

      3)該方法制備定向生長(zhǎng)m7c3涂層時(shí)原料消耗小,與塊狀材料相比,可節(jié)省大量昂貴合金材料。

      4)該方法為預(yù)敷粉末工藝,對(duì)基板的結(jié)構(gòu)形狀適應(yīng)性強(qiáng),可在規(guī)則、非規(guī)則零部件表面制備定向生長(zhǎng)m7c3涂層。

      綜述,本發(fā)明有益效果為:利用原位合成法制備定向生長(zhǎng)的m7c3涂層,與已有定向生長(zhǎng)方法相比,該工藝所用設(shè)備簡(jiǎn)單、穩(wěn)定、易操控;與塊狀材料相比,表面制備涂層可節(jié)省大量昂貴合金,對(duì)基板的幾何結(jié)構(gòu)適應(yīng)性強(qiáng);定向生長(zhǎng)的m7c3在基體內(nèi)原位自生,因此表面干凈無污染與母相界面結(jié)合強(qiáng)度高。

      附圖說明

      下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明:

      圖1為本發(fā)明原位合成定向生長(zhǎng)m7c3涂層工藝圖。其中1-基體,2-支架,3-進(jìn)水管,4-水泵,5-制冷機(jī),6-冷卻水槽,7-出水管,8-閥門,9-陶瓷保溫板,10-涂層反應(yīng)熔池,11-等離子弧槍,12-保溫陶瓷纖維。

      圖2為本發(fā)明原位合成定向生長(zhǎng)m7c3涂層金相顯微組織圖(包括基體材料)。

      圖3為本發(fā)明原位合成定向生長(zhǎng)m7c3三維柱狀結(jié)構(gòu)的sem圖(已去除基體材料)。

      圖4為傳統(tǒng)工藝制備的雜亂生長(zhǎng)m7c3三維柱狀結(jié)構(gòu)的sem圖(已去除基體材料)。

      圖5為定向生長(zhǎng)m7c3涂層的磨損率與斷裂韌性強(qiáng)度因子。

      具體實(shí)施方式

      下面結(jié)合實(shí)施例來進(jìn)一步說明本發(fā)明,但本發(fā)明要求保護(hù)的范圍并不局限于實(shí)施例表述的范圍。

      本發(fā)明提出一種原位合成定向生長(zhǎng)m7c3涂層的制備方法,圖1為原位合成定向生長(zhǎng)m7c涂層工藝圖;圖2為定向生長(zhǎng)m7c3涂層金相顯微組織圖(包括基體材料);圖3為定向生長(zhǎng)m7c三維柱狀結(jié)構(gòu)的sem圖;圖4為采用傳統(tǒng)工藝生成雜亂生長(zhǎng)的m7c3三維柱狀結(jié)構(gòu)sem圖;圖5為定向生長(zhǎng)m7c3涂層的磨損率與斷裂韌性強(qiáng)度因子??梢钥吹奖景l(fā)明原位合成的m7c3并排沿柱體縱向定向生長(zhǎng)(熱流方向),其耐磨性和斷裂韌性均較高。

      以下將通過四個(gè)實(shí)施例,來完成工件表面定向生長(zhǎng)m7c3涂層的制備:

      實(shí)施例1

      一種原位合成定向生長(zhǎng)m7c3涂層的制備裝置,所述裝置包括工件支架2,所述支架2上設(shè)有基板1,所述基板1上方涂層反應(yīng)熔池10,所述涂層反應(yīng)熔池10兩側(cè)設(shè)有陶瓷保溫板9,所述陶瓷保溫板9上方設(shè)有等離子弧槍11;

      所述基板1底部設(shè)有冷卻水槽6,所述冷卻水槽6與進(jìn)水管3連接,所述進(jìn)水管3與水泵4連接,所述水泵4與制冷機(jī)5連接,所述制冷機(jī)5與出水管7連接。

      優(yōu)選地,所述陶瓷保溫板9、涂層反應(yīng)熔池10上方設(shè)有保溫陶瓷纖維12。

      進(jìn)一步優(yōu)選地,所述冷卻水槽6、進(jìn)水管3、水泵4、制冷機(jī)5、出水管7之間設(shè)有閥門,所述陶瓷保溫板材質(zhì)為剛玉。

      實(shí)施例2

      采用實(shí)施例1裝置進(jìn)行制備,首先打磨基板1表面,用丙酮清洗后烘干;將預(yù)處理好的基板1放入冷卻水槽6的工件支架2上,然后按順序依次開啟閥門8、水泵4、制冷機(jī)5對(duì)工件進(jìn)行冷卻處理,根據(jù)涂層寬度及長(zhǎng)度在基板上粘結(jié)保溫陶瓷板9。

