支撐基座323上的基片的法線方向成一定的傾斜角α，通過調(diào)節(jié)支撐桿322的長度即可調(diào)節(jié)傾斜蒸發(fā)時的沉積角的大小(如圖5所示，圖5中示意性地示出了兩個不同的沉積角α I和α 2)。
[0061]本發(fā)明中的傾斜角沉積裝置中的旋轉(zhuǎn)架31上可連接多個基片載具32，可以在一次抽真空過程中同時對多個基片蒸發(fā)沉積，且每個基片可以調(diào)節(jié)為相同或不同的傾斜角度。因此，本發(fā)明中的傾斜角沉積蒸發(fā)系統(tǒng)具有多片蒸發(fā)、基片旋轉(zhuǎn)和每個基片的傾斜角度可調(diào)等優(yōu)點(diǎn)，這不僅有利于高溫蒸發(fā)和初期實(shí)驗(yàn)工藝條件的摸索，而且還有利于產(chǎn)能提升和生產(chǎn)成本的降低，更適用于傾斜角蒸發(fā)納米結(jié)構(gòu)薄膜的批量生產(chǎn)。
[0062]最后應(yīng)說明的是:顯然，上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說明本發(fā)明所作的舉例，而并非對實(shí)施方式的限定。對于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在上述說明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實(shí)施方式予以窮舉。而由此所引申出的顯而易見的變化或變動仍處于本發(fā)明的保護(hù)范圍之中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，用于對基片進(jìn)行傾斜蒸發(fā)沉積，其特征在于，包括動力機(jī)構(gòu)、沉積蒸發(fā)傳動裝置和真空蒸發(fā)器， 所述動力機(jī)構(gòu)與所述沉積蒸發(fā)傳動裝置相連接，用于驅(qū)動所述沉積蒸發(fā)傳動裝置轉(zhuǎn)動； 所述真空蒸發(fā)器位于所述沉積蒸發(fā)傳動裝置的下方；所述真空蒸發(fā)器的蒸發(fā)源面向所述沉積蒸發(fā)傳動裝置放置，所述蒸發(fā)源的縱向中心線與基片所在平面平行。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于， 所述沉積蒸發(fā)傳動裝置包括旋轉(zhuǎn)架、基片載具和軌道， 所述旋轉(zhuǎn)架的一端與所述動力機(jī)構(gòu)相連接，所述基片載具連接在所述旋轉(zhuǎn)架的另外一端，所述基片載具可隨所述旋轉(zhuǎn)架的轉(zhuǎn)動實(shí)現(xiàn)沿所述軌道的公轉(zhuǎn)以及繞自身縱向軸線的自轉(zhuǎn)，所述基片裝載于基片載具上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述動力機(jī)構(gòu)包括電機(jī)和傳動部，所述沉積蒸發(fā)傳動裝置通過所述傳動部與所述電機(jī)相連接。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述傳動部包括多組齒輪副，所述齒輪副包括由主動錐齒輪、從動錐齒輪構(gòu)成的齒輪副、由主動小齒輪和從動大齒輪構(gòu)成的齒輪副；所述主動錐齒輪和電機(jī)的輸出軸相連接，所述從動錐齒輪和主動錐齒輪相嚙合，所述從動錐齒輪和所述小齒輪同軸，所述大齒輪與所述小齒輪嚙合，所述旋轉(zhuǎn)架的一端與所述大齒輪相連接。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)架包括動力連接部和支臂，所述動力連接部的上端與所述動力機(jī)構(gòu)相連接，所述支臂的一端連接在所述動力連接部的徑向外緣上。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述支臂設(shè)置有多個，為桿狀，其一端連接在所述動力連接部的外緣上，另外一端位于靠近所述軌道的位置，在所述支臂靠近所述軌道的一端設(shè)置有基片載具安裝部。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，在所述基片載具安裝部上設(shè)置有通孔，用于安裝所述基片載具。8.根據(jù)權(quán)利要求2或6所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述基片載具包括滾輪、支撐桿和支撐基座，所述滾輪和支撐基座分別連接在所述支撐桿的兩端，所述支撐基座用于放置基片。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述支撐基座位于所述軌道的徑向內(nèi)側(cè)，所有基片載具的支撐桿在同一個平面上，該平面與所述軌道所在的平面共面或平行。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述支撐桿與所述支撐基座上放置的基片所在平面垂直。11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述滾輪、支撐基座和支撐桿之間均為固定連接。12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述滾輪和/或所述支撐基座設(shè)置成包括大小不同的可替換的一系列。13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述支撐桿的長度可以調(diào)節(jié)。14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述支撐基座包括圓環(huán)和支架，所述支架包括多個分支，多個分支的一端相交，其交點(diǎn)位于所述圓環(huán)的縱向中心線上，并與所述圓環(huán)的圓心相距一定距離，該相交的端部與所述支撐桿的端部進(jìn)行連接，多個分支的另外一端固定到所述圓環(huán)上。