本發(fā)明涉及顯示器制造領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸鍍?cè)O(shè)備、坩堝及蒸鍍方法。

背景技術(shù)：

在平板顯示器中，有機(jī)發(fā)光二極管(organiclight-emittingdiode，oled)顯示器具有寬視角、高亮度、高對(duì)比度、低驅(qū)動(dòng)電壓和快速響應(yīng)的優(yōu)點(diǎn)，被認(rèn)為是下一代顯示技術(shù)，并以其色彩鮮艷、功耗低、產(chǎn)品薄等諸多優(yōu)點(diǎn)在市場(chǎng)上受到了廣大消費(fèi)者的喜愛(ài)。目前實(shí)現(xiàn)oled器件量產(chǎn)的方法主要為蒸鍍方法，由于oled器件對(duì)水氧十分敏感，因此在制作oled顯示器時(shí)，需要在高真空條件下進(jìn)行，并利用電阻絲對(duì)放置在專用坩堝內(nèi)的源材料進(jìn)行加熱，源材料蒸發(fā)出來(lái)在基板上形成薄膜，通過(guò)精細(xì)金屬掩膜板實(shí)現(xiàn)薄膜的圖案化，因此oled顯示器中蒸鍍是必不可少的制程。

現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍?cè)O(shè)備中，坩堝填料量有限，在蒸鍍過(guò)程每次材料用盡后都需要破真空，打開真空腔室重新添加材料，既耽誤了oled顯示器的制作時(shí)間，同時(shí)不能很好的保證蒸鍍腔室內(nèi)的低水氧環(huán)境，從而容易產(chǎn)生污染，因此有必要對(duì)用于oled顯示器制作的蒸鍍?cè)O(shè)備進(jìn)行改進(jìn)，以達(dá)到降低蒸鍍制作過(guò)程污染的問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的旨在提供一種蒸鍍?cè)O(shè)備、坩堝及蒸鍍方法，其解決了蒸鍍過(guò)程中因單個(gè)坩堝填料量有限，而需頻繁破蒸鍍腔室真空環(huán)境進(jìn)行坩堝更換或添加源材料，進(jìn)而耽誤制作時(shí)間的問(wèn)題，以及頻繁破蒸鍍腔室真空環(huán)境帶來(lái)的水氧污染問(wèn)題。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了以下技術(shù)方案：

本發(fā)明提供的一種蒸鍍?cè)O(shè)備，包括主腔體、與所述主腔體連接的抽真空裝置、控制裝置及至少一個(gè)蒸發(fā)位，還包括至少一個(gè)儲(chǔ)備腔體、能夠受所述控制裝置控制而吊裝/夾持坩堝并使所述坩堝在所述蒸發(fā)位與儲(chǔ)備腔體之間進(jìn)行轉(zhuǎn)移的坩堝更換裝置，所述儲(chǔ)備腔體通過(guò)第一通孔與所述主腔體的內(nèi)部空間連通，所述第一通孔處設(shè)有能夠受所述控制裝置控制而移位以使所述第一通孔改變通閉狀態(tài)的隔離密封件，所述蒸發(fā)位位于所述主腔體的底部?jī)?nèi)側(cè)并設(shè)有加熱裝置；所述坩堝更換裝置包括伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)與所述主腔體的底面連接且處于所述主腔體的內(nèi)部空間內(nèi)。

進(jìn)一步地，所述儲(chǔ)備腔體開設(shè)有一開口及與所述開口相對(duì)應(yīng)的開關(guān)門，所述開口及所述開關(guān)門位于所述主腔體內(nèi)部空間外，所述儲(chǔ)備腔體與所述抽真空裝置連接。

進(jìn)一步地，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)包括第一端和第二端，所述第一端與所述主腔體的底面連接且處于所述主腔體的內(nèi)部空間內(nèi)，所述第二端設(shè)有電磁鐵/夾持裝置，用于吊裝/夾持坩堝實(shí)現(xiàn)坩堝位置的轉(zhuǎn)移。

進(jìn)一步地，所述主腔體為圓柱形且包括多個(gè)所述蒸發(fā)位，所述蒸發(fā)位沿所述主腔體底部?jī)?nèi)側(cè)底面下沉并圍繞所述主腔體軸心線均勻分布，形成多個(gè)蒸發(fā)腔體，多個(gè)所述儲(chǔ)備腔體圍繞所述主腔體軸心線均勻分布且所述儲(chǔ)備腔體頂面與所述主腔體底面連接，且在連接處設(shè)有所述第一通孔，使所述儲(chǔ)備腔體與所述主腔體的內(nèi)部空間連通。

優(yōu)選地，所述開口及所述開關(guān)門位于所述儲(chǔ)備腔體側(cè)壁，多個(gè)所述儲(chǔ)備腔體形成的環(huán)位于多個(gè)所述蒸發(fā)位形成的環(huán)內(nèi)。

本發(fā)明還提供了一種坩堝，所述坩堝與上述任意一項(xiàng)所述的蒸鍍?cè)O(shè)備相配合，所述坩堝設(shè)有被所述坩堝更換裝置吊裝/夾持的吊裝固定件。

進(jìn)一步地，所述吊裝固定件為磁性金屬環(huán)，所述坩堝包括坩堝本體，所述坩堝本體頂部設(shè)有一開口，所述磁性金屬環(huán)一端內(nèi)嵌在所述坩堝本體頂部，并與所述坩堝本體過(guò)盈配合連接或者粘接；

和/或所述吊裝固定件為與所述坩堝本體一體成型的并設(shè)在所述坩堝本體外周的環(huán)狀限位槽。

本發(fā)明還提供了一種蒸鍍方法，該蒸鍍方法采用上述任意一項(xiàng)蒸鍍?cè)O(shè)備及與蒸鍍?cè)O(shè)備相配合的坩堝，所述蒸鍍方法包括：

