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      一種鈉摻雜鉬平面靶材的制備方法

      文檔序號:9392316閱讀:1492來源:國知局
      一種鈉摻雜鉬平面靶材的制備方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明屬于鉬材料加工成型技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種鈉摻雜鉬平面靶材的制備方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]Cu (In,Ga) Se2 (CIGS)是一種性能優(yōu)良,具有高光電轉(zhuǎn)化效率的多元半導(dǎo)體材料,以它為基礎(chǔ)設(shè)計薄膜太陽能電池,其光電轉(zhuǎn)化效率已達到20.4%,屬于世界最高水平。研究發(fā)現(xiàn),在CIGS中摻雜少量的堿金屬Na(約5at% )能夠顯著提高其光電轉(zhuǎn)化效率。對于工業(yè)生產(chǎn)的CIGS電池板而言,需要將Na摻雜到大面積的CIGS吸收層,以提高其光電轉(zhuǎn)化效率。一般是直接使用石灰碳酸鈉玻璃(SLG)作基板生產(chǎn)CIGS電池板,以SLG作為Na源材料。在使用SLG作為Na源材料制備CIGS吸收層的過程中,必須將SLG基板加熱至約600°C以促進Na滲透至Mo背極層,從而摻雜到CIGS吸收層中,這種摻雜方法不易控制,導(dǎo)致Na分布不均勻,且SLG是硬性材料,不能做柔性太陽能電池板,因此必須開發(fā)新的Na源材料以替代SLG。目前在電池板的基板和Mo背極層間添加Mo-Na層作為Na源材料可以有效地將Na均勻摻雜到CIGS吸收層中,且容易控制。Mo-Na層由直流磁控濺射沉積而成,與制備Mo背極層的工藝相同,只需將Mo靶材換成Mo-Na靶材即可,操作簡單,適合工業(yè)生產(chǎn)使用。而且,在不銹鋼和高分子柔性基板上也可沉積Mo-Na層,從而制備柔性太陽能電池板。
      [0003]作為制備柔性CIGS太陽能電池板Mo-Na層必備材料的Mo-Na濺射靶材,目前只有Plansee公司出售該產(chǎn)品。國內(nèi)對Mo-Na濺射靶材的研究及生產(chǎn)還處于起步階段,目前還沒有成熟的Mo-Na靶材相關(guān)產(chǎn)品。隨著CIGS太陽能電池技術(shù)的日益成熟,市場上對不同Na含量的Mo-Na靶材的需求必然增加,因此,為了避免國外公司對國內(nèi)市場的繼續(xù)壟斷,對不同Na含量Mo-Na濺射靶材制備技術(shù)的研究勢在必行。由于Mo元素(熔點2623°C )和Na元素(熔點97.70C )的熔點相差大,不能直接形成化合物和固溶體,并且低熔點的Na在高溫熔煉時極易揮發(fā)等原因,因此現(xiàn)有技術(shù)中制備Mo-Na濺射靶材最有效的方法是粉末冶金技術(shù),其中Na主要以二水合鉬酸鈉(Na2MoO4)的形式存在于Mo-Na濺射靶材中。
      [0004]目前,Mo-Na濺射靶材的制備方法見諸報道的有很多,從專利技術(shù)來看,主要有熱等靜壓法、常規(guī)燒結(jié)法和真空熱壓法等,從這些專利分析來看,熱等靜壓法是國內(nèi)外普遍采用的方法,該方法可以制備出合格的Mo-Na濺射靶材,但其材料利用率低且制造成本高;常規(guī)燒結(jié)法是中國專利201310033234.1中提出的,該專利中沒有考慮到Na的揮發(fā)性而不具有實際的工業(yè)應(yīng)用價值;熱壓法是中國專利201410308148.1中提出的,該方法成本相對低,但沒有提出對靶材組織的控制,而且該方法中熱壓溫度低,Mo-Na坯料致密度相對較差,且由于大量二水合鉬酸鈉(二水合鉬酸鈉熔點687°C)的揮發(fā)性污染,會造成爐腔體表面附著大量白色的二水合鉬酸鈉,Na的含量不易控制等弊端。因此,現(xiàn)有技術(shù)亟需開發(fā)一種成本低、材料利用率高且Na含量和組織可控、產(chǎn)品一致性好的制備鈉摻雜鉬平面靶材的方法。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于針對上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足,提供一種鈉摻雜鉬平面靶材的制備方法,該方法制備成本低、材料利用率高且靶材中Na含量和組織可控、產(chǎn)品一致性好,能夠較好的滿足工業(yè)化生產(chǎn)用鈉摻雜鉬平面靶材的需求。
      [0006]為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種鈉摻雜鉬平面靶材的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
