本實用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種蒸鍍設(shè)備和系統(tǒng)。
背景技術(shù):
在基板上形成有機發(fā)光二級管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)器件通常采用蒸鍍工藝,具體地,是在一定的真空條件下加熱蒸鍍材料,使蒸鍍材料升華成原子、分子或原子團組成的蒸氣,然后凝結(jié)在基板表面成膜,從而形成OLED器件的功能層。
經(jīng)發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn),現(xiàn)有技術(shù)中,在對真空條件下進行材料蒸鍍時,存在能源浪費和電源控制系統(tǒng)成本較高的問題,除此之外,現(xiàn)有的蒸鍍設(shè)備無法實現(xiàn)對蒸鍍過程的實時監(jiān)測和蒸鍍控制。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
有鑒于此,本實用新型提供了一種蒸鍍設(shè)備和系統(tǒng),通過對蒸鍍設(shè)備的巧妙設(shè)計,能夠提高蒸鍍效率,降低能源消耗,同時,能夠?qū)崿F(xiàn)蒸鍍過程的有效監(jiān)控。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供如下技術(shù)方案:
一種蒸鍍設(shè)備,所述蒸鍍設(shè)備包括反光罩、加熱絲和設(shè)備本體,所述設(shè)備本體包括底座和兩端開口的中空加熱室,所述加熱室上開設(shè)有第一通孔;
所述底座與所述加熱室的一端連接,所述反光罩套設(shè)于所述加熱室,且所述第一通孔暴露于所述反光罩外,所述加熱絲設(shè)置于所述加熱室。
在本實用新型實施例較佳的選擇中,上述所述反光罩包括兩端開口的中空罩體和支架,所述支架與所述罩體的一端連接。
在本實用新型實施例較佳的選擇中,上述所述設(shè)備本體還包括開設(shè)有多個第二通孔的蓋體,所述蓋體安裝于遠離所述底座的所述加熱室的一端。
在本實用新型實施例較佳的選擇中,上述所述加熱絲繞設(shè)于所述加熱室的外部。
在本實用新型實施例較佳的選擇中,上述所述加熱室的外壁開設(shè)有用于放置所述加熱絲的凹槽。
在本實用新型實施例較佳的選擇中,上述所述底座設(shè)置有第三通孔,所述加熱絲繞設(shè)于所述加熱室的內(nèi)壁,且通過所述第二通孔延伸至所述加熱室外。
在本實用新型實施例較佳的選擇中,上述所述加熱絲內(nèi)嵌于所述加熱室的側(cè)壁,且所述加熱絲的兩端穿透所述側(cè)壁,并延伸至所述加熱室外。
在本實用新型實施例較佳的選擇中,上述所述底座設(shè)置有加熱絲。
在本實用新型實施例較佳的選擇中,上述所述加熱絲為鎢絲。
一種蒸鍍系統(tǒng),所述蒸鍍系統(tǒng)包括監(jiān)控設(shè)備和上述所述的蒸鍍設(shè)備,所述監(jiān)控設(shè)備包括檢測探頭,所述檢測探頭設(shè)置于所述第一通孔處。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型提供的蒸鍍設(shè)備和系統(tǒng),通過對該蒸鍍設(shè)備的巧妙設(shè)計,能夠提高蒸鍍效率,降低能源消耗,同時,可實現(xiàn)蒸鍍過程的有效監(jiān)控,且結(jié)構(gòu)簡單,易于操作。
進一步地,通過在蒸鍍設(shè)備上設(shè)計帶有小孔的蓋體,能夠有效避免蒸鍍過程中由于材料受熱而噴出加熱室,進而導(dǎo)致蒸鍍材料浪費的問題。
為使本實用新型的上述目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂,下文特舉較佳實施例,并配合所附附圖,作詳細說明如下。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型實施例的技術(shù)方案,下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹,應(yīng)當(dāng)理解,以下附圖僅示出了本實用新型的某些實施例,因此不應(yīng)被看作是對范圍的限定,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。