轉(zhuǎn)移步驟：所述坩堝內(nèi)材料耗盡時(shí)，所述控制裝置驅(qū)動(dòng)所述坩堝更換裝置，將蒸鍍過(guò)的所述坩堝轉(zhuǎn)移至所述儲(chǔ)備腔體內(nèi)，并從所述儲(chǔ)備腔體內(nèi)取出一備用的所述坩堝，將備用的所述坩堝轉(zhuǎn)移至所述蒸發(fā)位。

進(jìn)一步地，所述儲(chǔ)備腔體開設(shè)有開口及與所述開口相對(duì)應(yīng)的開關(guān)門，所述轉(zhuǎn)移步驟之后，還包括：

更換步驟：所述控制裝置控制所述隔離密封件關(guān)閉所述第一通孔，對(duì)所述儲(chǔ)備腔體充氣，打開所述儲(chǔ)備腔體的所述開關(guān)門，取出蒸鍍過(guò)的所述坩堝，將備用的所述坩堝放回所述儲(chǔ)備腔體內(nèi)，關(guān)閉所述開關(guān)門，對(duì)所述儲(chǔ)備腔體抽真空至預(yù)設(shè)真空度。

優(yōu)選地，所述坩堝更換裝置包括所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)包括第一端和設(shè)有吊裝固定件的第二端，所述吊裝固定件為電磁鐵/夾持裝置，所述坩堝頂部設(shè)有磁性金屬環(huán)和/或所述坩堝外周設(shè)有環(huán)狀限位槽，所述轉(zhuǎn)移步驟之中，還包括：

位置調(diào)整步驟：所述控制裝置控制所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)，使所述第二端旋轉(zhuǎn)至放置在所述蒸發(fā)位上且已經(jīng)被蒸鍍過(guò)的所述坩堝的角度，所述控制裝置控制第二端至蒸鍍過(guò)的所述坩堝的上方；

吊裝/夾持步驟：所述控制裝置控制所述第二端的所述電磁鐵與所述磁性金屬環(huán)接觸，開啟電磁鐵吸住蒸鍍過(guò)的所述坩堝；或者所述控制裝置控制所述第二端的所述夾持裝置到預(yù)設(shè)高度，所述夾持裝置夾住蒸鍍過(guò)的所述坩堝；

放置步驟：所述控制裝置控制所述隔離密封件使所述第一通孔處于開啟的狀態(tài)，將蒸鍍過(guò)的所述坩堝放置在所述儲(chǔ)備腔體內(nèi)，并從所述儲(chǔ)備腔體中取出一備用的所述坩堝轉(zhuǎn)移至所述蒸發(fā)位。

相比現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的方案具有以下優(yōu)點(diǎn)：

1、本發(fā)明的蒸鍍?cè)O(shè)備，包括主腔體、儲(chǔ)備腔體、蒸發(fā)位，在主腔體和儲(chǔ)備腔體連通的第一通孔處設(shè)置有一隔離密封件，隔離密封件關(guān)閉第一通孔時(shí)，使主腔體和儲(chǔ)備腔體的分別保持各自的環(huán)境狀態(tài)，其中主腔體與抽真空裝置連接，蒸鍍前，抽真空裝置對(duì)主腔體抽真空到預(yù)設(shè)真空度，隔離密封件使主腔體抽真空過(guò)程只對(duì)主腔體進(jìn)行抽真空，提高了主腔體抽真空的效率；特別針對(duì)在更換儲(chǔ)備腔體中的備用坩堝時(shí)，隔離密封件關(guān)閉第一通孔時(shí)，主腔體中可維持蒸鍍時(shí)的真空狀態(tài)，使儲(chǔ)備腔體的真空環(huán)境對(duì)主腔體不造成污染，避免了破壞主腔體真空度的情況下更換備用坩堝中的蒸鍍材料。

2、本發(fā)明的蒸鍍?cè)O(shè)備，儲(chǔ)備腔體開設(shè)有一開口及與所述開口相對(duì)應(yīng)的開關(guān)門，開口及開關(guān)門位于主腔體內(nèi)部空間外，方便了對(duì)儲(chǔ)備腔體中備用坩堝的更換，且儲(chǔ)備腔體還與抽真空裝置連接，實(shí)現(xiàn)在更換完儲(chǔ)備腔體中的坩堝后，對(duì)儲(chǔ)備腔體進(jìn)行抽真空，提高生產(chǎn)效率。

3、本發(fā)明的蒸鍍?cè)O(shè)備，還包括了一坩堝更換裝置，坩堝更換裝置包括了伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)，伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)位于主腔體內(nèi)部，方便在主腔體內(nèi)更換蒸發(fā)位和儲(chǔ)備腔體之間的坩堝，伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)末端設(shè)有吊裝/夾持裝置，吊裝/夾持裝置實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化的快速的更換蒸發(fā)位和儲(chǔ)備腔體之間的坩堝，且在不工作時(shí)，伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)可縮短至旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)的與主腔體的連接端，以避免對(duì)蒸鍍流造成干擾，吊裝夾持裝置為電磁鐵/夾持裝置，電磁鐵可通過(guò)磁性便可實(shí)現(xiàn)吊裝坩堝，使取放坩堝過(guò)程更簡(jiǎn)單，夾持裝置可使取放坩堝過(guò)程中更為穩(wěn)固。

4、本發(fā)明的蒸鍍?cè)O(shè)備，儲(chǔ)備腔體位于主腔體外側(cè)，在儲(chǔ)備腔體頂部與主腔體連接并開設(shè)第一通孔，蒸發(fā)位沿主腔體底面下層，使蒸發(fā)位和儲(chǔ)備腔體不會(huì)干擾蒸鍍時(shí)的熱流，且也有利于坩堝能平穩(wěn)的放置在蒸發(fā)位和儲(chǔ)備腔體中，在主腔體中設(shè)有多個(gè)蒸發(fā)位和多個(gè)儲(chǔ)備腔體，多個(gè)蒸發(fā)位和多個(gè)儲(chǔ)備腔體圍繞所述主腔體軸心線均勻分布，便于預(yù)設(shè)置伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)在儲(chǔ)備腔體中需要調(diào)整的角度和伸長(zhǎng)度，也有利于一次對(duì)多個(gè)坩堝進(jìn)行蒸鍍，在儲(chǔ)備腔體中也可放置多個(gè)備用坩堝，避免多次破真空更換儲(chǔ)備腔體中的備用坩堝，節(jié)約了oled的制作時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率。