      [0007]步驟一、將鉬粉和二水合鉬酸鈉的混合粉末與去離子水?dāng)嚢杈鶆颍瑖婌F干燥處理后得到鈉摻雜鉬顆粒;所述混合粉末中二水合鉬酸鈉的質(zhì)量含量為5.26%?26.3%,余量為鉬粉,所述鉬粉的平均粒度為2.0 μ m?3.0 μ m,所述鉬粉的粒度分布為I μ m?10 μ m,所述去尚子水的用量為鉬粉質(zhì)量的5%?20% ;
      [0008]步驟二、將步驟一中所述鈉摻雜鉬顆粒裝入冷等靜壓模具后密封,在壓力為160MPa?200MPa的條件下進行冷等靜壓壓制,壓制后去除冷等靜壓模具,得到板坯;
      [0009]步驟三、對步驟二中所述板坯進行包套處理,然后將包套處理后的板坯抽真空密封;
      [0010]步驟四、在溫度為1200°C?1600°C,壓力為45MPa?55MPa的條件下將步驟三中經(jīng)抽真空密封后的板坯熱壓燒結(jié)3h?5h,然后對熱壓燒結(jié)后的板坯進行去包套處理,得到鈉摻雜鉬平面靶材。
      [0011]上述的一種鈉摻雜鉬平面靶材的制備方法,其特征在于,步驟三中采用真空電子束焊機進行抽真空密封,所述真空電子束焊機的真空度不大于10 2Pa0
      [0012]上述的一種鈉摻雜鉬平面靶材的制備方法,其特征在于,步驟四中采用熱壓機進行熱壓燒結(jié),所述熱壓機的升溫速率為15°C /min?25°C /min。
      [0013]上述的一種鈉摻雜鉬平面靶材的制備方法,其特征在于,步驟四中所述熱壓燒結(jié)的溫度為1200°C?1400°C。
      [0014]上述的一種鈉摻雜鉬平面靶材的制備方法,其特征在于,步驟三中所述包套處理采用的包套材料為不銹鋼薄板。
      [0015]上述的一種鈉摻雜鉬平面靶材的制備方法,其特征在于,步驟三中所述包套處理采用的包套材料為純鈦薄板。
      [0016]上述的一種鈉摻雜鉬平面靶材的制備方法,其特征在于,所述純鈦薄板為TAl純鈦薄板或TA2純鈦薄板。
      [0017]上述的一種鈉摻雜鉬平面靶材的制備方法,其特征在于,所述包套材料的厚度為Imm ?2mm ο
      [0018]上述的一種鈉摻雜鉬平面靶材的制備方法,其特征在于,步驟二中所述冷等靜壓模具為橡膠包套。
      [0019]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點:
      [0020]1、本發(fā)明首先對鉬粉進行選擇,鉬粉的平均粒度不宜太小,鉬粉粒度過小,則粉末自由度越高,粉末相互之間碰撞摩擦幾率越大,相應(yīng)使物料體系能量較高,團聚度高,在后續(xù)的熱壓燒結(jié)過程中,由于大顆粒和小顆粒以及團聚顆粒所需的燒結(jié)驅(qū)動力不同,在同樣熱壓燒結(jié)的溫度下晶粒生長趨勢也不一致,容易造成板坯中晶粒組織的大小不均勻,鉬粉粒度也不宜過大,粒度過大則孔隙尺寸和擴散距離也大,熱壓燒結(jié)時形成閉孔所需能量加大,則所需熱壓燒結(jié)溫度較高;因此,本發(fā)明中選擇鉬粉的平均粒度為2.0 μ m?3.0 μ m(馬爾文粒度儀測試結(jié)果),粒度分布范圍窄,鉬粉顆粒大小均勻,熱壓燒結(jié)所需驅(qū)動力趨于一致,因此熱壓燒結(jié)后板坯組織的晶粒大小也相對均勻。
      [0021]2、本發(fā)明將鉬粉和二水合鉬酸鈉的混合粉末與水?dāng)嚢杈鶆蚝筮M行噴霧干燥處理,該處理能夠造粒得到鈉摻雜鉬顆粒,其中二水合鉬酸鈉均勻的包覆在鉬粉顆粒里面,鈉的分布也較為均為,而且在熱壓燒結(jié)過程中,鈉不會分布在晶界上,而是被包裹在晶粒內(nèi),不會影響鈉的均勻性。
      [0022]3、對于鈉摻雜鉬平面靶材的生產(chǎn)來說,傳統(tǒng)采用粉末裝填模具后熱壓的制備工藝,但是該制備工藝的弊端是粉末裝填不均勻,且熱壓收縮量大,會造成熱壓的板坯在厚度方向上的密度不一樣;而本發(fā)明中預(yù)先采用冷等靜壓的方式成型得到板坯,對板坯進行包套處理和抽真空密封處理后再進行熱壓,如此很好的避免了粉末裝填模具后熱壓的弊端,在對板坯進行包套處理后,避免了二水合鉬酸鈉的揮發(fā)性逸出,也不會污染爐體,而且有利于鈉含量的準確控制,并提高了板坯的致密度。
      [0023]4、本發(fā)明熱壓燒結(jié)過程中板坯位于包套材料內(nèi),熱壓燒結(jié)后得到的成品材料尺寸規(guī)整,只需要少量切削就可以得到所需規(guī)格尺寸的鈉摻雜鉬平面靶材,相對于傳統(tǒng)熱等靜壓制備Mo-Na濺射靶材的方法,本發(fā)明制備的板坯少切削,因此材料利用率高,所用設(shè)備造價低,具有明顯的成本優(yōu)勢。
      [0024]下面通過附圖和實施例,對本發(fā)明的技術(shù)方案做進一步的詳細描述。
      【附圖說明】
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