本發(fā)明涉及拋光設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種拋光液管路系統(tǒng)和上下盤(pán)研磨機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的拋光機(jī)，其拋光液是直接的送到研磨盤(pán)之間，其流速和流量均不易控制，拋光液在拋光過(guò)程中流向飛濺不可控。

基于此，本發(fā)明提供了一種拋光液管路系統(tǒng)和上下盤(pán)研磨機(jī)構(gòu)以解決上述的技術(shù)問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種拋光液管路系統(tǒng)，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的研磨機(jī)的拋光液輸送不易控制易迸濺的技術(shù)問(wèn)題。

本發(fā)明的目的還在于提供一種上下盤(pán)研磨機(jī)構(gòu),用于解決上述技術(shù)問(wèn)題。

基于上述第一目的，本發(fā)明提供了一種拋光液管路系統(tǒng)，包括供液裝置和拋光液儲(chǔ)存器，所述拋光液儲(chǔ)存器設(shè)置有環(huán)形的儲(chǔ)液槽；

所述供液裝置通過(guò)輸液管向所述儲(chǔ)液槽內(nèi)提供拋光液；

所述拋光液儲(chǔ)存器上還設(shè)置有與所述儲(chǔ)液槽連通的出液孔，通過(guò)所述出液孔向待冷卻裝置輸送拋光液。

可選的，所述供液裝置包括供液桶，所述供液桶通過(guò)輸液管向所述儲(chǔ)液槽內(nèi)提供拋光液。

通過(guò)供液桶來(lái)提供拋光液，一是成本低，而是可以可持續(xù)的供給大量拋光液。

可選的，所述輸液管上設(shè)置有恒壓智能閥，用于調(diào)控拋光液的輸送量和輸送周期。

通過(guò)恒壓智能閥，調(diào)節(jié)拋光液輸送的速度、輸液量和輸送周期，實(shí)現(xiàn)周期性、定量輸送拋光液，控制拋光液用量。

可選的，所述拋光液儲(chǔ)存器呈圓環(huán)形。

圓環(huán)形的拋光液儲(chǔ)存器便于加工。

可選的，沿所述拋光液儲(chǔ)存器的周向均勻的設(shè)置有多個(gè)出液孔。

均勻的設(shè)置多個(gè)出液孔，有利于供給足夠的拋光液，防止拋光液供給不足。

可選的，在所述儲(chǔ)液槽內(nèi)設(shè)置有調(diào)整刷，所述調(diào)整刷設(shè)置在所述輸液管的端部，用于減緩拋光液的流速。

通過(guò)所述調(diào)整刷，減慢拋光液由輸液管流出的速度，防止其噴濺，在拋光液儲(chǔ)存器轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，還可以攪勻拋光液。

基于上述第二目的，本發(fā)明提供了一種上下盤(pán)研磨機(jī)構(gòu),包括如上所述的拋光液管路系統(tǒng)，還包括第一冷卻機(jī)構(gòu)及第二冷卻機(jī)構(gòu)，所述第一冷卻機(jī)構(gòu)包括多個(gè)固定連接在一起的第一冷卻盤(pán)，且多個(gè)所述第一冷卻盤(pán)上下層疊設(shè)置；上下相鄰的兩個(gè)所述第一冷卻盤(pán)之間具有冷卻通道；多個(gè)所述第一冷卻盤(pán)中，位于最下層的所述第一冷卻盤(pán)的下端面用于固定上盤(pán)研磨體，且所述上盤(pán)研磨體上開(kāi)設(shè)有流孔，所述流孔與所述冷卻通道相連通；所述第二冷卻機(jī)構(gòu)包括噴嘴組件，所述噴嘴組件設(shè)于下盤(pán)研磨體的下方，用于向所述下盤(pán)研磨體噴射拋光液；