5、本發(fā)明的蒸鍍?cè)O(shè)備，開口及開關(guān)門設(shè)置在儲(chǔ)備腔體的側(cè)壁，便于通過(guò)其他裝置或者手取放坩堝，主腔體設(shè)有多個(gè)蒸發(fā)位，在多個(gè)蒸發(fā)位形成的環(huán)內(nèi)包括了多個(gè)儲(chǔ)備腔體，多個(gè)儲(chǔ)備腔體形成環(huán)形，伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)設(shè)置在主腔體中間，在更換蒸發(fā)位和儲(chǔ)備腔體之間的坩堝時(shí)，只需要一個(gè)伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)便可實(shí)現(xiàn)更換，也便于在蒸發(fā)位和儲(chǔ)備腔體間轉(zhuǎn)移坩堝。

6、本發(fā)明提供了一種和蒸鍍?cè)O(shè)備相配合坩堝，坩堝頂部設(shè)有磁性金屬環(huán)，便于電磁鐵吸附坩堝，實(shí)現(xiàn)坩堝的轉(zhuǎn)移，和/或在坩堝本體外側(cè)設(shè)置與夾持裝置相配合的環(huán)狀限位槽，使坩堝能穩(wěn)固的被夾持裝置夾持。

7、本發(fā)明提供了一種采用上述蒸鍍?cè)O(shè)備和坩堝的蒸鍍方法，該方法在使用上述蒸鍍?cè)O(shè)備和坩堝情況下，保證了在不破壞主腔體真空度的情況實(shí)現(xiàn)儲(chǔ)備腔體中備用坩堝的更換，保護(hù)了主腔體中的真空環(huán)境，避免了破蒸鍍腔室真空環(huán)境帶來(lái)的水氧污染問(wèn)題，同時(shí)節(jié)約了轉(zhuǎn)移坩堝的時(shí)間，實(shí)現(xiàn)了簡(jiǎn)單高效的轉(zhuǎn)移坩堝。

本發(fā)明附加的方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，這些將從下面的描述中變得明顯，或通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐了解到。

附圖說(shuō)明

本發(fā)明上述的和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從下面結(jié)合附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1為本發(fā)明的一種蒸鍍?cè)O(shè)備的示意圖；

圖2為本發(fā)明的一種蒸鍍?cè)O(shè)備的一種實(shí)施方式的俯視圖，主要示出了儲(chǔ)備腔體為扇環(huán)形且儲(chǔ)備腔體為連續(xù)設(shè)置；

圖3為本發(fā)明的一種蒸鍍?cè)O(shè)備的另一種實(shí)施方式的俯視圖，主要示出了儲(chǔ)備腔體為扇環(huán)形且儲(chǔ)備腔體間設(shè)置有一段間距；

圖4為本發(fā)明的一種坩堝的一種實(shí)施方式的俯視圖；

圖5為本發(fā)明的一種坩堝的一種實(shí)施方式的主視圖，主要示出了磁性金屬環(huán)與坩堝本體的相對(duì)位置；

圖6為本發(fā)明的一種坩堝的另一種實(shí)施方式的主視圖，主要示出了磁性金屬環(huán)與坩堝本體的相對(duì)位置以及環(huán)形限位槽在坩堝本體上的位置和形狀。

具體實(shí)施方式

下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能解釋為對(duì)本發(fā)明的限制。

如圖1所示，本發(fā)明提供的一種蒸鍍?cè)O(shè)備1000，包括主腔體1、與所述主腔體1連接的抽真空裝置(未標(biāo)號(hào)，下同)、控制裝置(未標(biāo)號(hào)，下同)及至少一個(gè)蒸發(fā)位11，所述主腔體1單獨(dú)與抽真空裝置，便于抽真空裝置對(duì)主腔體1進(jìn)行抽真空，還包括至少一個(gè)儲(chǔ)備腔體2、能夠受所述控制裝置控制而吊裝/夾持坩堝并使所述坩堝3在所述蒸發(fā)位11與儲(chǔ)備腔體2之間進(jìn)行轉(zhuǎn)移的坩堝更換裝置4，例如，在進(jìn)行蒸鍍前，儲(chǔ)備腔體2用于在其中儲(chǔ)備用于蒸鍍的備用坩堝3，其中，在所述蒸發(fā)位11放置有用于蒸鍍的坩堝，蒸發(fā)位11上的坩堝3蒸鍍完成后，蒸發(fā)位11上的坩堝3可與儲(chǔ)備腔體2中的備用坩堝3交換，將蒸發(fā)位11上蒸鍍過(guò)的坩堝放置到儲(chǔ)備腔體2中，儲(chǔ)備腔體2中的坩堝放置到蒸發(fā)位11上，并對(duì)蒸發(fā)位11上新?lián)Q的坩堝進(jìn)行蒸鍍，以此來(lái)提高生產(chǎn)oled的制作效率，縮短生產(chǎn)時(shí)間。

