国产精品1024永久观看,大尺度欧美暖暖视频在线观看,亚洲宅男精品一区在线观看,欧美日韩一区二区三区视频,2021中文字幕在线观看

  • <option id="fbvk0"></option>
    1. <rt id="fbvk0"><tr id="fbvk0"></tr></rt>
      <center id="fbvk0"><optgroup id="fbvk0"></optgroup></center>
      <center id="fbvk0"></center>

      <li id="fbvk0"><abbr id="fbvk0"><dl id="fbvk0"></dl></abbr></li>

      表面處理銅箔的制作方法_4

      文檔序號(hào):8334362閱讀:來源:國知局
      浴、氰化鋅電鍍浴、硫酸鋅電鍍浴等。更詳細(xì)地,就采用焦磷酸鋅 電鍍浴的情況而言,可采用鋅濃度為5g/l~30g/l、焦磷酸鉀濃度為50g/l~500g/l、pH 為9~12的浴液組成,在液溫為20°C~50°C的溶液中將銅箔自身設(shè)為陰極,在電流密度為 0. 3A/dm2~10A/dm2的條件下進(jìn)行電解,從而在銅箔表面形成鋅層。
      [0085]其次,對(duì)采用電解電鍍法形成由鋅層與異種金屬層構(gòu)成的"兩層結(jié)構(gòu)的鋅系復(fù)合 層"的情況進(jìn)行說明。此時(shí),由于在銅箔與鋅層之間或在鋅層的表面設(shè)置異種金屬層,因此 對(duì)于銅箔的表面首先通過電鍍法形成"錫層、鎘層、銻層、鉍層、銦層、鉛層中任意一層"。并 且,隨后,在異種金屬層之上形成鋅層。關(guān)于此時(shí)的鋅層的形成方法,可以采用與上述同樣 的方法。以下,對(duì)作為異種金屬層的"錫層"、"鎘層"、"銻層"、"鉍層"、"銦層"、"鉛層"的形 成方法進(jìn)行說明。
      [0086] 作為異種金屬層形成錫層時(shí),可采用作為錫電鍍液能夠使用的電鍍?nèi)芤杭半婂儣l 件。例如,采用"采用硫酸亞錫并使錫濃度為5g/l~30g/l、液溫為20°C~50°C、pH為2~ 4、電流密度為0. 3A/dm2~10A/dm2"的條件,或采用"采用硫酸亞錫并使錫濃度為20g/l~ 40g/l、硫酸濃度為70g/l~150g/l、甲酯磺酸為70g/l~120g/l、明膠為lg/1~5g/l、 0 -萘酚為0. 5g/l~2g/l、液溫為20°C~35°C、電流密度為0. 3A/dm2~3A/dm2"的條件 等。
      [0087] 作為異種金屬層形成鎘層時(shí),可采用作為鎘電鍍液能夠使用的電鍍?nèi)芤杭半婂儣l 件。例如,已知有氰化鎘浴、氟硼酸鎘浴、硫酸鎘浴等,采用"氰化鎘浴"時(shí)的鎘濃度為20g/ 1~50g/l、液溫為20°C~30°C、電流密度為lA/dm2~6A/dm2的條件,或采用"硫酸鎘浴"時(shí) 的鎘濃度為5g/l~50g/l、液溫為20°C~50°C、電流密度為0. 2A/dm2~5A/dm2的條件等。
      [0088] 作為異種金屬層形成銻層時(shí),可采用作為銻電鍍液能夠使用的電鍍?nèi)芤杭半婂儣l 件。例如,已知有酒石酸銻鉀浴等,采用銻濃度為l〇g/l~50g/l、液溫為30°C~50°C、電流 密度為0. 2A/dm2~lA/dm2的條件等。
      [0089] 作為異種金屬層形成鉍層時(shí),可采用作為鉍電鍍液能夠使用的電鍍?nèi)芤杭半婂儣l 件。例如,采用硫酸鉍并使鉍濃度為2g/l~5g/l、液溫為30°C~50°C、電流密度為0. 05A/ dm2~lA/dm2的條件等。
      [0090] 作為異種金屬層形成銦層時(shí),可采用作為銦電鍍液能夠使用的電鍍?nèi)芤杭半婂儣l 件。例如,已知有氟硼酸銦浴或硫酸銦浴等,采用"硫酸銦浴"時(shí)的銦濃度為20g/l~35g/ 1、液溫為20°C~40°C、電流密度為0. 5A/dm2~4A/dm2的條件等。