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述支架的多個分支在圓環(huán)的周向上呈不均勻分布，在其中的兩個分支之間形成有較大的開口。16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，在所述圓環(huán)上設(shè)置有固定部，該固定部在所述圓環(huán)的內(nèi)緣沿所述圓環(huán)的徑向向內(nèi)延伸形成。17.根據(jù)權(quán)利要求3所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，還包括真空腔外殼，所述真空腔外殼的內(nèi)腔構(gòu)成真空腔，所述沉積蒸發(fā)傳動裝置和真空蒸發(fā)器位于所述真空腔內(nèi)，所述電機(jī)位于所述真空腔的外部。18.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述基片載具為多個。19.一種沉積蒸發(fā)系統(tǒng)的傳動裝置，其特征在于，所述傳動裝置包括旋轉(zhuǎn)架、基片載具和軌道，所述基片載具連接在所述旋轉(zhuǎn)架的一端，所述基片載具可隨所述旋轉(zhuǎn)架的轉(zhuǎn)動實(shí)現(xiàn)沿所述軌道的公轉(zhuǎn)以及繞自身縱向軸線的自轉(zhuǎn)，基片位于所述基片載具上。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的傳動裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)架包括動力連接部和支臂，所述動力連接部的上端與動力機(jī)構(gòu)相連接，所述支臂的一端連接在所述動力連接部的徑向外緣上。21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的傳動裝置，其特征在于，所述支臂設(shè)置有多個，為桿狀，其一端連接在所述動力連接部的外緣上，另外一端位于靠近所述軌道的位置，在所述支臂靠近所述軌道的一端設(shè)置有基片載具安裝部。22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的傳動裝置，其特征在于，在所述基片載具安裝部上設(shè)置有通孔，用于安裝所述基片載具。23.根據(jù)權(quán)利要求19或22所述的傳動裝置，其特征在于，所述基片載具包括滾輪、支撐桿和支撐基座，所述滾輪和支撐基座分別連接在所述支撐桿的兩端，所述支撐基座用于放置基片。24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的傳動裝置，其特征在于，所述支撐基座位于所述軌道的徑向內(nèi)側(cè)，所有基片載具的支撐桿在同一個平面上，該平面與所述軌道所在的平面共面或平行。25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的傳動裝置，其特征在于，所述支撐桿與所述支撐基座上放置的基片所在平面垂直。26.根據(jù)權(quán)利要求23所述的傳動裝置，其特征在于，所述滾輪、支撐基座和支撐桿之間均為固定連接。27.根據(jù)權(quán)利要求23所述的傳動裝置，其特征在于，所述滾輪和/或所述支撐基座設(shè)置成包括大小不同的可替換的一系列。28.根據(jù)權(quán)利要求23所述的傳動裝置，其特征在于，所述支撐桿的長度可以調(diào)節(jié)。29.根據(jù)權(quán)利要求23所述的傳動裝置，其特征在于，所述支撐基座包括圓環(huán)和支架，所述支架包括多個分支，多個分支的一端相交，其交點(diǎn)位于所述圓環(huán)的縱向中心線上，并與所述圓環(huán)的圓心相距一定距離，該相交的端部與所述支撐桿的端部進(jìn)行連接，多個分支的另外一端固定到所述圓環(huán)上。30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的傳動裝置，其特征在于，所述支架的多個分支在圓環(huán)的周向上呈不均勻分布，在其中的兩個分支之間形成有較大的開口。31.根據(jù)權(quán)利要求29所述的傳動裝置，其特征在于，在所述圓環(huán)上設(shè)置有固定部，該固定部在所述圓環(huán)的內(nèi)緣沿所述圓環(huán)的徑向向內(nèi)延伸形成。32.根據(jù)權(quán)利要求19所述的傳動裝置，其特征在于，所述基片載具有多個。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種沉積蒸發(fā)系統(tǒng)以及沉積蒸發(fā)系統(tǒng)的傳動裝置，沉積蒸發(fā)系統(tǒng)用于對基片進(jìn)行傾斜蒸發(fā)沉積，包括動力機(jī)構(gòu)、沉積蒸發(fā)傳動裝置和真空蒸發(fā)器，所述動力機(jī)構(gòu)與所述沉積蒸發(fā)傳動裝置相連接，用于驅(qū)動所述沉積蒸發(fā)傳動裝置轉(zhuǎn)動；所述真空蒸發(fā)器位于所述沉積蒸發(fā)傳動裝置的下方；所述真空蒸發(fā)器的蒸發(fā)源面向所述沉積蒸發(fā)傳動裝置放置，所述蒸發(fā)源的縱向中心線與基片所在平面平行。本發(fā)明提供的沉積蒸發(fā)系統(tǒng)具有多片蒸發(fā)、每個基片旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)和每個基片的傾斜角度可調(diào)等優(yōu)點(diǎn)，可有利于產(chǎn)能提升和生產(chǎn)成本的降低，更適用于傾斜角蒸發(fā)納米結(jié)構(gòu)薄膜的批量生產(chǎn)。
【IPC分類】C23C14/50, C23C14/24
【公開號】CN104911547
【申請?zhí)枴緾N201510349888
【發(fā)明人】樂仲, 孫福河, 聞永祥, 曹永輝
【申請人】杭州士蘭集成電路有限公司
【公開日】2015年9月16日
【申請日】2015年6月19日