如圖1和圖2所示，所述儲(chǔ)備腔體2通過(guò)第一通孔12與所述主腔體1的內(nèi)部空間連通，第一通孔12使所述儲(chǔ)備腔體2和所述主腔體1能夠能連通，有利于將坩堝3從所述主腔體1中轉(zhuǎn)移進(jìn)入所述儲(chǔ)備腔體2中，或者有利于將坩堝3從儲(chǔ)備腔體2中轉(zhuǎn)移至所述主腔體1中，所述第一通孔12處設(shè)有能夠受所述控制裝置控制而移位以使所述第一通孔12改變通閉狀態(tài)的隔離密封件5，例如，所述隔離密封件5關(guān)閉所述第一通孔12時(shí)，所述主腔體1和所述儲(chǔ)備腔體2的內(nèi)部空間被隔斷，所述主腔體1和所述儲(chǔ)備腔體2可以各自保持各自的環(huán)境狀態(tài)，有利于所述主腔體1保持有利于蒸鍍的真空環(huán)境狀態(tài)，所述主腔體1的真空環(huán)境狀態(tài)不被所述儲(chǔ)備腔體2環(huán)境狀態(tài)污染，所述隔離密封件5移離所述第一通孔12位置處，所述第一通孔12為打開狀態(tài)，所述儲(chǔ)備腔體2和所述主腔體1處于連通狀態(tài)，此時(shí)可以對(duì)所述主腔體1中的坩堝3和所述儲(chǔ)備腔體2中的坩堝3進(jìn)行更換，所述蒸發(fā)位11位于所述主腔體1的底部?jī)?nèi)側(cè)并設(shè)有加熱裝置(未標(biāo)號(hào)，下同)，所述蒸發(fā)位11設(shè)置加熱裝置，所述加熱裝置為加熱絲，且在整個(gè)所述蒸發(fā)位11設(shè)置有加熱絲，實(shí)現(xiàn)對(duì)坩堝3的加熱，并可使所述主腔體1內(nèi)部的溫度由底部逐漸往主腔體1內(nèi)部空間的上部擴(kuò)散，從而形成對(duì)流，縮短加熱和蒸鍍的時(shí)間，提高所述主腔體1內(nèi)部的溫度；所述坩堝更換裝置4包括伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41與所述主腔體1的底面連接且處于所述主腔體1的內(nèi)部空間內(nèi)，伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41主要配合前述蒸發(fā)位11、儲(chǔ)備腔體2和坩堝3進(jìn)行使用，設(shè)置在所述主腔體1的內(nèi)部，有利于在儲(chǔ)備腔體2和所述主腔體1的環(huán)境狀態(tài)一致時(shí)，避免人為的多次破壞所述主腔體1中的真空環(huán)境，實(shí)現(xiàn)更換所述蒸發(fā)位11和所述儲(chǔ)備腔體2之間坩堝3，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41為機(jī)械臂。

在其中一種實(shí)施方式中，所述機(jī)械臂為伸縮式機(jī)械臂，伸縮式機(jī)械臂的臂長(zhǎng)為單一方向的調(diào)節(jié)，例如，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41為伸縮式機(jī)械臂時(shí)，其中伸縮式機(jī)械臂的一端與所述主腔體1的控制裝置的連接機(jī)構(gòu)42連接，另一端用于在轉(zhuǎn)移所述坩堝3時(shí)與所述坩堝3連接，在轉(zhuǎn)移所述坩堝3時(shí)，所述控制裝置控制所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41的一端為基點(diǎn)，沿其軸向的另一端伸長(zhǎng)伸縮式機(jī)械臂，以此改變伸縮式機(jī)械臂另一端在所述主腔體1中的位置，伸長(zhǎng)伸縮式機(jī)械臂的臂長(zhǎng)延伸至預(yù)設(shè)長(zhǎng)度時(shí)，伸縮式機(jī)械臂以一端連接機(jī)構(gòu)42為基點(diǎn)，所述控制裝置控制所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41旋轉(zhuǎn)，即所述控制裝置控制伸縮式機(jī)械臂繞連接機(jī)構(gòu)42旋轉(zhuǎn)，并帶動(dòng)伸縮式機(jī)械臂另一端旋轉(zhuǎn)至將要被更換的所述坩堝3的位置，以此實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化的調(diào)整所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41的位置，所述另一端配合后述的固定件，實(shí)現(xiàn)所述坩堝位置的轉(zhuǎn)移，且伸縮式機(jī)械臂在不使用時(shí)可縮短至連接機(jī)構(gòu)42處，連接機(jī)構(gòu)42縮短自身沿軸向的距離，帶動(dòng)伸縮式機(jī)械臂更靠近主腔體的壁面，避免在蒸鍍過(guò)程中對(duì)蒸鍍氣流造成干擾。

在另一種實(shí)施方式中，所述機(jī)械臂為多段式機(jī)械臂，多段式機(jī)械臂的臂段數(shù)量大于等于2，第一段機(jī)械臂的首端與所述主腔體1內(nèi)部的控制裝置的連接機(jī)構(gòu)42連接，末段機(jī)械臂與中間段機(jī)械臂連接，中間段機(jī)械臂可以相鄰兩段機(jī)械臂首尾連接，也可以是一段的首端連接在相鄰段機(jī)械臂的中間位置，末段機(jī)械臂的末端用于在轉(zhuǎn)移所述坩堝3時(shí)與所述坩堝3連接，在控制裝置的作用下，連接機(jī)構(gòu)42在控制裝置的控制下可實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)的作用，并帶動(dòng)機(jī)械臂旋轉(zhuǎn)，使機(jī)械臂可達(dá)到將被移動(dòng)的所述坩堝3的角度，再以各段機(jī)械臂的連接點(diǎn)為基點(diǎn)，調(diào)整相鄰段機(jī)械臂的夾角，使得末段機(jī)械臂的末端位于將被移動(dòng)的所述坩堝3的上方，末段機(jī)械臂末端配合后述的固定件，實(shí)現(xiàn)所述坩堝位置的轉(zhuǎn)移，在不使用時(shí)，在控制裝置的作用下，縮短連接機(jī)構(gòu)42的軸向長(zhǎng)度，使機(jī)械臂更靠近主腔體1的壁面，同樣可避免在蒸鍍過(guò)程中對(duì)蒸鍍氣流造成干擾。

