置)進(jìn)行蒸鍍，同時(shí)第四方向(圓角正方形另一直邊所在位置)進(jìn)行基板的投入取出動(dòng)作，從而提高蒸發(fā)源5的蒸鍍時(shí)間，減少蒸發(fā)材料的浪費(fèi)。
[0039]此外，在蒸發(fā)源5出現(xiàn)蒸鍍速率不穩(wěn)定時(shí)，可以將其收縮至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8的中心位置；待到其速率穩(wěn)定時(shí)，再運(yùn)動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8的頂點(diǎn)位置進(jìn)行成膜，從而提高了整個(gè)真空蒸鍍系統(tǒng)的利用率和容錯(cuò)率。
[0040]其中，蒸發(fā)源5的形式并不局限，可以為點(diǎn)源式(蒸發(fā)出口為圓狀)，也可以為線源式(蒸發(fā)出口為直線狀)。當(dāng)蒸發(fā)源5為線源式時(shí)，在蒸發(fā)源5的下方設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)架，轉(zhuǎn)動(dòng)架用于帶動(dòng)蒸發(fā)源5在蒸鍍過(guò)程中始終垂直于基臺(tái)導(dǎo)軌9，也就是說(shuō)，蒸發(fā)源5每次經(jīng)過(guò)蒸鍍區(qū)域2時(shí)，都需要使直線狀的蒸發(fā)出口與基臺(tái)導(dǎo)軌9相互垂直，從而增大蒸鍍范圍，提高蒸鍍效率。
[0041 ] 該真空蒸鍍裝置還包括晶振片4和擋板3，晶振片4沿蒸發(fā)源5的開(kāi)口方向傾斜設(shè)置，用于檢測(cè)蒸發(fā)源5的蒸鍍速率；擋板3位于晶振片4與蒸發(fā)源5之間，用于阻止蒸發(fā)源5的蒸鍍材料損傷晶振片4，延長(zhǎng)使用壽命。當(dāng)然，擋板3上也設(shè)有擋板開(kāi)口，在晶振片4檢測(cè)蒸鍍速率時(shí)，該擋板開(kāi)口允許蒸鍍材料通過(guò)，從而提高測(cè)量精度。而且，該晶振片4也可通過(guò)支架等設(shè)備滑動(dòng)安裝于基臺(tái)導(dǎo)軌9上，可與蒸發(fā)源5 —起運(yùn)動(dòng)。
[0042]該真空蒸鍍裝置還包括真空泵7，真空泵7通過(guò)抽氣管道6與真空腔室I連接，用于為蒸鍍過(guò)程提供真空環(huán)境。
[0043]該真空蒸鍍裝置還包括驅(qū)動(dòng)裝置10，驅(qū)動(dòng)裝置10用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，驅(qū)動(dòng)裝置10的形式并不局限，例如；可采用電機(jī)驅(qū)動(dòng)，提高自動(dòng)化程度。
[0044]此外，本發(fā)明還提供一種應(yīng)用上述真空蒸鍍裝置的蒸鍍方法，包括如下步驟:
[0045]S1、將蒸發(fā)材料裝載于各個(gè)蒸發(fā)源中，該蒸發(fā)材料可為同一材料，也可為不同材料。初始狀態(tài)時(shí)，蒸發(fā)源均處于旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的中心位置，以三個(gè)蒸發(fā)源為例說(shuō)明:如圖3所示，第一蒸發(fā)源、第二蒸發(fā)源和第三蒸發(fā)源均收縮于旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的中心位置。
[0046]S2、將蒸發(fā)速率最先穩(wěn)定的蒸發(fā)源移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的頂點(diǎn)位置，將待蒸鍍的基板分別放置在各個(gè)蒸鍍區(qū)域內(nèi)，其中不包括該最先穩(wěn)定蒸發(fā)源上方所對(duì)應(yīng)的蒸鍍區(qū)域；也就是說(shuō)，該最先穩(wěn)定蒸發(fā)源正對(duì)上方的一個(gè)蒸鍍區(qū)域是不放置基板的，其余的蒸鍍區(qū)域需要放置基板。而且，其余蒸鍍區(qū)域均在該最先穩(wěn)定蒸發(fā)源位于該蒸發(fā)區(qū)域與上一蒸發(fā)區(qū)域間隙時(shí)，投入待蒸鍍的基板；
[0047]如圖4所示，假設(shè)第一蒸發(fā)源為速率最先穩(wěn)定的蒸發(fā)源，將第一蒸發(fā)源移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的頂點(diǎn)位置，第二蒸發(fā)源和第三蒸發(fā)源保持不動(dòng)；第一蒸發(fā)源即將經(jīng)過(guò)的下一蒸鍍區(qū)域作為第一取放窗口，投放待蒸鍍的基板，而其余蒸鍍區(qū)域均在該蒸發(fā)源位于該蒸發(fā)區(qū)域與上一蒸發(fā)區(qū)域間隙時(shí)，投入待蒸鍍的基板。
[0048]S3、啟動(dòng)旋轉(zhuǎn)基臺(tái)，使該最先穩(wěn)定蒸發(fā)源依次經(jīng)過(guò)各個(gè)蒸鍍區(qū)域的下方，實(shí)現(xiàn)同時(shí)在不同方向上對(duì)多個(gè)待蒸鍍的基板進(jìn)行蒸鍍作業(yè)；蒸鍍完畢后各蒸鍍區(qū)域?qū)⒁淹瓿烧翦兊幕迦〕觯⒎湃胄碌拇翦兊幕宓却乱淮握翦冏鳂I(yè)；
[0049]如圖5所示，旋轉(zhuǎn)基臺(tái)開(kāi)始旋轉(zhuǎn)，帶動(dòng)第一蒸發(fā)源依次經(jīng)過(guò)各個(gè)蒸鍍區(qū)域的下方，實(shí)現(xiàn)同時(shí)在不同方向上對(duì)多個(gè)待蒸鍍的基板進(jìn)行蒸鍍作業(yè)。當(dāng)然，蒸鍍完畢后各蒸鍍區(qū)域取放窗口可將已完成蒸鍍的基板取出。