所述出液孔與所述冷卻通道連通。

可選的，所述出液孔與所述冷卻通道通過(guò)供液管連通。

可選的，上下相鄰的兩個(gè)所述第一冷卻盤(pán)中，位于上方的所述第一冷卻盤(pán)的下端面開(kāi)設(shè)有第一半槽，位于下方的所述第一冷卻盤(pán)的上端面開(kāi)設(shè)有第二半槽；所述第一半槽與所述第二半槽相拼合形成所述冷卻通道。

可選的，當(dāng)所述第一冷卻盤(pán)的數(shù)量不小于三時(shí)，所述冷卻通道的數(shù)量為多個(gè)，且多個(gè)所述冷卻通道之間相連通。

現(xiàn)有的拋光機(jī)，其拋光液是直接的送到研磨盤(pán)之間，其流速和流量均不易控制，在輸送過(guò)程中容易迸濺，本發(fā)明提供的所述拋光液管路系統(tǒng)，先送入拋光液儲(chǔ)存器內(nèi)，然后經(jīng)過(guò)拋光液儲(chǔ)存器送入拋光盤(pán)之間，能夠控制其流速和流量，平穩(wěn)的提供拋光液，防止拋光液在拋光過(guò)程中流向飛濺不可控。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施方式，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的拋光液管路系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的上下盤(pán)研磨機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的上下盤(pán)研磨機(jī)構(gòu)另一視角的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例中外殼、上盤(pán)研磨體及第一冷卻盤(pán)組裝在一起的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例中外殼、上盤(pán)研磨體及第一冷卻盤(pán)組裝在一起后的另一視角的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例中上盤(pán)研磨體及多個(gè)第一冷卻盤(pán)組裝在一起后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本發(fā)明實(shí)施中位于最上層的第一冷卻盤(pán)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為本發(fā)明實(shí)施中冷卻液儲(chǔ)存器的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖標(biāo)：201-第一冷卻盤(pán)；202-上盤(pán)研磨片；203-流孔；204-噴嘴組件；205-下盤(pán)研磨片；206-第一半槽；207-拋光液儲(chǔ)存器；208-管道；209-安裝盤(pán)；210-調(diào)平螺栓；211-支撐架；212-外殼；213-驅(qū)動(dòng)軸；214-儲(chǔ)液槽；215-安裝孔位；216-第一進(jìn)液孔；217-出液孔；218-輸液管；219-調(diào)整刷。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

在本發(fā)明的描述中，需要說(shuō)明的是，術(shù)語(yǔ)“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。此外，術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”、“第三”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。

在本發(fā)明的描述中，需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本發(fā)明中的具體含義。

拋光液管路系統(tǒng)實(shí)施例

如圖1所示，在本實(shí)施例中提供了一種拋光液管路系統(tǒng)，所述拋光液管路系統(tǒng)包括供液裝置和拋光液儲(chǔ)存器207，所述拋光液儲(chǔ)存器207設(shè)置有環(huán)形的儲(chǔ)液槽214；

所述供液裝置通過(guò)輸液管218向所述儲(chǔ)液槽214內(nèi)提供拋光液；

所述拋光液儲(chǔ)存器207上還設(shè)置有與所述儲(chǔ)液槽214連通的出液孔217，通過(guò)所述出液孔217向待冷卻裝置輸送拋光液。

現(xiàn)有的拋光機(jī)，其拋光液是直接的送到研磨盤(pán)之間，其流速和流量均不易控制，在輸送過(guò)程中容易迸濺，本發(fā)明提供的所述拋光液管路系統(tǒng)，先送入拋光液儲(chǔ)存器207內(nèi)，然后經(jīng)過(guò)拋光液儲(chǔ)存器207送入拋光盤(pán)之間，能夠控制其流速和流量，平穩(wěn)的提供拋光液，防止拋光液在拋光過(guò)程中流向飛濺不可控。