      [0091] 作為異種金屬層形成鉛層時(shí),可采用作為鉛電鍍液能夠使用的電鍍?nèi)芤杭半婂儣l 件。例如,采用氟硼酸鉛為250g/l~400g/l、氟硼酸為30g/l~50g/l、硼酸為10g/l~ 3〇g/l、膠為 〇?lg/1 ~〇.5g/l、萘酚為 0?lg/1 ~l.Og/1、液溫為 25°C~50°C、電流密 度為lA/dm2~5A/dm2的條件等。
      [0092] 鍍鉻處理的方法:該鍍鉻處理層的形成不是必須的,是基于對(duì)于銅箔所要求的防 銹能力等的考慮而適宜加以實(shí)施的處理??梢圆捎秒娊忮冦t處理和非電解鍍鉻處理中的任 意一種方法進(jìn)行該鍍鉻處理,但是,考慮到鍍鉻皮膜的厚度均勻程度、附著量的穩(wěn)定性等, 優(yōu)選采用電解鍍鉻處理。對(duì)于實(shí)施該電解鍍鉻處理時(shí)的電解條件沒有特殊的限定,但優(yōu)選 采用鉻酸濃度為2g/l~7g/l、pH為10~12的溶液,及液溫為30°C~40°C、電流密度為 1~8A/dm2的電解條件,從而使鍍鉻處理層均勻地覆蓋在電解銅箔的表面。
      [0093] 有機(jī)試劑處理的方法:這里提到的有機(jī)試劑處理包括硅烷硅烷偶聯(lián)劑處理和有機(jī) 防銹處理。以下,依次對(duì)這些處理加以說明。
      [0094] 本發(fā)明中,硅烷偶聯(lián)劑處理不是必須的,是基于對(duì)于銅箔所要求的與絕緣樹脂基 材或鋰離子二次電池的負(fù)極活性物質(zhì)的密合性等的考慮而適宜加以實(shí)施的處理。作為硅烷 偶聯(lián)劑,通常是以在作為溶劑的水中溶解了 〇. 3g/l~15g/l的硅烷偶聯(lián)劑溶液的形式進(jìn)行 使用。對(duì)于此時(shí)的硅烷偶聯(lián)劑的吸附方法沒有特殊的限定,可以采用浸漬法、噴淋法、噴霧 法等。在基于工序設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)上可以任意采用一種方法,從而使銅箔與含有硅烷偶聯(lián)劑的 溶液最為均勻地接觸、吸附,并形成硅烷偶聯(lián)劑處理層。
      [0095] 作為硅烷偶聯(lián)劑,可以選擇使用條徑官能性硅烷、環(huán)氧基官能性硅烷、丙條醜基官 能性硅烷、氨基官能性硅烷及巰基官能性硅烷中的任意一種。從這里列舉的硅烷偶聯(lián)劑中 選擇使用一種硅烷偶聯(lián)劑時(shí),重要的是滿足以下條件,即,滿足用在銅箔的表面時(shí)i)對(duì)印 刷電路板的蝕刻工序及印刷電路板形成后的特性不產(chǎn)生壞影響、及ii)不損害與鋰離子二 次電池的負(fù)極活性物質(zhì)的密合性的條件。
      [0096] 更具體地,可以使用乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基苯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯 酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、4-縮水甘油丁基三甲氧基 硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-2(氨基乙基)3_氨基丙基三甲氧基硅烷、N-3-(4-(3-氨 基丙氧基)丁氧基)丙基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、咪唑硅烷、三嗪硅烷、3-巰基丙基三 甲氧基硅烷等。