進(jìn)一步地，如圖1所示，所述儲(chǔ)備腔體2開設(shè)有一開口21及與所述開口21相對(duì)應(yīng)的開關(guān)門22，所述開口21及所述開關(guān)門22位于所述主腔體1內(nèi)部空間外，所述開口21和所述開關(guān)門22主要用于更換儲(chǔ)備腔體2中的備用坩堝3，所述儲(chǔ)備腔體2與所述抽真空裝置連接，例如，在更換儲(chǔ)備腔體2中的備用坩堝的過(guò)程中，所述隔離密封件5關(guān)閉密封了所述第一通孔12，對(duì)儲(chǔ)備腔體2充氣，此時(shí)，儲(chǔ)備腔體2中的真空環(huán)境將會(huì)被破壞，且在打開或者關(guān)閉所述開口21處的開關(guān)門22時(shí)，外界的空氣環(huán)境也將會(huì)進(jìn)入所述儲(chǔ)備腔體2中，儲(chǔ)備腔體2的環(huán)境被污染，儲(chǔ)備腔體與抽真空裝置通過(guò)另設(shè)的閥門實(shí)現(xiàn)連接，可在更換完成備用坩堝3，所述開口21處的開關(guān)門22關(guān)閉后，抽真空裝置可單獨(dú)對(duì)儲(chǔ)備腔體2進(jìn)行抽真空至預(yù)設(shè)真空度，在更換坩堝3和抽真空過(guò)程中，第一通孔12被所述隔離密封件5關(guān)閉，使主腔體1中的真空環(huán)境不會(huì)因?yàn)閮?chǔ)備腔體2中真空環(huán)境的變化而遭到破壞，所述儲(chǔ)備腔體2中抽真空至預(yù)設(shè)真空度時(shí)，可將所述隔離密封件5移位，所述第一通孔12處于打開狀態(tài)，并對(duì)蒸發(fā)位11上的所述坩堝3和所述儲(chǔ)備腔體2中的備用所述坩堝進(jìn)行更換，此時(shí)儲(chǔ)備腔體2與主腔體1的真空環(huán)境一致，儲(chǔ)備腔體2的真空環(huán)境也不會(huì)對(duì)主腔體1的真空環(huán)境造成污染。

進(jìn)一步地，如圖1所示，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41包括第一端411和第二端412，在其中一種實(shí)施方式中，所述第一端411為前述伸縮式機(jī)械臂的一端，所述第二端412為前述伸縮式機(jī)械臂的另一端，在另一種實(shí)施方式中，所述第一端411為前述多段式機(jī)械臂的第一段機(jī)械臂的首端，所述第二端412為前述多段式機(jī)械臂的末段的末端，所述第一端411與所述主腔體1的連接機(jī)構(gòu)42連接且處于所述主腔體1的內(nèi)部空間內(nèi)，所述第二端412設(shè)有電磁鐵6/夾持裝置(未示出)，用于吊裝/夾持坩堝3實(shí)現(xiàn)坩堝6位置的轉(zhuǎn)移，為了能正常使用以及在蒸鍍過(guò)程中所述電磁鐵6和所述夾持裝置的物理和化學(xué)結(jié)構(gòu)不發(fā)生變化，所述電磁鐵6和所述夾持裝置均采用的是耐高溫材質(zhì)；例如，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41位于所述主腔體1的內(nèi)部，第一端411與所述主腔體1的連接機(jī)構(gòu)42連接，主要作用在于為伸縮、升降或旋轉(zhuǎn)所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41提供一個(gè)支撐點(diǎn)，便于所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41轉(zhuǎn)移所述坩堝3，在其中一種實(shí)施方式中，所述第二端412設(shè)有所述電磁鐵6，所述電磁鐵6配合后續(xù)的所述坩堝3一起使用，所述坩堝3設(shè)有磁性金屬，所述電磁鐵6通電時(shí)，所述電磁鐵6產(chǎn)生磁性，所述磁性金屬環(huán)7受到所述電磁鐵6磁性的吸附作用，并被所述電磁鐵6吸附，并帶動(dòng)吊裝起所述坩堝3，所述電磁鐵6斷電時(shí)，所述電磁鐵6的磁性便消失，便可放下所述坩堝3，所述電磁鐵6持續(xù)通電，所述電磁鐵6就將產(chǎn)生持續(xù)的磁性，便可實(shí)現(xiàn)所述坩堝3從所述蒸發(fā)位11轉(zhuǎn)移至所述儲(chǔ)備腔體2，或者將所述儲(chǔ)備腔體2中的所述坩堝3轉(zhuǎn)移至所述蒸發(fā)位11，所述電磁鐵6將所述坩堝3放置穩(wěn)定后，所述電磁鐵6斷電，所述電磁鐵6的磁性消失，便不會(huì)對(duì)所述坩堝3上設(shè)置的磁性金屬產(chǎn)生吸附力，以此實(shí)現(xiàn)所述坩堝3位置的轉(zhuǎn)移。

在另一種實(shí)施方式中，所述第二端412設(shè)有夾持裝置，所述夾持裝置配合后續(xù)的所述坩堝3一起使用，所述坩堝3設(shè)有與所述夾持裝置配合使用的有利于所述夾持裝置穩(wěn)固夾持的固定件(未標(biāo)號(hào)，下同)，所述夾持裝置位置移動(dòng)到預(yù)設(shè)位置，所述預(yù)設(shè)位置為所述坩堝3上設(shè)置的固定件處，所述夾持裝置便可夾持所述坩堝3，將所述坩堝3從所述蒸發(fā)位11轉(zhuǎn)移至所述儲(chǔ)備腔體2，或者將所述儲(chǔ)備腔體2中的所述坩堝3轉(zhuǎn)移至所述蒸發(fā)位11，實(shí)現(xiàn)所述坩堝3位置的轉(zhuǎn)移。

在其他實(shí)施方式中，所述第二端412同時(shí)設(shè)有所述電磁鐵6和夾持裝置，兩者配合使用，共同保證轉(zhuǎn)移所述坩堝3過(guò)程中的穩(wěn)定性。