圖1A為本實用新型實施例提供的一種蒸鍍設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖1B為本實用新型實施例提供的一種蒸鍍設(shè)備的另一視角的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為圖1中所示的反光罩的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為本實用新型實施例提供的設(shè)備本體與加熱絲的位置關(guān)系示意圖。
圖4為本實用新型實施例提供的設(shè)備本體與加熱絲的另一位置關(guān)系示意圖。
圖5為本實用新型實施例提供的設(shè)備本體與加熱絲的又一位置關(guān)系示意圖。
圖6為本實用新型實施例提供的一種蒸鍍設(shè)備的另一結(jié)構(gòu)示意圖。
圖標(biāo):100-蒸鍍設(shè)備;110-反光罩;112-罩體;114-支架;120-設(shè)備本體;122-加熱室;1222-第一通孔;124-底座;130-加熱絲;140-蓋體;142-第二通孔。
具體實施方式
為使本實用新型實施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚,下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例只是本實用新型的一部分實施例,而不是全部的實施例。通常在此處附圖中描述和示出的本實用新型實施例的組件可以以各種不同的配置來布置和設(shè)計。
因此,以下對在附圖中提供的本實用新型的實施例的詳細描述并非旨在限制要求保護的本實用新型的范圍,而是僅僅表示本實用新型的選定實施例?;诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。
應(yīng)注意到:相似的標(biāo)號和字母在下面的附圖中表示類似項,因此,一旦某一項在一個附圖中被定義,則在隨后的附圖中不需要對其進行進一步定義和解釋。在本實用新型的描述中,術(shù)語“第一、第二、第三、第四等僅用于區(qū)分描述,而不能理解為只是或暗示相對重要性。
在本實用新型的描述中,除非另有明確的規(guī)定和限定,術(shù)語“設(shè)置”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解,例如,可以是固定連接,也可以是可拆卸連接,或一體地連接;可以是機械連接,也可以是電連接;可以是直接相連,也可以通過中間媒介間接相連,可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,可以具體情況理解上述術(shù)語在本實用新型中的具體含義。
請結(jié)合參閱圖1A和圖1B,本實用新型實施例提供一種蒸鍍設(shè)備100,主要用于熱蒸發(fā)真空鍍膜。其中,該蒸鍍設(shè)備100包括反光罩110、設(shè)備本體120和加熱絲130,所述設(shè)備本體120包括底座124和兩端開口的中空加熱室122,所述加熱室122上開設(shè)有第一通孔1222,所述底座124與所述加熱室122的一端連接,所述反光罩110套設(shè)于所述加熱室122,所述第一通孔1222暴露于所述反光罩110外,所述加熱絲130設(shè)置于所述加熱室122。
具體地,在蒸鍍過程中,所述反光罩110用于對所述加熱絲130產(chǎn)生的熱量進行反射、使得熱量再次聚集至所述加熱室122,以提高蒸鍍過程中熱量的利用率??蛇x地,如圖2所示,所述反光罩110包括罩體112和支架114,所述罩體112為兩端開口的中空結(jié)構(gòu),所述支架114設(shè)置于該罩體112的一端。
可選地,在實際實施時,所述反光罩110套設(shè)于所述設(shè)備本體120,且所述罩體112與所述設(shè)備本體120之間可間隔設(shè)置。其中,所述反光罩110和所述設(shè)備本體120之間可采用固定式或可拆卸式連接,也可直接套設(shè)于所述設(shè)備本體120外,以便于在實際應(yīng)用中對所述反光罩110進行靈活選用。
可選地,所述罩體112的內(nèi)表面可采用反光材料制成,以保證蒸鍍過程中的熱量最大范圍的反射至所述設(shè)備本體120。應(yīng)理解,所述反光罩110的形狀、材料、大小在此均不作限制。