如圖1，本實(shí)施例的可選方案中，所述供液裝置包括供液桶，所述供液桶通過(guò)輸液管218向所述儲(chǔ)液槽214內(nèi)提供拋光液。

通過(guò)供液桶來(lái)提供拋光液，一是成本低，而是可以可持續(xù)的供給大量拋光液。

進(jìn)一步的，所述輸液管218上設(shè)置有恒壓智能閥，用于調(diào)控拋光液的輸送量和輸送周期。

通過(guò)恒壓智能閥，調(diào)節(jié)拋光液輸送的速度、輸液量和輸送周期，實(shí)現(xiàn)周期性、定量輸送拋光液，控制拋光液用量。

優(yōu)選的，所述拋光液儲(chǔ)存器207呈圓環(huán)形。

圓環(huán)形的拋光液儲(chǔ)存器207便于加工。

進(jìn)一步的，沿所述拋光液儲(chǔ)存器207的周向均勻的設(shè)置有多個(gè)出液孔217。

均勻的設(shè)置多個(gè)出液孔217，有利于供給足夠的拋光液，防止拋光液供給不足。

進(jìn)一步的，在所述儲(chǔ)液槽214內(nèi)設(shè)置有調(diào)整刷219，所述調(diào)整刷219設(shè)置在所述輸液管218的端部，用于減緩拋光液的流速。

通過(guò)所述調(diào)整刷219，減慢拋光液由輸液管218流出的速度，防止其噴濺，在拋光液儲(chǔ)存器207轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，還可以攪勻拋光液。

上下盤(pán)研磨機(jī)構(gòu)實(shí)施例

如圖1-8所示，該實(shí)施例提供了一種上下盤(pán)研磨機(jī)構(gòu)，所述上下盤(pán)研磨機(jī)構(gòu)，還包括第一冷卻機(jī)構(gòu)及第二冷卻機(jī)構(gòu)，第一冷卻機(jī)構(gòu)包括多個(gè)固定連接在一起的第一冷卻盤(pán)201，且多個(gè)第一冷卻盤(pán)201上下層疊設(shè)置，也就是說(shuō)，多個(gè)第一冷卻盤(pán)201由下至上依次堆疊在一起；上下相鄰的兩個(gè)第一冷卻盤(pán)201之間具有冷卻通道；多個(gè)第一冷卻盤(pán)201中，位于最下層的第一冷卻盤(pán)201的下端面用于固定上盤(pán)研磨體，且上盤(pán)研磨體上開(kāi)設(shè)有流孔203，流孔203與冷卻通道相連通；第二冷卻機(jī)構(gòu)包括噴嘴組件204，噴嘴組件204設(shè)于下盤(pán)研磨體的下方，用于向下盤(pán)研磨體噴射拋光液。

所述出液孔217與所述冷卻通道連通。

具體而言，多個(gè)第一冷卻盤(pán)201之間固定連接的方式可以為卡合的方式、螺栓連接的方式或螺紋連接的方式。上盤(pán)研磨體通過(guò)粘接的方式或螺栓連接的方式與位于最下方的第一冷卻盤(pán)201固定連接。上盤(pán)研磨體上的流孔203的數(shù)量為一個(gè)或多個(gè)，當(dāng)流孔203的數(shù)量為多個(gè)時(shí)，多個(gè)流孔203在上盤(pán)研磨體的研磨面上均勻分布。

該實(shí)施例可選的方案中，上盤(pán)研磨體可以由多個(gè)上盤(pán)研磨片202拼接而成，采用分片的形式，便于更換損壞的一塊，節(jié)約成本，另外，采用拼接而成時(shí)，多個(gè)上盤(pán)研磨片202之間會(huì)有縫隙，有利于散熱，流孔203開(kāi)設(shè)于上盤(pán)研磨片202上。下盤(pán)研磨體也可以由多個(gè)下盤(pán)研磨片205拼接而成，采用分片的形式，便于更換損壞的一塊，節(jié)約成本，另外，采用拼接而成時(shí)，多個(gè)下盤(pán)研磨片205之間會(huì)有縫隙，有利于散熱。下盤(pán)研磨體與支撐架211通過(guò)粘接的方式或螺栓連接的方式固定連接，支撐架211位于下盤(pán)研磨體的下方。

