本發(fā)明屬于機(jī)械設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體地涉及一種金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置。
背景技術(shù):
金屬材料的加工過(guò)程包括對(duì)該金屬材料表面進(jìn)行打磨,目前做化學(xué)實(shí)驗(yàn)用的大多數(shù)金屬片在實(shí)驗(yàn)前常用砂紙進(jìn)行人工打磨,但人工打磨的金屬片表面不夠光滑均勻且不能保證表面的氧化膜等銹層全部被除盡,由此會(huì)影響實(shí)驗(yàn)的準(zhǔn)確性;常用的干磨機(jī)雖然能保證打磨的均勻性,但是干磨機(jī)產(chǎn)熱會(huì)導(dǎo)致待打磨的金屬晶格形狀改變,從而對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果產(chǎn)生影響,因此,需要一款不僅能打磨均勻,且不會(huì)影響待打磨金屬晶格形狀發(fā)生改變的打磨處理裝置。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明的目的在于提供了一種金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置,該處理裝置根據(jù)所選金屬片長(zhǎng)寬調(diào)節(jié)直線機(jī)構(gòu)底板側(cè)面的行程接近開(kāi)關(guān)從而控制第一直線機(jī)構(gòu)及第二直線機(jī)構(gòu)的移動(dòng)平臺(tái)的行程,根據(jù)金屬片厚度調(diào)節(jié)升降機(jī)構(gòu),直線機(jī)構(gòu)往復(fù)運(yùn)動(dòng)的同時(shí)打磨輪進(jìn)行打磨,保證了金屬片打磨的均勻性;同時(shí)該處理裝置增加了冷卻液循環(huán)系統(tǒng),用于冷卻金屬表面,減少了待打磨金屬發(fā)熱引起的金屬晶格發(fā)生改變的問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明公開(kāi)了一種金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置,該處理裝置包括第一直線機(jī)構(gòu)、第二直線機(jī)構(gòu)、冷卻液循環(huán)系統(tǒng)、打磨機(jī)構(gòu)、升降機(jī)構(gòu)、控制柜和機(jī)架,所述機(jī)架上安裝有控制柜、升降機(jī)構(gòu)、冷卻液循環(huán)系統(tǒng)和第一直線機(jī)構(gòu),所述第一直線機(jī)構(gòu)的第一移動(dòng)平臺(tái)的上端面固定連接第二直線機(jī)構(gòu)的第二底板,所述第二底板的上端面設(shè)有第二移動(dòng)平臺(tái),所述第二移動(dòng)平臺(tái)的上端面安裝有打磨機(jī)構(gòu)的打磨柜,所述打磨機(jī)構(gòu)的打磨臺(tái)電機(jī)固定在升降機(jī)構(gòu)的升降臺(tái)上;
所述冷卻液循環(huán)系統(tǒng)包括水箱,所述水箱通過(guò)進(jìn)水管向打磨機(jī)構(gòu)的打磨柜進(jìn)水,所述打磨柜內(nèi)部設(shè)置的排水管與沉淀箱相連,所述沉淀箱通過(guò)連接管與水箱保持內(nèi)部相通。
進(jìn)一步地,所述第一直線機(jī)構(gòu)包括安裝在機(jī)架上的第一底板,所述第一底板的上端面固定有第一固定板和第二固定板,所述第一固定板和第二固定板通過(guò)第一底板上端面設(shè)置的第一滾珠絲桿和第一直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌保持相連,所述第一直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌和第一滾珠絲桿均貫穿設(shè)置在第一固定板和第二固定板之間的第一移動(dòng)平臺(tái)。