進(jìn)一步地，如圖1和圖2所示，所述主腔體1為圓柱形且包括多個(gè)所述蒸發(fā)位11，所述蒸發(fā)位11沿所述主腔體1底部?jī)?nèi)側(cè)底面下沉并圍繞所述主腔體1軸心線均勻分布，形成多個(gè)蒸發(fā)腔體111，多個(gè)所述儲(chǔ)備腔體2圍繞所述主腔體1軸心線均勻分布且所述儲(chǔ)備腔體2頂面與所述主腔體1底面連接，且在連接處設(shè)有所述第一通孔12，使所述儲(chǔ)備腔體2與所述主腔體1的內(nèi)部空間連通，所述主腔體1設(shè)置為圓柱形，便于將多個(gè)所述蒸發(fā)位11和所述儲(chǔ)備腔體2均勻分布在所述主腔體1的底面，使所述儲(chǔ)備腔體2和所述蒸發(fā)位11可以相互對(duì)應(yīng)，所述儲(chǔ)備腔體2的頂面與所述主腔體1的底面連接，所述蒸發(fā)位11沿所述主腔體1底部?jī)?nèi)側(cè)底面下沉，避免對(duì)蒸鍍時(shí)的熱流造成干擾。

例如，所述蒸發(fā)位11設(shè)置有加熱裝置，所述加熱裝置設(shè)置在所述蒸發(fā)腔體111的壁面和底面，以實(shí)現(xiàn)對(duì)所述坩堝體31和所述坩堝3頂部進(jìn)行加熱，避免了蒸發(fā)材料沉積在所述坩堝3的頂部，另外，所述加熱裝置產(chǎn)生熱量，使加熱裝置附近的氣流溫度升高，而遠(yuǎn)離加熱裝置的氣流溫度相對(duì)較低，溫度升高的氣流和溫度較低的氣流將相向運(yùn)動(dòng)而形成對(duì)流，由于在所述主腔體1內(nèi)部空間內(nèi)沒(méi)有其他結(jié)構(gòu)對(duì)氣流的流動(dòng)性造成干擾，使所述主腔體1中的溫度加熱效率高，溫度分布更為均勻，使所述蒸發(fā)位11處的加熱裝置產(chǎn)生的熱量可通過(guò)熱流的形式在主腔體1的內(nèi)部形成對(duì)流，使主腔體1內(nèi)部的溫度分布更為均勻，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41位于所述主腔體1底部的中央，且所述中央位置的底面沿所述主腔體1內(nèi)部空間的底面下沉，形成中央腔體13，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41的所述第一端411與所述中央腔體13底面的連接機(jī)構(gòu)42連接，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41在蒸鍍過(guò)程中，其可以縮短降低至所述主腔體1的底部，同樣可以降低了對(duì)蒸鍍氣流的干擾。

多個(gè)所述蒸發(fā)位11可以一次性對(duì)多個(gè)所述坩堝3進(jìn)行蒸鍍，多個(gè)儲(chǔ)備腔體可一次性存放多個(gè)備用的所述坩堝3，所述儲(chǔ)備腔體2頂面與所述主腔體1的連接處開設(shè)所述第一通孔12，并配合所述第一通孔12設(shè)置了所述隔離密封件5，所述隔離密封件5與所述第一通孔12的大小和形狀相匹配，以實(shí)現(xiàn)隔離密封的作用。

進(jìn)一步的，如圖1所示，所述儲(chǔ)備腔體2中設(shè)置有托盤23，托盤23用于放置所述坩堝3，且在所述托盤23的下方設(shè)置有受所述控制裝置連接的傳送裝置24，使得所述坩堝3在所述傳送裝置24的作用下，可將其傳送到所述開口21處，或者將其傳送到所述第一通孔12處，例如，所述儲(chǔ)備腔體2中的傳送裝置24傳送所述坩堝3至所述第一通孔12處，在所述蒸發(fā)位11上的坩堝3蒸鍍結(jié)束時(shí)，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41的第二端412吊裝/夾持上所述蒸發(fā)位11上的所述坩堝3，并在控制裝置的作用下，將所述坩堝3轉(zhuǎn)移至所述第一通孔12上方，所述控制裝置控制所述隔離密封件5，使得所述隔離密封件5在所述主腔體1的內(nèi)部可沿所述第一通孔12的軸心線方向遠(yuǎn)離所述第一通孔12，所述控制裝置再次控制所述隔離密封件5沿所述第一通孔12的徑向方向遠(yuǎn)離所述第一通孔12，使所述第一通孔12可不被所述隔離密封件5遮擋，所述控制裝置控制所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41的第二端412將吊裝/夾持所述坩堝3放置到所述儲(chǔ)備腔體2中的托盤23上，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41的第二端412吊裝/夾持備用的所述坩堝3至所述蒸發(fā)位11，所述控制裝置控制所述隔離密封件5至所述第一通孔12處，并關(guān)閉所述第一通孔12；在更換所述儲(chǔ)備腔體2中的備用的所述坩堝3時(shí)，所述傳送裝置24下降，將所述坩堝3傳送至所述開口21處，使得在打開所述開關(guān)門22時(shí)，可從所述儲(chǔ)備腔體中取出所述坩堝3。

在其他實(shí)施方式中，所述坩堝3通過(guò)所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41傳送至所述開口21處。

在其中一種實(shí)施方式中，所述第一通孔12的大小與單一的所述坩堝3的外徑相匹配，使得所述坩堝3在所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41的作用下，可順利的通過(guò)所述第一通孔12，所述第一通孔12的形狀與所述坩堝3的形狀相匹配。

在另一種實(shí)施方式中，所述第一通孔12的大小與所述儲(chǔ)備腔體2和所述主腔體1接觸面的大小相匹配，使得在進(jìn)行坩堝轉(zhuǎn)移時(shí)，可一次從一個(gè)所述儲(chǔ)備腔體2中更換多個(gè)所述蒸發(fā)位11的所述坩堝3，所述第一通孔12的形狀為接觸面的形狀。

