本實(shí)用新型涉及真空鍍膜工件夾裝技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種真空鍍膜機(jī)的工件架。

背景技術(shù)：

隨著環(huán)保要求的提高，無廢水、廢氣等污染物的真空鍍膜工藝取代了傳統(tǒng)高污染的電鍍工藝。真空鍍膜工藝中，工件放置于靶材離子氣氛中，使工件表面形成金屬皮膜。目前，多采用可旋轉(zhuǎn)工件架帶動工件在真空鍍膜裝置內(nèi)旋轉(zhuǎn)，以期提高工件鍍膜質(zhì)量。但由于旋轉(zhuǎn)方式單一，使工件的鍍膜位點(diǎn)相對固定，導(dǎo)致工件位于工件架外圍的一側(cè)鍍膜厚度偏大，而內(nèi)側(cè)鍍膜厚度較小。同時(shí)，由于真空環(huán)境中氣氛流動性小，當(dāng)工件量較大，排列間隙較小時(shí)，工件下層鍍膜完整性較差。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型提供一種真空鍍膜機(jī)的工件架，以解決上述現(xiàn)有技術(shù)不足。通過多級旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動工件在真空鍍膜設(shè)備中同時(shí)進(jìn)行多向旋轉(zhuǎn)，有利于保證各工件鍍膜工位的一致性，從而保證工件鍍膜完整性和均一度；同時(shí)，多向旋轉(zhuǎn)有利于勻化真空鍍膜環(huán)境中靶材濺射氣氛，從而提高靶材利用效率，進(jìn)一步提高工件鍍膜均勻度。

為了實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的，擬采用以下技術(shù)：

一種真空鍍膜機(jī)的工件架，其特征在于，包括工件轉(zhuǎn)臺、承載轉(zhuǎn)盤、主轉(zhuǎn)盤和轉(zhuǎn)軸，若干所述工件轉(zhuǎn)臺規(guī)則布設(shè)于所述承載轉(zhuǎn)盤上，若干所述承載轉(zhuǎn)盤中心縱向排列固定于所述轉(zhuǎn)軸上，若干所述轉(zhuǎn)軸規(guī)則排列固定設(shè)置于所述主轉(zhuǎn)盤的上表面，所述工件轉(zhuǎn)臺上表面固設(shè)有工件座，所述工件座處設(shè)有工件定位孔。

進(jìn)一步，所述工件座為圓形，所述工件定位孔沿所述工件座圓周外沿規(guī)則布設(shè)。

進(jìn)一步，所述工件轉(zhuǎn)臺為4或6個(gè)。

進(jìn)一步，所述工件轉(zhuǎn)臺以所述承載轉(zhuǎn)盤的軸心為中點(diǎn)對稱布設(shè)。

進(jìn)一步，所述承載轉(zhuǎn)盤為3～5個(gè)。

進(jìn)一步，所述轉(zhuǎn)軸為3～5根。

本實(shí)用新型的有益效果是：

1、本實(shí)用新型通過多級旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動工件在真空鍍膜設(shè)備中同時(shí)進(jìn)行多向旋轉(zhuǎn)，有利于保證各工件鍍膜工位的一致性，從而保證工件鍍膜完整性和均一度；同時(shí)，多向旋轉(zhuǎn)有利于勻化真空鍍膜環(huán)境中靶材濺射氣氛，從而提高靶材利用效率，進(jìn)一步提高工件鍍膜均勻度。

2、本實(shí)用新型通過以承載轉(zhuǎn)盤軸心為中點(diǎn)對稱設(shè)置的工作轉(zhuǎn)臺，有利于承載轉(zhuǎn)盤平衡受力，保持旋轉(zhuǎn)過程中的平穩(wěn)性，進(jìn)一步提高工件鍍膜的均勻性。

附圖說明

圖1示出了本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2示出了本實(shí)用新型實(shí)施例中工件轉(zhuǎn)臺在承載轉(zhuǎn)盤上的分布俯視示意圖。

圖3示出了本實(shí)用新型實(shí)施例中轉(zhuǎn)軸在主轉(zhuǎn)盤上的分布俯視示意圖。

圖4示出了實(shí)施例中挺柱及其夾具的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5示出了本實(shí)用新型實(shí)施例中工件在承載轉(zhuǎn)盤上的組裝結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

