一種濺鍍設(shè)備的靶材更換裝置及濺鍍設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示設(shè)備制造領(lǐng)域，特別涉及一種濺鍍設(shè)備的靶材更換裝置及濺鍍設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]磁控濺射是物理氣相沉積的一種，其原理是通過交流或直流電壓形成的等離子體內(nèi)的具有較高能量的粒子撞擊靶材表面，將靶材粒子從靶材表面撞擊出來，并貼附到基板表面，并通過在靶材表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率；由于具有成膜速度大、成膜再現(xiàn)性好、臺階覆蓋率高等優(yōu)點(diǎn)，普遍使用于TFT-1XD的濺射成膜工藝中。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中的濺射成膜設(shè)備的腔室通常只裝有一塊靶材，在靶材耗盡或因生產(chǎn)工藝的不同需更換不同的靶材時，需打開腔室人工更換靶材，更換速度較慢，且更換后需對腔室再次抽真空，更換過程較為繁瑣，降低了生產(chǎn)效率。另外，由于腔室內(nèi)的磁場分布不均勻，使靶材局部刻蝕速率較大，長時間成膜濺射后靶材消耗不均勻，降低了靶材利用率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明提供了一種濺鍍設(shè)備的靶材更換裝置及濺鍍設(shè)備，可以無需開腔實現(xiàn)自動換革G，提尚了生廣效率。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下的技術(shù)方案:
[0006]—種濺鍍設(shè)備的靶材更換裝置，包括，
[0007]支架；
[0008]安裝于所述支架上的安裝軸；
[0009]套設(shè)于所述安裝軸外側(cè)、且可繞所述安裝軸的軸心線旋轉(zhuǎn)的靶材安裝體，所述靶材安裝體具有至少兩個用于安裝靶材的靶材安裝面，當(dāng)所述靶材安裝體繞安裝軸的軸心線旋轉(zhuǎn)時，每一個所述靶材安裝面可在工作狀態(tài)朝向和閑置朝向之間切換；
[0010]用于驅(qū)動所述靶材安裝體繞所述安裝軸的軸線旋轉(zhuǎn)的第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)。
[0011]該靶材更換裝置包括至少兩塊靶材，在需更換靶材時，可通過第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動靶材安裝體旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而將安裝于靶材安裝體的靶材安裝面上的所需靶材由閑置朝向切換至工作狀態(tài)朝向，進(jìn)而使所需靶材參與工作，上述靶材更換裝置在切換靶材的過程不需打開腔室，節(jié)省了打開腔室和抽取真空的時間，提高了生產(chǎn)效率。
[0012]優(yōu)選地，還包括電路模塊，所述電路模塊用于控制處于工作狀態(tài)朝向的所述靶材安裝面上的靶材與工作電路電連接、并控制處于閑置朝向的所述靶材安裝面上的靶材與所述工作電路斷開連接。
[0013]優(yōu)選地，所述靶材安裝體具有三個所述靶材安裝面，且所述靶材安裝體的橫截面為中空的等邊三角形，三個所述靶材安裝面均朝向背離所述安裝軸的方向。
[0014]優(yōu)選地，所述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括，
[0015]安裝于所述支架上、并設(shè)置于所述安裝軸端面兩側(cè)的兩個旋轉(zhuǎn)卡盤，兩個所述旋轉(zhuǎn)卡盤的旋轉(zhuǎn)軸線重合、且與所述安裝軸的軸線平行，且在朝向所述靶材安裝軸的一側(cè)設(shè)有用于與所述靶材安裝體配合連接的以帶動所述靶材安裝面旋轉(zhuǎn)的連接機(jī)構(gòu)；
[0016]輸出軸與所述旋轉(zhuǎn)卡盤連接以驅(qū)動所述旋轉(zhuǎn)卡盤運(yùn)動的第一驅(qū)動電機(jī)。
[0017]優(yōu)選地，所述支架上設(shè)有兩條并行設(shè)置的滑軌，所述安裝軸可沿所述滑軌滑動地安裝于所述滑軌。
[0018]進(jìn)一步地，還包括用于驅(qū)動所述安裝軸在靶材濺射工位和靶材切換工位之間運(yùn)動的第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)。
[0019]進(jìn)一步地，所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括:
[0020]每一個所述滑軌上設(shè)有的螺紋絲杠，所述螺紋絲杠與所述滑軌的延伸方向平行，且所述安裝軸上設(shè)有與所述螺紋絲杠螺紋配合的螺紋孔；