該實(shí)施例提供的上下盤(pán)研磨機(jī)構(gòu)，在工作狀態(tài)下，上盤(pán)研磨體產(chǎn)生的熱量傳送給第一冷卻盤(pán)201，然后再將熱量傳送給冷卻通道內(nèi)流動(dòng)的拋光液從而實(shí)現(xiàn)了上盤(pán)研磨體的冷卻，而在上盤(pán)研磨體上開(kāi)上流孔203，拋光液還能從流孔203流出，從而對(duì)上盤(pán)研磨體的研磨面進(jìn)行冷卻，并且該拋光液還有利于對(duì)工件拋光，也就是說(shuō)，拋光液還充當(dāng)拋光液的角色；另外，從上盤(pán)研座體的流孔203的流出的拋光液還能夠流到下盤(pán)研磨體的研磨面對(duì)下盤(pán)研磨體的研磨面進(jìn)行冷卻，而在下盤(pán)研磨體的下方設(shè)置的噴嘴組件204能夠?qū)ο卤P(pán)研磨體的下表面進(jìn)行噴淋拋光液，以實(shí)現(xiàn)對(duì)其冷卻；綜上，該上下盤(pán)研磨機(jī)構(gòu)能夠提高對(duì)上盤(pán)研磨體的冷卻效果的特點(diǎn)。

該實(shí)施例可選的方案中，上下相鄰的兩個(gè)第一冷卻盤(pán)201中，位于上方的第一冷卻盤(pán)201的下端面開(kāi)設(shè)有第一半槽206，位于下方的第一冷卻盤(pán)201的上端面開(kāi)設(shè)有第二半槽；第一半槽206與第二半槽相拼合形成冷卻通道。通過(guò)在兩個(gè)不同的第一冷卻盤(pán)201上分別開(kāi)設(shè)第一半槽206和第二半槽，這樣便于加工。

具體而言，冷卻通道的截面呈圓形。第一半槽206與第二半槽上下相對(duì)以拼合成一個(gè)完整的冷卻通道。

該實(shí)施例可選的方案中，冷卻通道包括多個(gè)相互連通的圓環(huán)形通道，多個(gè)圓環(huán)形通道的圓心共心；或，冷卻通道的長(zhǎng)度延伸方向呈平面螺旋線形，采用平面螺旋線形更有利于拋光液的流動(dòng)及對(duì)第一冷卻盤(pán)201的冷卻，從而有利于對(duì)上盤(pán)研磨體的冷卻。具體的，該實(shí)施例中，冷卻通道的長(zhǎng)度延伸方向呈平面螺旋線形，該平面螺旋線可以為阿基米德螺線、費(fèi)馬螺線、等角螺線、雙曲螺線、圓內(nèi)螺線、彎曲螺線、連鎖螺線、柯奴螺線或歐拉螺線。

優(yōu)選的，所述出液孔217與所述冷卻通道通過(guò)供液管連通。拋光液儲(chǔ)存器207設(shè)于最上層的第一冷卻盤(pán)201的上方，且與最上層的第一冷卻盤(pán)201固定連接；拋光液儲(chǔ)存器207設(shè)置有多個(gè)出液孔217，位于最上層的第一冷卻盤(pán)201上的第一半槽206的槽底開(kāi)設(shè)有與所述出液孔相對(duì)應(yīng)的第一進(jìn)液孔216，也就是說(shuō)，出液孔的數(shù)量與第一進(jìn)液孔的數(shù)量相等；多個(gè)第一進(jìn)液孔沿第一半槽206的長(zhǎng)度延伸方向分布，且出液孔通過(guò)管道208與第一進(jìn)液孔相連通，也就就是說(shuō)，出液孔也冷卻通道相連通；通過(guò)在拋光液儲(chǔ)存器207上開(kāi)設(shè)多個(gè)出液孔便于增加進(jìn)入冷卻通道內(nèi)的拋光液的量，從而有利于冷卻。