如圖1所示，一種真空鍍膜機(jī)的工件架，包括工件轉(zhuǎn)臺1、承載轉(zhuǎn)盤2、主轉(zhuǎn)盤3和轉(zhuǎn)軸4。所述工件轉(zhuǎn)臺1上表面固設(shè)有工件座5，所述工件座5處設(shè)有工件定位孔51。如圖4所示，工件8通過真空鍍膜夾具9夾裝后，固定于所述工件定位孔51處，在所述工件轉(zhuǎn)臺1、所述承載轉(zhuǎn)盤2和所述主轉(zhuǎn)盤3的帶動下進(jìn)行多向旋轉(zhuǎn)。

所述工件轉(zhuǎn)臺1為4～6個(gè)，在所述承載轉(zhuǎn)盤2上對稱布設(shè)，以便保持平衡，保證平穩(wěn)旋轉(zhuǎn)。通過所述工件轉(zhuǎn)臺1的旋轉(zhuǎn)，保證固定于其上的各工件在真空鍍膜過程中的工位一致性，從而保證單次處理較大工件量時(shí)的鍍膜質(zhì)量。且所述工件轉(zhuǎn)臺1的旋轉(zhuǎn)方向與所述承載轉(zhuǎn)盤2的旋轉(zhuǎn)方向相反，有利于促進(jìn)鍍膜過程中靶材濺射氣氛的勻化，提高靶材利用效率和工件鍍膜厚度均一。

所述承載轉(zhuǎn)盤2為3～5個(gè)。根據(jù)所述工件8的高度，設(shè)置固定于同一所述轉(zhuǎn)軸4上的所述承載轉(zhuǎn)盤2的間隙。

所述轉(zhuǎn)軸4為3～5根。各所述轉(zhuǎn)軸4以所述主轉(zhuǎn)盤3的軸心為圓心，平均布設(shè)固定于所述轉(zhuǎn)盤3上，隨所述主轉(zhuǎn)盤3旋轉(zhuǎn)。

所述工件轉(zhuǎn)臺1的驅(qū)動電機(jī)設(shè)置于轉(zhuǎn)臺基座11內(nèi)，所述主轉(zhuǎn)盤3和所述轉(zhuǎn)軸4的驅(qū)動電機(jī)6均封閉設(shè)置于所述主轉(zhuǎn)盤3正下方的箱體7內(nèi)。以避免污染真空鍍膜環(huán)境。

所述工件座5為圓形，所述工件定位孔51沿所述工件座5圓周外沿規(guī)則布設(shè)。所述定位孔51的間距根據(jù)所述工件8的寬度設(shè)置，使所述工件8通過所述夾具9在所述定位孔51固定后，相鄰兩所述工件8間的間距保持在2倍及以上于所述工件8的寬度，以保證真空鍍膜質(zhì)量。

結(jié)合實(shí)施例闡述本實(shí)用新型具體實(shí)施方式如下：

如圖2、圖3和圖5所示，實(shí)施例中，所述主轉(zhuǎn)盤3上設(shè)有3根所述轉(zhuǎn)軸4，每根所述轉(zhuǎn)軸4上固定設(shè)有3個(gè)所述承載轉(zhuǎn)盤2，每個(gè)所述承載轉(zhuǎn)盤2上設(shè)有4個(gè)所述工件轉(zhuǎn)臺1，單個(gè)所述工件座5上設(shè)有8個(gè)所述工件定位孔，單次真空鍍膜可同時(shí)處理288件所述挺柱工件8。

如圖4所示，實(shí)施例中本實(shí)用新型用于汽車挺柱外表面真空鍍膜處理。所述工件8通過所述夾具9進(jìn)行夾裝。如圖5所示，所述夾具9的定位桿91貫穿所述定位孔51，將所述工件8定位于所述工件座5的上表面處。

將本實(shí)用新型裝入真空鍍膜腔體后，將外接電源與所述工件轉(zhuǎn)臺1、所述主轉(zhuǎn)盤3和所述轉(zhuǎn)軸4的驅(qū)動電機(jī)6連通。啟動電源后，所述工件轉(zhuǎn)臺1帶動固定于所述工件座5處的所述工件8進(jìn)行順時(shí)針旋轉(zhuǎn)(或逆時(shí)針旋轉(zhuǎn))，所述轉(zhuǎn)軸4帶動所述承載轉(zhuǎn)盤2進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)(或順時(shí)針旋轉(zhuǎn))，所述主轉(zhuǎn)盤3帶動固定于其上方的組件進(jìn)行慢速旋轉(zhuǎn)。所述工件轉(zhuǎn)臺1和所述承載轉(zhuǎn)盤2的旋轉(zhuǎn)方向相反，有利于促進(jìn)靶材濺射氣氛的流動，提高所述工件8外表面鍍膜的完整性和均勻度。