[0021]用于驅(qū)動所述螺紋絲杠旋轉(zhuǎn)的第二驅(qū)動電機(jī)。
[0022]進(jìn)一步地，還包括與所述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)和所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)信號連接、用于控制所述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)和所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)啟動或停止的控制模塊。
[0023]一種磁控濺鍍設(shè)備，包括用于在靶材進(jìn)行濺鍍過程中產(chǎn)生磁場的磁場模塊，還包括上述的靶材更換裝置。
[0024]該磁控濺鍍設(shè)備中，在需更換靶材時，可通過靶材切換機(jī)構(gòu)將所需靶材切換至工作位置，切換過程不需打開腔室，節(jié)省了打開腔室和抽取真空的時間，提高了生產(chǎn)效率；且磁性機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述靶材安裝面之間，在靶材處于濺射位置并進(jìn)行濺鍍時，磁性機(jī)構(gòu)隨靶材移動，其產(chǎn)生的磁場隨靶材運(yùn)動，避免了因磁場固定造成的靶材消耗不均勻現(xiàn)象，提高了靶材的利用率。
[0025]優(yōu)選地，所述磁場模塊設(shè)置于所述靶材安裝體內(nèi)。
【附圖說明】
[0026]圖1是本發(fā)明【具體實施方式】提供的一種濺鍍設(shè)備的靶材更換裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖2是圖1中A向所示的靶材安裝體的局部結(jié)構(gòu)剖面示意圖；
[0028]圖3是本明【具體實施方式】提供的一種濺鍍設(shè)備的靶材更換裝置處于靶材切換狀態(tài)時的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖4是是圖1中B向所示的旋轉(zhuǎn)卡盤的局部結(jié)構(gòu)示意圖。
[0030]附圖標(biāo)記:
[0031]01，基板；10，支架；11，滑軌；20，安裝軸；30，靶材安裝體；
[0032]31、32、33，靶材安裝面；40，第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)；41，旋轉(zhuǎn)卡盤；
[0033]411，滑槽；412，連接機(jī)構(gòu)；42，第一驅(qū)動電機(jī)；50，第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)；
[0034]51，第二驅(qū)動電機(jī)；52，螺紋絲杠；60，磁場模塊。
【具體實施方式】
[0035]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0036]參見圖1和圖2，本發(fā)明【具體實施方式】提供了一種濺鍍設(shè)備的靶材更換裝置，如圖1所示，包括，
[0037]支架10 ；
[0038]安裝于支架10上的安裝軸20 ；
[0039]套設(shè)于安裝軸20外側(cè)、且可繞安裝軸20的軸心線旋轉(zhuǎn)的靶材安裝體30，為實現(xiàn)靶材更換功能，靶材安裝體30需至少具有兩個靶材安裝面，實際生產(chǎn)中也可采用具有三個或三個以上靶材安裝面的結(jié)構(gòu)，如圖2所示，本實施例中，靶材安裝體30具有三個用于安裝靶材的靶材安裝面31、32、33 ;當(dāng)靶材安裝體30繞安裝軸20的軸心線旋轉(zhuǎn)時，每一個靶材安裝面可在工作狀態(tài)朝向和閑置朝向之間切換，如圖1和圖2所示，工作狀態(tài)朝向即為圖1中未示出的靶材安裝面33朝向基板01時的朝向，處于工作狀態(tài)朝向的靶材安裝面上的靶材可用于濺鍍，圖1中所示的靶材安裝面31、32為閑置朝向；還包括用于驅(qū)動靶材安裝體30繞安裝軸20的軸線旋轉(zhuǎn)的第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)40。
[0040]該靶材更換裝置在使用過程中，每一個靶材安裝面上均安裝有一塊靶材，在需更換靶材時，可通過第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)40驅(qū)動靶材安裝體30旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而將安裝于靶材安裝體30的靶材安裝面上的所需靶材由閑置朝向切換至工作狀態(tài)朝向，進(jìn)而使所需靶材參與工作，在切換靶材的過程不需打開腔室，節(jié)省了開關(guān)腔室和對腔室抽取真空的時間，提高了生產(chǎn)效率。
[0041]—種優(yōu)選方式中，靶材