再進(jìn)一步地,所述第一底板的同一側(cè)面方向上設(shè)有行程接近開(kāi)關(guān)一和行程接近開(kāi)關(guān)二,所述行程接近開(kāi)關(guān)一與接近開(kāi)關(guān)支架一的一端固連,所述接近開(kāi)關(guān)支架一的另一端通過(guò)t型螺母與第一底板滑動(dòng)連接,所述行程接近開(kāi)關(guān)二與接近開(kāi)關(guān)支架二的一端固連,所述接近開(kāi)關(guān)支架二的另一端也通過(guò)t型螺母與第一底板滑動(dòng)連接。
更進(jìn)一步地,所述第二直線機(jī)構(gòu)包括安裝在第一移動(dòng)平臺(tái)上端面的第二底板,所述第二底板的上端面固定有第三固定板和第四固定板,所述第三固定板和第四固定板通過(guò)第二底板上端面設(shè)置的第二滾珠絲桿和第二直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌保持相連,所述第二直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌和第二滾珠絲桿均貫穿設(shè)置在第三固定板和第四固定板之間的第二移動(dòng)平臺(tái)。
更進(jìn)一步地,所述第二底板的同一側(cè)面方向上設(shè)有行程接近開(kāi)關(guān)三和行程接近開(kāi)關(guān)四,所述行程接近開(kāi)關(guān)三與接近開(kāi)關(guān)支架三的一端固連,所述接近開(kāi)關(guān)支架三的另一端通過(guò)t型螺母與第二底板滑動(dòng)連接,所述行程接近開(kāi)關(guān)四與接近開(kāi)關(guān)支架四的一端固連,所述接近開(kāi)關(guān)支架四的另一端也通過(guò)t型螺母與第二底板滑動(dòng)連接。
更進(jìn)一步地,所述第一直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌和第二直線導(dǎo)軌在空間上相互垂直,所述第一滾珠絲桿和第二滾珠絲桿在空間上相互垂直。
更進(jìn)一步地,所述打磨柜為由第一側(cè)面、第二側(cè)面、第三側(cè)面、第四側(cè)面及底面圍合形成的上端開(kāi)口的方體,在方體內(nèi)部設(shè)有與第一側(cè)面相貼合的透明罩,在透明罩的凹槽內(nèi)設(shè)置有擋水塊,所述擋水塊沿橫向滑軌作往復(fù)運(yùn)動(dòng),所述橫向滑軌的兩端分別固定在兩根縱向?qū)к壣习惭b的縱向滑塊上,所述兩根縱向?qū)к壨ㄟ^(guò)縱向?qū)к壷巫謩e固定在第二側(cè)面和第四側(cè)面上。
更進(jìn)一步地,所述打磨柜的底面上方設(shè)有永磁打磨臺(tái),所述永磁打磨臺(tái)上方設(shè)有打磨輪,所述打磨輪連接打磨桿的一端,所述打磨桿的另一端依次貫穿擋水塊、透明罩,與打磨臺(tái)電機(jī)相連。
更進(jìn)一步地,所述升降機(jī)構(gòu)包括固定在機(jī)架上的固定架,所述固定架上方設(shè)有升降臺(tái)托板,所述升降臺(tái)托板固定連接升降臺(tái)底座,所述升降臺(tái)底座分別與兩根第一升降桿和兩根第二升降桿連接,所述兩根第一升降桿和兩根第二升降桿固定支撐升降臺(tái)。
更進(jìn)一步地,所述第一升降桿的一端與升降臺(tái)底座鉸接,第一升降桿的另一端與升降臺(tái)第二滑塊鉸接,第二升降桿的一端與升降臺(tái)底座鉸接,第二升降桿的另一端與升降臺(tái)第一滑塊鉸接,第一升降桿和第二升降桿鉸接。
本發(fā)明的金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置的有益效果:
1、本發(fā)明裝置可以根據(jù)所選金屬片長(zhǎng)寬來(lái)調(diào)節(jié)直線機(jī)構(gòu)底板側(cè)面的行程接近開(kāi)關(guān)從而控制第一直線機(jī)構(gòu)及第二直線機(jī)構(gòu)的移動(dòng)平臺(tái)的行程,第一直線機(jī)構(gòu)及第二直線機(jī)構(gòu)不同方向的往復(fù)運(yùn)動(dòng),保證了金屬打磨的均勻性;
2、本發(fā)明裝置的升降機(jī)構(gòu)可自由調(diào)節(jié),進(jìn)而控制金屬片的厚度;