      [0097] 以下,對(duì)有機(jī)防銹處理進(jìn)行說明。本發(fā)明中,有機(jī)防銹處理也不是必須的,是在前 述的無機(jī)防銹處理、即"鋅層"或"兩層結(jié)構(gòu)的鋅系復(fù)合層"的基礎(chǔ)上根據(jù)需求所采用的防 銹手段。作為用于該有機(jī)防銹處理的有機(jī)試劑,可使用苯并三唑類的甲基苯并三唑(甲苯 基三唑)、氨基苯并三唑、羧基苯并三唑、苯并三唑等。作為其他有機(jī)試劑,可使用脂肪族羧 酸、烷基胺類、安息香酸類、咪唑類、三嗪硫醇類等??蓪⑦@些有機(jī)試劑的一種或兩種以上溶 解或分散在作為溶劑的水、有機(jī)溶劑、它們的混合溶劑中的任意一種溶液中后進(jìn)行使用。
      [0098] 采用以上有機(jī)防銹劑在銅箔的表面形成有機(jī)防銹層。此時(shí)的有機(jī)防銹覆膜的形成 可采用以下方法進(jìn)行,即,可采用將上述的有機(jī)防銹劑溶解在水或有機(jī)溶劑等的溶劑中,在 其中浸漬銅箔,或?qū)⒃撊芤簢娏?、噴霧、滴落在待形成有機(jī)防銹層的銅箔表面的方法等,只 要可使該溶液與銅箔表面充分接觸,就沒有必要考慮特別限定在某一種方法的問題。對(duì)于 此時(shí)的有機(jī)防銹劑濃度并沒有特殊限定,無論原有濃度高低均可以加以使用。
      [0099] 干燥工序:該干燥工序的目的在于,對(duì)在防銹處理等表面處理工序中處于濕潤狀 態(tài)的表面處理銅箔進(jìn)行干燥。并且,在形成有機(jī)試劑處理層時(shí)也需要考慮干燥條件。即,在 干燥工序中不僅僅是去除水分,在用于吸附了有機(jī)防銹劑或硅烷偶聯(lián)劑時(shí),有必要使這些 試劑在不受到破壞或分解的前提下以良好的狀態(tài)吸附固定在防銹處理層的表面,這也是為 了最大限度地發(fā)揮所使用的有機(jī)試劑的效果的緣故。出于以上考慮,在該干燥工序中優(yōu)選 在100°C~250°C的溫度條件下加熱2秒~10秒。以下,結(jié)合實(shí)施例及比較例對(duì)本發(fā)明涉 及的表面處理銅箔進(jìn)行更為詳細(xì)的說明。
      [0100] 實(shí)施例1
      [0101] 在本實(shí)施例1中,通過與后述的比較例1進(jìn)行對(duì)比來加以說明,以便對(duì)鋅層含有的 鋅量有必要設(shè)定為20mg/m2~1000mg/m2的依據(jù)能夠理解。在本實(shí)施例1中,按照以下順序 制造了表面處理銅箔,并測定了加熱處理后的拉伸強(qiáng)度等。以下,按工序順序進(jìn)行說明。
      [0102] [表面處理銅箔的制造]
      [0103] 銅箔:這里采用了三井金屬礦業(yè)株式會(huì)社制的用于制造厚度為15ym的VLP銅箔 的、未實(shí)施表面處理的電解銅箔。該電解銅箔為具有常態(tài)拉伸強(qiáng)度為55. 6kgf/mm2、陰極面 側(cè)的表面粗糙度(Ra)為0. 22ym、析出面?zhèn)鹊谋砻娲植诙龋≧a)為0. 32ym的薄型表面的銅 箔。并且,這里所用的銅箔含有19ppm的硫、55ppm的碳、lOppm的氮、54ppm的氯,且這些微 量元素的總含量為128ppm。
      [0104] 粗化處理工序:將上述銅箔浸入到游離硫酸濃度為200g/l、銅濃度為8g/l、液溫 為35°C的銅電鍍液中,將銅箔自身設(shè)為陰極,在電流密度為25A/dm2的爛花銅電鍍條件下進(jìn) 行電解,從而使微細(xì)銅粒析出附著在銅箔的陰極面?zhèn)鹊谋砻嫔稀?br>[0105] 并且,為了防止該微細(xì)銅粒的脫落,在游離硫酸濃度為110g/l、銅濃度為70g/l、 液溫為50°C的銅電鍍液
      當(dāng)前第4頁1 2 3 4 5 
      網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
      • 還沒有人留言評(píng)論。精彩留言會(huì)獲得點(diǎn)贊!
      1