在又一種實(shí)施方式中，所述第一通孔12的大小與多個(gè)所述坩堝3的外徑相匹配，同樣可實(shí)現(xiàn)一次從一個(gè)所述儲(chǔ)備腔體2中更換多個(gè)所述蒸發(fā)位11的所述坩堝3，并使單個(gè)的所述坩堝3能順利的通過(guò)所述第一通孔12，所述第一通孔12的形狀可以為圓形或者長(zhǎng)方形。

優(yōu)選地，所述開口21及所述開關(guān)門22位于所述儲(chǔ)備腔體2側(cè)壁，便于打開所述開關(guān)門22時(shí)，可觀察所述坩堝3，也便于更換所述儲(chǔ)備腔體2中的所述坩堝3，所述開關(guān)門22設(shè)置有橡膠密封圈，用于關(guān)閉所述開關(guān)門22時(shí)，所述儲(chǔ)備腔體2可實(shí)現(xiàn)密封的作用，多個(gè)所述儲(chǔ)備腔體2形成的環(huán)位于多個(gè)所述蒸發(fā)位11形成的環(huán)內(nèi)，即所述蒸發(fā)位11位于所述儲(chǔ)備腔體2外側(cè)，在進(jìn)行蒸鍍時(shí)，使得所述主腔體1壁內(nèi)側(cè)氣流由于導(dǎo)熱作用而降低的溫度可被加熱裝置快速的加熱升溫，同時(shí)所述主腔體1內(nèi)部熱流流通更為均勻，主腔體1內(nèi)部的溫度分布更為均勻。

在一種實(shí)施方式中，如圖2所示，所述儲(chǔ)備腔體2為3個(gè)獨(dú)立的腔體，且為扇環(huán)形，并分別與抽真空裝置連接，一個(gè)所述儲(chǔ)備腔體2中可放置6個(gè)所述備用坩堝，所述蒸發(fā)位11在所述儲(chǔ)備腔體外側(cè)均勻分布設(shè)置有6個(gè)，使得一個(gè)所述儲(chǔ)備腔體2可以對(duì)應(yīng)兩個(gè)所述蒸發(fā)位11，在進(jìn)行蒸鍍前，所述主腔體1的蒸發(fā)位11可放置6個(gè)用于蒸鍍的所述坩堝3，所述儲(chǔ)備腔體2中可放置18個(gè)備用的所述坩堝3，使一次抽真空可對(duì)24個(gè)坩堝進(jìn)行蒸鍍，避免了因單個(gè)坩堝填料量有限，而需頻繁破蒸鍍腔室真空環(huán)境進(jìn)行坩堝更換或添加源材料，進(jìn)而耽誤制作時(shí)間的問(wèn)題，以及頻繁破蒸鍍腔室真空環(huán)境帶來(lái)的水氧污染問(wèn)題，提高了生產(chǎn)制作oled的效率。

進(jìn)一步的，所述儲(chǔ)備腔體2可根據(jù)設(shè)計(jì)需要再次劃分為n個(gè)儲(chǔ)備腔體2，例如n＝3～6，并分別與抽真空裝置連接。

如圖3所示，在另一種實(shí)施方式中，相鄰所述儲(chǔ)備腔體2之間可設(shè)置一定間距，有利于保證各儲(chǔ)備腔體2的密封性能，且在提高儲(chǔ)備腔體2抽真空的效率。

在其他的實(shí)施方式中，所述主腔體1的形狀可以為長(zhǎng)方形或者正方形，所述儲(chǔ)備腔體2可以是側(cè)壁與所述主腔體1的側(cè)壁連接，且在連接處開設(shè)所述第一通孔12，在所述第一通孔12處設(shè)置所述隔離密封件5，且所述隔離密封件5與所述第一通孔12的大小和形狀相匹配，以實(shí)現(xiàn)隔離密封的作用，所述蒸發(fā)位11位于所述主腔體1內(nèi)部底面且圍繞所述主腔體1底面的軸心線均勻分布并下沉，所述蒸發(fā)位11設(shè)置有所述加熱裝置，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41位于所述主腔體1底部的中央，且所述中央位置的底面沿所述主腔體1內(nèi)部空間的底面下沉，形成中央腔體13，所述主腔體1與所述儲(chǔ)備腔體2分別與所述抽真空裝置連接，以實(shí)現(xiàn)單獨(dú)對(duì)所述主腔體1與所述儲(chǔ)備腔體2抽真空，所述第一通孔12的大小為接觸處面的大小時(shí)，所述第一通孔12的形狀為接觸面的形狀，所述第一通孔12的大小為小于接觸面的外徑，且可以示出多個(gè)所述坩堝3時(shí)，所述第一通孔12的形狀可以為長(zhǎng)方形、圓形、正方形或長(zhǎng)橢圓形。

所述儲(chǔ)備腔體2可為圓形、長(zhǎng)方形或者正方形，進(jìn)一步的，所述儲(chǔ)備腔體2可以設(shè)置在所述主腔體1軸心線的一側(cè)，且所述儲(chǔ)備腔體2在所述主腔體1的內(nèi)部空間外，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41可設(shè)置在所述主腔體1軸心線的另一側(cè)，且所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41設(shè)置在所述主腔體1的內(nèi)部空間內(nèi)。

如圖4至圖6所示，本發(fā)明還提供了一種坩堝3，所述坩堝3與上述任意一項(xiàng)所述的蒸鍍?cè)O(shè)備1000相配合，所述坩堝3設(shè)有被所述坩堝更換裝置4吊裝/夾持的吊裝固定件，所述固定件與所述坩堝更換裝置4配合使用，實(shí)現(xiàn)便捷快速的轉(zhuǎn)移所述坩堝3的作用，具體的，所述坩堝3與所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41配合使用。