3、本發(fā)明裝置設(shè)置了冷卻液循環(huán)系統(tǒng),通過(guò)對(duì)金屬表面的冷卻,減少了待打磨金屬發(fā)熱,引起的金屬晶格發(fā)生改變的問(wèn)題;
4、本發(fā)明的打磨裝置操作簡(jiǎn)單,精度可控,適用于實(shí)驗(yàn)室的實(shí)驗(yàn)操作要求。
附圖說(shuō)明
圖1、圖2和圖3為本發(fā)明裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為圖1中冷卻液循環(huán)系統(tǒng)、打磨機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為圖4中打磨機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖;
其中,圖1、圖2、圖3、圖4、圖5中各標(biāo)記的標(biāo)號(hào)如下:
第一直線機(jī)構(gòu):第一底板1.1、第一固定板1.2、第二固定板1.3、第一移動(dòng)平臺(tái)1.4、第一滾珠絲桿1.5、第一直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌1.6、t型螺母1.7、行程接近開(kāi)關(guān)一1.81、接近開(kāi)關(guān)支架一1.82、行程接近開(kāi)關(guān)二1.83、接近開(kāi)關(guān)支架二1.84、步進(jìn)電機(jī)1.9;
第二直線機(jī)構(gòu):第二底板2.1、第三固定板2.2、第四固定板2.3、第二移動(dòng)平臺(tái)2.4、第二滾珠絲桿2.5、第二直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌2.6、行程接近開(kāi)關(guān)三2.71、接近開(kāi)關(guān)支架三2.72、行程接近開(kāi)關(guān)四2.73、接近開(kāi)關(guān)支架四2.74;
打磨機(jī)構(gòu):打磨柜3.1:第一側(cè)面3.11、第二側(cè)面3.12、第三側(cè)面3.13、第四側(cè)面3.14、底面3.15、壓塊3.16、夾具螺母3.17、橫向滑軌3.2、縱向滑塊軸承3.3、縱向?qū)к?.4、縱向滑塊3.5、縱向?qū)к壷巫?.6、永磁打磨臺(tái)3.7、擋水塊3.8、擋水塊軸承3.81、透明罩3.9、打磨輪3.91、打磨桿3.92、打磨臺(tái)聯(lián)軸器3.93、打磨臺(tái)電機(jī)支架3.94、打磨臺(tái)電機(jī)3.95、軸承支撐座3.96;
冷卻循環(huán)系統(tǒng):水箱4.1、水泵4.2、進(jìn)水管4.3:進(jìn)水軟管4.31、進(jìn)水管支架4.32、排水管4.4、沉淀箱4.5、連接管4.6、過(guò)濾器4.7;
升降機(jī)構(gòu):升降臺(tái)立柱5.11、升降臺(tái)橫梁5.12、升降臺(tái)縱梁5.13、升降臺(tái)托板5.2、升降臺(tái)底座5.3、第一升降桿5.4、第二升降桿5.5、升降臺(tái)5.6、升降臺(tái)第一滑塊5.7、升降臺(tái)第二滑塊5.8、升降臺(tái)絲桿5.9、絲桿螺母5.91、手輪5.92
控制柜6。
具體實(shí)施方式
為了更好地解釋本發(fā)明,以下結(jié)合具體實(shí)施例進(jìn)一步闡明本發(fā)明的主要內(nèi)容,但本發(fā)明的內(nèi)容不僅僅局限于以下實(shí)施例。
本發(fā)明公開(kāi)了一種金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置,該裝置包括第一直線機(jī)構(gòu)、第二直線機(jī)構(gòu)、冷卻液循環(huán)系統(tǒng)、打磨機(jī)構(gòu)、升降機(jī)構(gòu)、控制柜6和機(jī)架,如圖1所示,所述機(jī)架為方體結(jié)構(gòu),在機(jī)架的底面安裝有圖1所示的控制柜6和第一直線機(jī)構(gòu),圖2所示的升降機(jī)構(gòu),圖3所示的冷卻液循環(huán)系統(tǒng);再次如圖1所示,所述第一直線機(jī)構(gòu)包括固定在機(jī)架底面上的第一底板1.1,本實(shí)施例的第一底板1.1優(yōu)選為平板,在平板的同一側(cè)面方向上設(shè)有行程接近開(kāi)關(guān)一1.81和行程接近開(kāi)關(guān)二1.82,所述行程接近開(kāi)關(guān)一1.81與接近開(kāi)關(guān)支架一1.82的一端固連,所述接近開(kāi)關(guān)支架一1.82的另一端通過(guò)t型螺母1.7與第一底板1.1滑動(dòng)連接,所述行程接近開(kāi)關(guān)二1.83與接近開(kāi)關(guān)支架二1.84的一端固連,所述接近開(kāi)關(guān)支架二1.84的另一端也通過(guò)t型螺母1.7與第一底板1.1滑動(dòng)連接,同時(shí),在所述第一底板1.1上還設(shè)有距離標(biāo)識(shí),該距離標(biāo)識(shí)用于衡量行程接近開(kāi)關(guān)一1.81與行程接近開(kāi)關(guān)二1.83之間的距離,進(jìn)而控制第一移動(dòng)平臺(tái)1.4的行程,實(shí)現(xiàn)最終控制需要打磨金屬片的長(zhǎng)寬;同時(shí),在所述第一底板1.1的上端面固定有圖1所示的第一固定板1.2和圖2所示的第二固定板1.3,第一固定板1.2和第二固定板1.3相互平行的設(shè)置在第一底板1.1的上端面上,并且,所述第一固定板1.2和第二固定板1.3通過(guò)第一底板1.1上端面設(shè)置的第一滾珠絲桿1.5和第一直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌1.6(本實(shí)施例優(yōu)選為兩根直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌,但不限于兩根)保持相連,所述第一滾珠絲桿1.5的一端通過(guò)角接觸球軸承與第一固定板1.2連接,所述角接觸球軸承的內(nèi)圈設(shè)有與第一滾珠絲桿1.5相接觸的滾珠絲桿螺釘,所述第一滾珠絲桿1.5的另一端也通過(guò)角接觸球軸承與第二固定板1.3連接,在該角接觸球軸承的內(nèi)圈設(shè)有與第一滾珠絲桿1.5相接觸的軸用卡環(huán),在第一滾珠絲桿1.5的末端還通過(guò)聯(lián)軸器連接步進(jìn)電機(jī)1.9,所述步進(jìn)電機(jī)1.9通過(guò)步進(jìn)電機(jī)支架固定在第一底板上1.1;同時(shí),第一直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌1.6通過(guò)固定板緊定螺釘固定于第一固定板1.2和第二固定板1.3上,所述第一直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌1.6和第一滾珠絲桿1.5均貫穿設(shè)置在第一固定板1.2和第二固定板1.3之間的第一移動(dòng)平臺(tái)1.4,所述第一移動(dòng)平臺(tái)1.4與第一滾珠絲桿1.5之間通過(guò)滾珠絲桿螺母固定相連,所述第一移動(dòng)平臺(tái)1.4與第一直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌1.6之間通過(guò)直線機(jī)構(gòu)直線軸承保持相連。
再次如1所示,所述第一移動(dòng)平臺(tái)1.4的上端面固連第二直線機(jī)構(gòu)的第二底板2.1,本實(shí)施例的第二底板2.1也優(yōu)選為平板,在平板的同一側(cè)面方向上設(shè)有如圖2所示的行程接近開(kāi)關(guān)三2.71和如圖5所示的行程接近開(kāi)關(guān)四2.73,所述行程接近開(kāi)關(guān)三2.71與接近開(kāi)關(guān)支架三2.72的一端固連,所述接近開(kāi)關(guān)支架三2.72的另一端通過(guò)t型螺母1.7與第二底板2.1滑動(dòng)連接,所述行程接近開(kāi)關(guān)四2.73與接近開(kāi)關(guān)支架四2.74的一端固連,所述接近開(kāi)關(guān)支架四2.74的另一端也通過(guò)t型螺母1.7與第二底板2.1滑動(dòng)連接,同時(shí),所述第二底板2.1上還設(shè)有距離標(biāo)識(shí),該距離標(biāo)識(shí)用于衡量行程接近開(kāi)關(guān)三2.71與行程接近開(kāi)關(guān)四2.73之間的距離,進(jìn)而控制第二移動(dòng)平臺(tái)2.4的行程,實(shí)現(xiàn)最終控制需要打磨金屬片的長(zhǎng)寬;如圖1所示,所述第二底板2.1的上端面固定有第三固定板2.2和第四固定板2.3,第三固定板2.2和第四固定板2.3相互平行的設(shè)置在第二底板2.1的上端面上,并且,所述第三固定板2.2和第四固定板2.3通過(guò)第二底板2.1上端面設(shè)置的第二滾珠絲桿2.5和第二直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌2.6(本實(shí)施例優(yōu)選為兩根直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌,但不限于兩根)保持相連,所述第二滾珠絲桿2.5的一端通過(guò)角接觸球軸承與第三固定板2.2連接,所述角接觸球軸承的內(nèi)圈設(shè)有與第二滾珠絲桿2.5相接觸的滾珠絲桿螺釘,所述第二滾珠絲桿2.5的另一端也通過(guò)角接觸球軸承與第四固定板2.3連接,在該角接觸球軸承的內(nèi)圈設(shè)有與第二滾珠絲桿2.5相接觸的軸用卡環(huán),在第二滾珠絲桿2.5的末端還通過(guò)聯(lián)軸器連接步進(jìn)電機(jī)1.9,所述步進(jìn)電機(jī)1.9通過(guò)步進(jìn)電機(jī)支架固定在第二底板2.1上;同時(shí),第二直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌2.6通過(guò)固定板緊定螺釘固定于第三固定板2.2和第四固定板2.3上,所述第二直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌2.6和第二滾珠絲桿2.5均貫穿設(shè)置在第三固定板2.2和第四固定板2.3之間的第二移動(dòng)平臺(tái)2.4,所述第二移動(dòng)平臺(tái)2.4與第二滾珠絲桿2.5之間通過(guò)滾珠絲桿螺母保持相連,所述第二移動(dòng)平臺(tái)2.4與第二直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌2.6之間通過(guò)直線機(jī)構(gòu)直線軸承保持相連。
如圖1所示,所述第一直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌1.6和第二直線導(dǎo)軌2.6在空間上相互垂直,所述第一滾珠絲桿1.5和第二滾珠絲桿2.5在空間上相互垂直,因此保證了第一移動(dòng)平臺(tái)1.4與第二移動(dòng)平臺(tái)2.4運(yùn)動(dòng)方向上的垂直關(guān)系。
再次如圖1所示,第二移動(dòng)平臺(tái)2.4的上端面連接打磨機(jī)構(gòu)的打磨柜3.1,結(jié)合圖3可知,所述打磨柜3.1為第一側(cè)面3.11、第二側(cè)面3.12、第三側(cè)面3.13、第四側(cè)面3.14及底面3.15圍合形成的上端開(kāi)口的方體,在方體內(nèi)部設(shè)有與第一側(cè)面3.11相貼合的透明罩3.9,在透明罩3.9的凹槽內(nèi)設(shè)置有擋水塊3.8,擋水塊3.8與透明罩3.9緊密貼合,保證冷卻液不會(huì)沿第一側(cè)面流出,如圖4所示,所述擋水塊3.8可沿橫向滑軌3.2作往復(fù)運(yùn)動(dòng)(本實(shí)施例優(yōu)選擋水塊3.8通過(guò)擋水塊軸承3.81安裝在橫向滑軌上),所述橫向滑軌3.2的兩端分別固定在兩根縱向?qū)к?.4上安裝的縱向滑塊3.5上(本實(shí)施例優(yōu)選縱向滑塊3.5通過(guò)縱向滑塊軸承3.3安裝在縱向?qū)к?.4上),所述兩根縱向?qū)к?.4通過(guò)縱向?qū)к壷巫?.6分別固定在第二側(cè)面3.12和第四側(cè)面3.14上,因此,擋水塊3.8不僅可以沿橫向滑軌3.2作往復(fù)運(yùn)動(dòng),還可沿縱向?qū)к?.4作往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