[0050]S4、對(duì)于蒸發(fā)速率陸續(xù)穩(wěn)定的其他蒸發(fā)源，在對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)基臺(tái)頂點(diǎn)位于兩個(gè)蒸鍍區(qū)域的間隙時(shí)，將其移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)上對(duì)應(yīng)的頂點(diǎn)處，直至所有蒸發(fā)源均參與蒸鍍作業(yè)為止。
[0051]如圖6所示，當(dāng)?shù)诙舭l(fā)源和第三蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率也相繼穩(wěn)定時(shí)，在旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的頂點(diǎn)位于兩個(gè)蒸鍍區(qū)域的間隙時(shí)，分別將其移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)上對(duì)應(yīng)的頂點(diǎn)處。具體說(shuō)明為:當(dāng)?shù)诙舭l(fā)源對(duì)應(yīng)的基臺(tái)頂點(diǎn)位于兩個(gè)蒸鍍區(qū)域的間隙時(shí)，在這段空隙時(shí)間內(nèi)迅速將其移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)上對(duì)應(yīng)的頂點(diǎn)處；同理，當(dāng)?shù)谌舭l(fā)源對(duì)應(yīng)的基臺(tái)頂點(diǎn)位于兩個(gè)蒸鍍區(qū)域的間隙時(shí)，在這段空隙時(shí)間內(nèi)迅速將其移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)上對(duì)應(yīng)的頂點(diǎn)處，這樣可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)作業(yè)。
[0052]該蒸鍍方法還包括如下步驟:
[0053]S5、在蒸鍍作業(yè)過(guò)程中，若其中某一蒸發(fā)源出現(xiàn)速率不穩(wěn)定或其他故障，則控制在該蒸發(fā)源在旋轉(zhuǎn)至兩個(gè)蒸鍍區(qū)域的間隙時(shí)沿將其移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的中心處進(jìn)行維修，而剛完成的基板可視情況判定為不良；待該蒸發(fā)源速率穩(wěn)定并且旋轉(zhuǎn)基臺(tái)對(duì)應(yīng)該蒸發(fā)源的頂點(diǎn)位于兩個(gè)蒸鍍區(qū)域的間隙時(shí)，再運(yùn)動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的頂點(diǎn)進(jìn)行蒸鍍作業(yè)。
[0054]綜上所述，本發(fā)明提供一種真空蒸鍍裝置，將旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的形狀設(shè)計(jì)為勒洛三角形，該旋轉(zhuǎn)基臺(tái)可帶動(dòng)蒸發(fā)源依次經(jīng)過(guò)多個(gè)蒸鍍區(qū)域的下方，使得蒸發(fā)源可同時(shí)在多個(gè)方向蒸鍍作業(yè)，提高成膜的均一性以及對(duì)蒸發(fā)材料的利用率，利于推廣與應(yīng)用。
[0055]本發(fā)明的實(shí)施例是為了示例和描述起見(jiàn)而給出的，而并不是無(wú)遺漏的或者將本發(fā)明限于所公開(kāi)的形式。很多修改和變化對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言是顯而易見(jiàn)的。選擇和描述實(shí)施例是為了更好說(shuō)明本發(fā)明的原理和實(shí)際應(yīng)用，并且使本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明從而設(shè)計(jì)適于特定用途的帶有各種修改的各種實(shí)施例。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種真空蒸鍍裝置，其特征在于，包括:真空腔室及在所述真空腔室內(nèi)自下而上依次設(shè)置的旋轉(zhuǎn)基臺(tái)、蒸發(fā)源及多個(gè)蒸鍍區(qū)域；所述旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的形狀為勒洛三角形，且其在水平面的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡為圓角正方形；所述蒸鍍區(qū)域沿所述旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡間隔設(shè)置；所述蒸發(fā)源在旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的帶動(dòng)下依次經(jīng)過(guò)所述蒸鍍區(qū)域的下方。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述真空腔室內(nèi)設(shè)有基臺(tái)導(dǎo)軌，所述基臺(tái)導(dǎo)軌的形狀為圓角正方形，且位于旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的外側(cè)；所述旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的頂點(diǎn)分別與基臺(tái)導(dǎo)軌滑動(dòng)連接。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，在所述旋轉(zhuǎn)基臺(tái)上且位于其中心與頂點(diǎn)之間設(shè)有蒸發(fā)源導(dǎo)軌，所述蒸發(fā)源沿所述蒸發(fā)源導(dǎo)軌方向滑動(dòng)。