該實(shí)施例可選的方案中，當(dāng)?shù)谝焕鋮s盤(pán)201的數(shù)量不小于3時(shí)，冷卻通道的數(shù)量為多個(gè)，且多個(gè)冷卻通道之間相連通。具體的，該實(shí)施例中，第一冷卻盤(pán)201的數(shù)量為3個(gè)，為了便于區(qū)分三個(gè)第一冷卻盤(pán)201，位于最上層的第一冷卻盤(pán)201稱為最上層冷卻盤(pán)，位于中層的第一冷卻盤(pán)201稱為中層冷卻盤(pán)，而位于最下層的第一冷卻盤(pán)201稱為最下層冷卻盤(pán)；最上層冷卻盤(pán)與中層冷卻盤(pán)之間有一個(gè)冷卻通道，中層冷卻盤(pán)與最下層冷卻盤(pán)之間有一個(gè)冷卻通道，也就是說(shuō)，冷卻通道的數(shù)量為兩個(gè)，兩個(gè)冷卻通道之間相連通；最上層冷卻盤(pán)的下端面開(kāi)設(shè)有第一半槽206，中層冷卻盤(pán)的上端面開(kāi)設(shè)有第二半槽，中層冷卻盤(pán)的下端面開(kāi)設(shè)有第一半槽206，最下層冷卻盤(pán)的上端面開(kāi)設(shè)有第二半槽，具體的，可以在中層冷卻盤(pán)的第二半槽與中層冷卻盤(pán)的第一半槽206之間開(kāi)設(shè)通孔，以實(shí)現(xiàn)兩個(gè)冷卻通道之間的連通，通孔的數(shù)量至少為一個(gè)。

該實(shí)施例可選的方案中，第一冷卻機(jī)構(gòu)還包括外殼212；多個(gè)第一冷卻盤(pán)201安裝于外殼的內(nèi)部，且第一冷卻盤(pán)201與外殼固定連接。具體而言，第一冷卻盤(pán)201與外殼通過(guò)螺栓固定連接。冷卻液儲(chǔ)存器207位于外殼的上方。

該實(shí)施例可選的方案中，噴嘴組件204包括空心錐噴嘴、實(shí)心錐噴嘴、方形噴嘴、矩形噴嘴、橢圓形噴嘴或扇形噴嘴中的至少一種。需要說(shuō)明的是，在研磨拋光過(guò)程中，研磨拋光裝置的驅(qū)動(dòng)軸213從下盤(pán)研磨體的中心孔中穿出，帶動(dòng)上盤(pán)研磨體旋轉(zhuǎn)，而下盤(pán)研磨體固定不轉(zhuǎn)，因此，也可以在下盤(pán)研磨體的下端面固定多個(gè)上下層疊設(shè)置的第一冷卻盤(pán)201，上下相鄰的兩個(gè)第一冷卻盤(pán)201之間具有冷卻通道，并在冷卻通道內(nèi)通過(guò)冷卻液實(shí)現(xiàn)對(duì)下盤(pán)研磨體的冷卻，冷卻通道的長(zhǎng)度延伸方向呈平面螺旋線形。上盤(pán)研磨體旋轉(zhuǎn)時(shí)，外殼、冷卻液儲(chǔ)存器也隨之一起轉(zhuǎn)動(dòng)。

該實(shí)施例可選的方案中，外殼的上方可以設(shè)置一個(gè)安裝盤(pán)209，安裝盤(pán)209與外殼之間通過(guò)調(diào)平螺栓210固定連接，這樣便于對(duì)外殼進(jìn)行調(diào)平，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)下盤(pán)研磨體的研磨而進(jìn)行調(diào)平。

最后應(yīng)說(shuō)明的是：以上各實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制；盡管參照前述各實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分或者全部技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實(shí)施例技術(shù)方案的范圍。