可選地,在本實用新型實施例中,所述支架114可以是,但不限于如圖2所示的三角支架114。
進一步地,所述設(shè)備本體120用于放置蒸鍍材料并對其進行加熱,在本實用新型實施例中,所述設(shè)備本體120包括底座124和兩端開口的中空加熱室122,所述底座124安裝于所述加熱室122的一端。在開始蒸鍍時,所述蒸鍍材料通過遠離所述底座124的一端加入所述加熱室122。其中,所述底座124與所述加熱室122的一端無縫安裝,所述無縫安裝的方式可以根據(jù)實際情況進行靈活選擇,如一體成型、可拆式安裝等。
可選地,在實際實施時,所述加熱室122的尺寸大小、形狀均可根據(jù)實際情況進行靈活設(shè)計。其中,所述加熱室122采用耐高溫材料制成,如石英、氮化硼等。在實際實施時,所述加熱室122的材料可根據(jù)待蒸鍍材料進行靈活選擇。
進一步地,通過所述蒸鍍設(shè)備100對蒸鍍材料進行加熱的過程中,采用所述加熱絲130加熱的方式實現(xiàn)。所述加熱絲130設(shè)置于所述加熱室122,其中,所述加熱絲130與所述加熱室122之間的位置關(guān)系根據(jù)實際過程中對蒸鍍材料的選擇以及其他因素大體分為以下幾種。
(1)所述加熱絲130繞設(shè)于所述加熱室122的外部。
具體地,在進行金屬等材料的蒸鍍時,為避免蒸鍍過程中,可能發(fā)生蒸鍍材料與所述加熱絲130之間粘連等情況,從而造成加熱絲130的損壞等問題出現(xiàn),因此,如圖3所示,所述加熱絲130可均勻繞設(shè)于所述加熱室122的外表面,以避免所述加熱絲130與所述蒸鍍材料不發(fā)生直接接觸,例如,所述加熱絲130呈“Z”字形繞設(shè)于所述加熱絲130的外表面。
可選地,為保證所述加熱絲130與所述加熱室122外表面的充分接觸,以及二者之間的位置相對固定,所述加熱室122的外壁可開設(shè)用于放置所述加熱絲130的凹槽。
(2)所述加熱絲130繞設(shè)于所述加熱室122的內(nèi)壁。
具體地,如圖4所示(圖4b為圖4a的剖面結(jié)構(gòu)示意圖),當(dāng)蒸鍍材料為有機材料時,為了充分利用所述加熱絲130發(fā)出的熱量,所述加熱絲130可均勻設(shè)置于所述加熱室122的內(nèi)壁,并與蒸鍍材料直接接觸,其中,所述底座124設(shè)置有第三通孔,所述加熱絲130繞設(shè)于所述加熱室122的內(nèi)壁,且通過所述第三通孔延伸至所述加熱室122外。應(yīng)注意,所述第三通孔的位置可以位于,但不限于所述底座124。
(3)所述加熱絲130內(nèi)嵌于所述加熱室122的側(cè)壁。
具體地,如圖5所示(圖5b為圖5a的剖面結(jié)構(gòu)示意圖),若在加熱過程中,對蒸鍍材料的受熱均勻度要求較高,所述加熱絲130可內(nèi)嵌于所述加熱室122的側(cè)壁,且所述加熱絲130的兩端穿透所述側(cè)壁,并延伸至所述加熱室122外。例如,當(dāng)所述加熱室122為陶瓷材料制備,可將所述加熱絲130燒結(jié)在所述加熱室122的側(cè)壁內(nèi)部,使得所述加熱絲130與所述加熱室122的側(cè)壁充分接觸,同時,將所述加熱絲130內(nèi)嵌于所述加熱室122側(cè)壁的方式也進一步地增強了所述加熱絲130與所述加熱室122之間的牢固性。
應(yīng)理解,在本實用新型實施例中,所述加熱絲130與所述加熱室122的實際設(shè)置位置可以是,但不限于上述所述(1)-(3)中任一種。在實際實施時,所述加熱絲130也可對所述設(shè)備本體120起到支撐作用。
進一步地,為了增大所述加熱絲130與所述設(shè)備本體120的接觸面積,提高蒸鍍效率,保證加熱室122內(nèi)部的蒸鍍材料受熱均勻,所述底座124上也可均勻的設(shè)置有加熱絲130。其中,設(shè)置于所述底座124上的所述加熱絲130與設(shè)置于所述加熱室122的所述加熱絲130可以為一體成型,也可分別獨立設(shè)置。
進一步地,在本實用新型實施例中,所述加熱絲130可以是,但不限于為鎢絲,所述加熱絲130可根據(jù)加熱過程中的實際溫度需求以及發(fā)熱速度等情況進行靈活選擇。其中,所述加熱絲130的長度、形狀,在本實用新型實施例均不做限制。