進(jìn)一步地，在一種實(shí)施方式中，如圖4和圖5，所述吊裝固定件為磁性金屬環(huán)7，所述磁性金屬環(huán)7主要與前述所述電磁鐵6配合使用，使得所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41在通電時(shí)可吸附所述磁性金屬環(huán)7，所述坩堝3包括坩堝本體31，所述坩堝本體31頂部設(shè)有一開口，所述磁性金屬環(huán)7一端內(nèi)嵌在所述坩堝本體31頂部，便于所述電磁鐵6產(chǎn)生磁性時(shí)，所述磁性金屬環(huán)7受到均勻的吸附力，使得所述坩堝3也受到均勻的吊裝力，所述坩堝3在被吸附時(shí)，不會(huì)發(fā)生歪斜或者傾倒，并所述磁性金屬環(huán)7與所述坩堝本體31過(guò)盈配合連接或者粘接，粘接為耐高溫粘接材料將所述磁性環(huán)7和所述坩堝本體31粘接在一起，在吊裝過(guò)程中，過(guò)盈配合連接或者粘接使所述坩堝本體31不會(huì)和所述磁性金屬環(huán)7發(fā)生脫離的現(xiàn)象，為了能正常的使用以及在蒸鍍過(guò)程中所述磁性金屬環(huán)7的化學(xué)結(jié)構(gòu)不發(fā)生變化，所述磁性金屬環(huán)7為耐高溫材質(zhì)。

在另一種實(shí)施方式中，如圖6所示，所述吊裝固定件為與所述坩堝本體31一體成型的并設(shè)在所述坩堝本體31外周環(huán)狀限位槽32，且在所述坩堝本體31頂部設(shè)置有前述的所述磁性金屬環(huán)7，降低了外界因素對(duì)夾持穩(wěn)定性的影響，例如，在轉(zhuǎn)移所述坩堝3時(shí)，所述坩堝3的所述磁性金屬環(huán)7被所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41的所述電磁鐵6吸附住，在將所述坩堝3移離所述蒸發(fā)位11/移離所述第一通孔12過(guò)程中，所述環(huán)狀限位槽32裸露在所述主腔體1中時(shí)，所述夾持裝置夾持在所述限位槽32中，在發(fā)生抖動(dòng)時(shí)，即使所述坩堝3遠(yuǎn)離所述磁性金屬環(huán)7，所述夾持裝置上方的所述坩堝本體31擋在所述夾持裝置外，使得所述坩堝3不會(huì)滑落，當(dāng)然，也可在所述坩堝3完全裸露在所述主腔體1中時(shí)，再用所述夾持裝置夾持所述坩堝3。優(yōu)選地，所述環(huán)狀限位槽32設(shè)置在所述坩堝本體31的中部，所述環(huán)狀限位槽32的底面可以為弧形。

在其他的實(shí)施方式中，所述環(huán)狀限位槽33也可設(shè)置在所述坩堝本體31的上部或者下部。

本發(fā)明還提供了一種蒸鍍方法，該蒸鍍方法采用上述任意一項(xiàng)蒸鍍?cè)O(shè)備1000及與蒸鍍?cè)O(shè)備1000相配合的坩堝3，所述蒸鍍方法包括：

轉(zhuǎn)移步驟：所述坩堝3內(nèi)材料耗盡時(shí)，所述控制裝置驅(qū)動(dòng)所述坩堝更換裝置4，將蒸鍍過(guò)的所述坩堝3轉(zhuǎn)移至所述儲(chǔ)備腔體2內(nèi)，并從所述儲(chǔ)備腔體2內(nèi)取出一備用的所述坩堝3，將備用的所述坩堝3轉(zhuǎn)移至所述蒸發(fā)位11。

進(jìn)一步地，所述儲(chǔ)備腔體2開設(shè)有開口21及與所述開口21相對(duì)應(yīng)的開關(guān)門22，所述轉(zhuǎn)移步驟之后，還包括：

更換步驟：所述控制裝置控制所述隔離密封件5關(guān)閉所述第一通孔12，對(duì)所述儲(chǔ)備腔體2充氣，打開所述儲(chǔ)備腔體2的所述開關(guān)門22，取出蒸鍍過(guò)的所述坩堝3，將備用的所述坩堝3放回所述儲(chǔ)備腔體2內(nèi)，關(guān)閉所述開關(guān)門22，對(duì)所述儲(chǔ)備腔體2抽真空至預(yù)設(shè)真空度。

優(yōu)選地，所述坩堝更換裝置4包括所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41，所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41包括第一端411和設(shè)有吊裝固定件的第二端412，所述吊裝固定件為電磁鐵/6夾持裝置，所述坩堝3頂部設(shè)有磁性金屬環(huán)7/所述坩堝外周設(shè)有環(huán)狀限位槽32，所述轉(zhuǎn)移步驟之中，還包括：

位置調(diào)整步驟：所述控制裝置控制所述伸縮升降式旋轉(zhuǎn)吊裝機(jī)構(gòu)41，使所述第二端412旋轉(zhuǎn)至放置在所述蒸發(fā)位11上且已經(jīng)被蒸鍍過(guò)的所述坩堝3的角度，所述控制裝置控制第二端412至蒸鍍過(guò)的所述坩堝3的上方；

吊裝/夾持步驟：所述控制裝置控制所述第二端412的所述電磁鐵6與所述磁性金屬環(huán)7接觸，開啟電磁鐵6吸住蒸鍍過(guò)的所述坩堝3；或者所述控制裝置控制所述第二端412的所述夾持裝置到預(yù)設(shè)高度，所述夾持裝置夾住蒸鍍過(guò)的所述坩堝3；

放置步驟：所述控制裝置控制所述隔離密封件5使所述第一通孔12處于開啟的狀態(tài)，將蒸鍍過(guò)的所述坩堝3放置在所述儲(chǔ)備腔體2內(nèi)，并從所述儲(chǔ)備腔體2中取出一備用的所述坩堝3轉(zhuǎn)移至所述蒸發(fā)位11。

以上所述僅是本發(fā)明的部分實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。