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸發(fā)源為點(diǎn)源式。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸發(fā)源為線源式；在所述蒸發(fā)源的下方設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)架，所述轉(zhuǎn)動(dòng)架用于帶動(dòng)所述蒸發(fā)源在蒸鍍過(guò)程中始終垂直于基臺(tái)導(dǎo)軌。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，還包括晶振片和擋板，所述晶振片沿所述蒸發(fā)源的開(kāi)口方向傾斜設(shè)置，用于檢測(cè)蒸發(fā)源的蒸鍍速率；所述擋板位于晶振片與蒸發(fā)源之間。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，還包括真空泵，所述真空泵通過(guò)抽氣管道與所述真空腔室連接。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，還包括驅(qū)動(dòng)裝置，所述驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)基臺(tái)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)。9.一種根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的真空蒸鍍裝置的蒸鍍方法，其特征在于，包括如下步驟: S1、將蒸發(fā)材料裝載于各個(gè)蒸發(fā)源中，并使蒸發(fā)源均處于旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的中心位置； S2、將蒸發(fā)速率最先穩(wěn)定的蒸發(fā)源移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的頂點(diǎn)位置，將待蒸鍍的基板分別放置在各個(gè)蒸鍍區(qū)域內(nèi)，其中不包括該最先穩(wěn)定蒸發(fā)源上方所對(duì)應(yīng)的蒸鍍區(qū)域； S3、啟動(dòng)旋轉(zhuǎn)基臺(tái)，使該最先穩(wěn)定蒸發(fā)源依次經(jīng)過(guò)各個(gè)蒸鍍區(qū)域的下方，實(shí)現(xiàn)同時(shí)在不同方向上對(duì)多個(gè)待蒸鍍的基板進(jìn)行蒸鍍作業(yè)；然后將已完成蒸鍍的基板取出，同時(shí)對(duì)應(yīng)放入新的待蒸鍍的基板； S4、對(duì)于其他速率陸續(xù)穩(wěn)定的蒸發(fā)源，當(dāng)對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)基臺(tái)頂點(diǎn)位于兩個(gè)蒸鍍區(qū)域的間隙時(shí)，將這些蒸發(fā)源分別移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)上對(duì)應(yīng)的頂點(diǎn)處，直至所有蒸發(fā)源均參與蒸鍍作業(yè)為止。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的蒸鍍方法，其特征在于，還包括如下步驟:S5、在蒸鍍作業(yè)過(guò)程中，若其中某一蒸發(fā)源出現(xiàn)速率不穩(wěn)定時(shí)，則控制在該蒸發(fā)源旋轉(zhuǎn)至兩個(gè)蒸鍍區(qū)域的間隙時(shí)將其移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的中心處進(jìn)行維修；待該蒸發(fā)源的速率穩(wěn)定并且旋轉(zhuǎn)基臺(tái)對(duì)應(yīng)該蒸發(fā)源的頂點(diǎn)位于兩個(gè)蒸鍍區(qū)域的間隙時(shí)，再運(yùn)動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的頂點(diǎn)進(jìn)行蒸鍍作業(yè)。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種真空蒸鍍裝置及蒸鍍方法。該真空蒸鍍裝置包括真空腔室及在所述真空腔室內(nèi)自下而上依次設(shè)置的旋轉(zhuǎn)基臺(tái)、蒸發(fā)源及多個(gè)蒸鍍區(qū)域；所述旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的形狀為勒洛三角形，且其在水平面的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡為圓角正方形；所述蒸鍍區(qū)域沿所述旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡間隔設(shè)置；所述蒸發(fā)源在旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的帶動(dòng)下依次經(jīng)過(guò)所述蒸鍍區(qū)域的下方，使得蒸發(fā)源可同時(shí)在多個(gè)方向進(jìn)行蒸鍍作業(yè)，從而提高成膜的均一性以及對(duì)蒸發(fā)材料的利用率，利于推廣與應(yīng)用。
【IPC分類(lèi)】C23C14/24
【公開(kāi)號(hào)】CN104911548
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510388186
【發(fā)明人】姚固, 曾蘇偉, 徐鵬
【申請(qǐng)人】合肥鑫晟光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
【公開(kāi)日】2015年9月16日
【申請(qǐng)日】2015年6月30日