打磨柜3.1的底面上方設(shè)有圖4所示的永磁打磨臺(tái)3.7,永磁打磨臺(tái)3.7通過(guò)壓塊3.16和夾具螺母3.17固定在打磨柜3.1的底面3.15上,如圖3所示,所述永磁打磨臺(tái)3.7上方設(shè)有打磨輪3.91,所述打磨輪3.91連接打磨桿3.92的一端,所述打磨桿3.92的另一端依次貫穿擋水塊3.8、透明罩3.9,與打磨臺(tái)電機(jī)3.95相連,打磨桿3.92通過(guò)軸承支撐座固定在升降臺(tái)5.6上,打磨桿3.92與打磨臺(tái)電機(jī)3.94通過(guò)打磨臺(tái)聯(lián)軸器3.93保持相連,打磨臺(tái)電機(jī)3.94通過(guò)打磨臺(tái)電機(jī)支架固定在升降機(jī)構(gòu)的升降臺(tái)5.6上。
冷卻液循環(huán)系統(tǒng)包括圖3所示的水箱4.1,在水箱4.1內(nèi)部安裝有水泵4.2,所述水泵4.2連接圖1所示的進(jìn)水軟管4.31,進(jìn)水軟管4.31與進(jìn)水管4.3相連,且進(jìn)水管4.3通過(guò)進(jìn)水管支架4.32固定,所述進(jìn)水管4.3延伸至打磨柜3.1的永磁打磨臺(tái)3.7的上方,實(shí)現(xiàn)對(duì)待打磨金屬的冷卻降溫,冷卻后的廢棄冷卻液經(jīng)打磨柜3.1底部設(shè)置的排水管4.4流出,并流入圖3所示的沉淀箱4.5中,廢棄冷卻液中較大的雜質(zhì)經(jīng)過(guò)自然沉降,較小的雜質(zhì)經(jīng)過(guò)連接管4.6上設(shè)置的過(guò)濾器4.7過(guò)濾后沿著連接管4.6重新流入水箱4.1中,完成冷卻液的循環(huán)利用。
升降機(jī)構(gòu)包括升降平臺(tái)托板5.2,所述升降平臺(tái)托板5.2置于由兩根升降臺(tái)橫梁5.12和兩根升降臺(tái)縱梁5.13圍合形成的固定架5.1上,所述固定架由四根升降臺(tái)立柱5.11固定支撐;所述升降平臺(tái)托板5.2上方固定安裝有升降臺(tái)底座5.3,所述升降臺(tái)底座5.3分別與兩根第一升降桿5.4和兩根第二升降桿5.5連接,所述兩根第一升降桿5.4和兩根第二升降桿5.5用于固定支撐升降臺(tái)5.6,其中,第一升降桿5.4的一端與升降臺(tái)底座5.3鉸接,第一升降桿5.4的另一端與升降臺(tái)第二滑塊5.8鉸接,第二升降桿5.5的一端與升降臺(tái)底座5.3鉸接,第二升降桿5.5的另一端與升降臺(tái)第一滑塊5.7鉸接,第一升降桿5.4和第二升降桿5.5鉸接,所述升降臺(tái)第一滑塊5.7與升降臺(tái)絲桿5.9相連接,所述升降臺(tái)絲桿5.9的一端通過(guò)升降臺(tái)軸承與升降臺(tái)底座5.3連接,所述升降臺(tái)軸承的內(nèi)圈設(shè)有與升降臺(tái)絲桿5.9相接觸的升降臺(tái)絲桿螺釘,所述升降臺(tái)絲桿5.9的另一端通過(guò)升降臺(tái)絲桿螺母與升降臺(tái)底座5.3連接。
本發(fā)明的金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置的工作原理:
根據(jù)所選金屬片長(zhǎng)寬調(diào)節(jié)直線機(jī)構(gòu)底板側(cè)面的行程接近開(kāi)關(guān)從而控制第一直線機(jī)構(gòu)及第二直線機(jī)構(gòu)的移動(dòng)平臺(tái)的行程,根據(jù)金屬片厚度調(diào)節(jié)升降機(jī)構(gòu),同時(shí)該處理裝置的冷卻液循環(huán)系統(tǒng)在金屬打磨時(shí),冷卻液對(duì)金屬進(jìn)行降溫,降溫后的廢棄冷卻液經(jīng)沉淀箱處理后重新流入打磨柜中對(duì)金屬進(jìn)行降溫。
以上實(shí)施例僅為最佳舉例,而并非是對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式的限定。除上述實(shí)施例外,本發(fā)明還有其他實(shí)施方式。凡采用等同替換或等效變換形成的技術(shù)方案,均落在本發(fā)明要求的保護(hù)范圍。