1.一種雙面真空薄膜鍍鋁裝置，其特征在于，所述的雙面真空薄膜鍍鋁裝置包括真空室，真空室內(nèi)設(shè)置有開卷機(jī)、收卷機(jī)、片狀基材、第一冷卻滾筒、第一鋁蒸鍍源、第二鋁蒸鍍源、第二冷卻滾筒、氣體噴嘴和隔板，所述隔板將真空室分隔成上層和下層，第一鋁蒸鍍源和第二鋁蒸鍍源位于下層，開卷機(jī)、收卷機(jī)和氣體噴嘴位于上層；隔板上設(shè)置有兩個平行的條形孔，第一冷卻滾筒和第二冷卻滾筒分別位于其中一個條形孔內(nèi)，開卷機(jī)、第一冷卻滾筒、第二冷卻滾筒和收卷機(jī)組成傳動系統(tǒng)，片狀基材設(shè)置在該傳動系統(tǒng)上；開卷機(jī)的旋轉(zhuǎn)方向與第一冷卻滾筒的旋轉(zhuǎn)方向相反；第一冷卻滾筒的旋轉(zhuǎn)方向與第二冷卻滾筒的旋轉(zhuǎn)方向相反；第二冷卻滾筒的旋轉(zhuǎn)方向與收卷機(jī)的旋轉(zhuǎn)方向相反；第一鋁蒸鍍源設(shè)置在第一冷卻滾筒的正下方；第二鋁蒸鍍源設(shè)置在第二冷卻滾筒的正下方；第一鋁蒸鍍源與第一冷卻滾筒的下表面上的片狀基材的正面相對；第二鋁蒸鍍源與第二冷卻滾筒的下表面上的片狀基材的反面相對。
2.如權(quán)利要求1所述的雙面真空薄膜鍍鋁裝置，其特征在于，所述的氣體噴嘴設(shè)置在收卷機(jī)的斜上方，氣體噴嘴與氧化氣體配管連接，所述的氧化氣體配管上設(shè)置有流量閥。
3.如權(quán)利要求1所述的雙面真空薄膜鍍鋁裝置，其特征在于，所述的第一冷卻滾筒和第二冷卻滾筒的溫度維持在-10℃至-15℃之間。
4.如權(quán)利要求1所述的雙面真空薄膜鍍鋁裝置，其特征在于，所述的第一冷卻滾筒和第二冷卻滾筒的旋轉(zhuǎn)速度維持在300至900厘米/秒之間。
5.如權(quán)利要求1所述的雙面真空薄膜鍍鋁裝置，其特征在于，所述真空室內(nèi)的壓力維持在2.66×10-5KPa至2.66×10-6KPa之間。