      將30%的cr粉(粒度75-150μm)、5.4%的c粉、余量為fe-ni自熔性合金粉(ni=30%;re=1%;fe=69%,粒度為60-180μm)烘干混合均勻后,預(yù)敷在保溫陶瓷板9之間的工件表面搗實(shí)壓平;開啟等離子弧槍11,工藝參數(shù)為:電流:85a;電壓:45v;離子氣流量:6l/min;保護(hù)氣流量為:8l/min;cnc移動(dòng)速度:60mm/min;邊制備涂層邊用高溫陶瓷纖維12覆蓋在反應(yīng)熔池10表面保溫。待熔池冷卻后獲得涂層,測(cè)得涂層中原位合成的定向生長(zhǎng)m7c3體積分?jǐn)?shù)為27.6vol%。

      所得定向生長(zhǎng)m7c3涂層在m-2000磨損試驗(yàn)機(jī)上與t10配副材料(洛氏硬度hrc=63±1)對(duì)磨試驗(yàn)(壓力300n,滑動(dòng)1000米),測(cè)得磨損率為34.2(mm3/nm)×10-7;在cmt5015電子萬能試驗(yàn)機(jī)上測(cè)得涂層準(zhǔn)靜態(tài)斷裂韌性強(qiáng)度因子kic=26mpa.m1/2(圖5)。

      實(shí)施例3

      采用實(shí)施例1裝置進(jìn)行制備,首先打磨基板1表面,用丙酮清洗后烘干;將預(yù)處理好的基板1放入冷卻水槽6的工件支架2上,然后按順序依次開啟閥門8、水泵4、制冷機(jī)5對(duì)工件進(jìn)行冷卻處理,根據(jù)涂層寬度及長(zhǎng)度在基板上粘結(jié)保溫陶瓷板9。

      將40%的cr粉(粒度75-150μm)、5.8%的c粉、余量為fe-ni自熔性合金粉(ni=30%;re=1%;fe=69%,粒度為60-180μm)烘干混合均勻后,預(yù)敷在保溫陶瓷板9之間的工件表面搗實(shí)壓平;開啟等離子弧槍11,工藝參數(shù)為:電流:75a;電壓:35-45v;離子氣流量:5l/min;保護(hù)氣流量為:7l/min;cnc移動(dòng)速度:40mm/min;邊制備涂層邊用高溫陶瓷纖維12覆蓋在反應(yīng)熔池10表面保溫。待熔池冷卻后獲得涂層,測(cè)得涂層中原位合成的定向生長(zhǎng)m7c3體積分?jǐn)?shù)為34.7vol%。

      所得定向生長(zhǎng)m7c3涂層在m-2000磨損試驗(yàn)機(jī)上與t10配副材料(洛氏硬度hrc=63±1)對(duì)磨試驗(yàn)(壓力300n,滑動(dòng)1000米),測(cè)得磨損率為26.4(mm3/nm)×10-7;在cmt5015電子萬能試驗(yàn)機(jī)上測(cè)得涂層準(zhǔn)靜態(tài)斷裂韌性強(qiáng)度因子kic=24mpa.m1/2(圖5)。

      實(shí)施例4

      采用實(shí)施例1裝置進(jìn)行制備,首先打磨基板1表面,用丙酮清洗后烘干;將預(yù)處理好的基板1放入冷卻水槽6的工件支架2上,然后按順序依次開啟閥門8、水泵4、制冷機(jī)5對(duì)工件進(jìn)行冷卻處理,根據(jù)涂層寬度及長(zhǎng)度在基板上粘結(jié)保溫陶瓷板9。

      將50%的cr粉(粒度75-150μm)、6.2%的c粉、余量為fe-ni自熔性合金粉(ni=30%;re=1%;fe=69%,粒度為60-180μm)烘干混合均勻后,預(yù)敷在保溫陶瓷板9之間的工件表面搗實(shí)壓平;開啟等離子弧槍11,工藝參數(shù)為:電流:78a;電壓:42v;離子氣流量:5.5l/min;保護(hù)氣流量為:7.8l/min;cnc移動(dòng)速度:50mm/min;邊制備涂層邊用高溫陶瓷纖維12覆蓋在反應(yīng)熔池10表面保溫。待熔池冷卻后獲得涂層,測(cè)得涂層中原位合成的定向生長(zhǎng)m7c3體積分?jǐn)?shù)為42.3vol%。

      所得定向生長(zhǎng)m7c3涂層在m-2000磨損試驗(yàn)機(jī)上與t10配副材料(洛氏硬度hrc=63±1)對(duì)磨試驗(yàn)(壓力300n,滑動(dòng)1000米),測(cè)得磨損率為24.8(mm3/nm)×10-7;在cmt5015電子萬能試驗(yàn)機(jī)上測(cè)得涂層準(zhǔn)靜態(tài)斷裂韌性強(qiáng)度因子kic=21mpa.m1/2(圖5)。

      以上內(nèi)容是結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步詳細(xì)說明,不能認(rèn)定本發(fā)明的具體實(shí)施方式僅限于此,對(duì)于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干簡(jiǎn)單的替換,如:更換其他制冷劑、保溫材料、粉末配比比例、加熱熱源或其他基板材料等,都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明的專利保護(hù)范圍。

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