進一步地,由于所述加熱室122的體積較大,裝載的蒸鍍材料一般較多,造成在對所述蒸鍍設(shè)備100加熱過程中,蒸鍍材料受熱之后出現(xiàn)大塊蒸鍍材料噴出所述加熱室122,導(dǎo)致蒸鍍材料浪費,同時,也存在一定的安全隱患,因此,針對上述問題,如圖6所示,所述設(shè)備本體120還包括開設(shè)有多個第二通孔142的蓋體140,所述蓋體140安裝于遠離所述底座124的所述加熱室122的一端。
具體地,所述多個第二通孔142均勻的設(shè)置于所述蓋體140上,使得在蒸鍍過程中,所述蒸鍍材料可以均勻地通過多個所述第二通孔142蒸鍍出所述加熱室122外,而不會出現(xiàn)蒸鍍材料噴出,可有效避免對蒸鍍材料的浪費。其中,所述第二通孔142的大小、數(shù)量、形狀在本實用新型實施例中不作限制。
可選地,為方便所述蒸鍍材料通過遠離所述底座124的一端加入所述加熱室122內(nèi),所述蓋體140與所述加熱室122之間采用非固定式安裝,例如,可拆卸式、通過水平轉(zhuǎn)軸或垂直轉(zhuǎn)軸連接。其中,在本實用新型實施例中,所述蓋體140的材料、大小、形狀均可根據(jù)實際情況進行靈活選擇。
進一步地,為了實現(xiàn)對所述蒸鍍設(shè)備100內(nèi)部的蒸鍍速率等進行實時、快速的監(jiān)控,所述加熱室122上開設(shè)有第一通孔1222,在本實用新型實施例中,通過位于所述第一通孔1222處的監(jiān)控設(shè)備實現(xiàn)對蒸鍍過程的有效監(jiān)控和控制。
在實際實施時,可在所述加熱室122的不同位置開設(shè)多個所述第一通孔1222,以實現(xiàn)對蒸鍍過程的多方位監(jiān)測,保證蒸鍍效果。其中,多個所述第一通孔1222的大小、形狀、位置在本實用新型實施例中均不做限制。應(yīng)注意,所述第一通孔1222暴露于所述反光罩110外。
本實用新型實施例還提供一種蒸鍍系統(tǒng),該蒸鍍系統(tǒng)包括監(jiān)控設(shè)備和上述蒸鍍設(shè)備100。其中,所述監(jiān)控設(shè)備包括檢測探頭,所述檢測探頭設(shè)置于所述第一通孔1222處??蛇x地,所述監(jiān)控設(shè)備可以為膜厚儀。
具體地,所述檢測探頭用于監(jiān)測蒸鍍過程中蒸鍍材料的速率和厚度,并根據(jù)實際監(jiān)測結(jié)果進行實時調(diào)整。因此,所述檢測探頭設(shè)置于所述第一通孔1222的外側(cè),且對準(zhǔn)所述第一通孔1222。
可選地,為了提高監(jiān)控過程的精確度,所述檢測探頭可以為多個。其中,所述檢測探頭的類型可以選擇用于速率檢測的專用探頭,如速率傳感器等,本實用新型實施例在此不再贅述。
綜上所述,本實用新型提供一種蒸鍍設(shè)備100和系統(tǒng),其中,通過該蒸鍍設(shè)備100的巧妙設(shè)計,能夠有效降低蒸鍍過程中的能源浪費,提高蒸鍍效率,且保證加熱室122受熱均勻。
同時,通過檢測設(shè)備和設(shè)置于加熱室122上的第一通孔1222,實現(xiàn)了對蒸鍍設(shè)備100中的蒸鍍狀態(tài)的實時監(jiān)控。
顯然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明白,上述的本實用新型實施例的功能可以用通用的計算裝置來實現(xiàn),它們可以集中在單個的計算裝置上,或者分布在多個計算裝置所組成的網(wǎng)絡(luò)上,可選地,它們可以用計算裝置可執(zhí)行的現(xiàn)有程序代碼或算法來實現(xiàn),從而,可以將它們存儲在存儲裝置中由計算裝置來執(zhí)行,或者將它們分別制作成各個集成電路模塊,或者將它們中的多個模塊或步驟制作成單個集成電路模塊來實現(xiàn)。這樣,本實用新型的功能實現(xiàn)不限制于任何特定的硬件和軟件結(jié)合。
以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已,并不用于限制本實用新型,對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說,本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進等,均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。