技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種懸浮陽極及帶有懸浮陽極的磁控濺射裝置，該懸浮陽極包括：陽極主體，所述陽極主體內(nèi)部為空心結(jié)構(gòu)，且所述陽極主體由陽極部分及兩個陽極主體支撐端組成；所述陽極部分包括水平部及分別與所述水平部相互連通的兩個豎直部；所述兩個陽極主體支撐端的其中一端分別與其中一個豎直部連接，另一端分別連接水管，冷卻水通過其中一個水管流入所述陽極主體，從另一個水管流出所述陽極主體；密封絕緣件，套設(shè)在所述陽極主體支撐端上，并與所述磁控濺射裝置的真空腔體的開口密封連接；電線，一端連接所述陽極主體支撐端，另一端連接磁控濺射電源。利用本發(fā)明，可以使大量溢出電子被陽極吸收，以防止電子轟擊基片造成基片溫度過高的問題。

技術(shù)研發(fā)人員：潘澤
受保護(hù)的技術(shù)使用者：大連愛瑞德納米科技有限公司
文檔號碼：201710270245
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.24
技術(shù)公布日：2017.06.23