国产精品1024永久观看,大尺度欧美暖暖视频在线观看,亚洲宅男精品一区在线观看,欧美日韩一区二区三区视频,2021中文字幕在线观看

  • <option id="fbvk0"></option>
    1. <rt id="fbvk0"><tr id="fbvk0"></tr></rt>
      <center id="fbvk0"><optgroup id="fbvk0"></optgroup></center>
      <center id="fbvk0"></center>

      <li id="fbvk0"><abbr id="fbvk0"><dl id="fbvk0"></dl></abbr></li>

      濺鍍靶材的制作方法_2

      文檔序號(hào):9602148閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
      混合的原料粉中的導(dǎo)電部分 優(yōu)先流通電流,進(jìn)行燒結(jié),即,對(duì)銅粉或銅合金粉的部分,或?qū)ζ鋬烧叩牟糠謨?yōu)先流通電流, 形成銅系金屬相的銅粒子或銅合金粒子容易優(yōu)先進(jìn)行粒狀成長(zhǎng)。其結(jié)果,于構(gòu)成濺鍍靶材 的銅系金屬相與氧化物相的混合組織中,確實(shí)形成銅系金屬相的銅粒子或銅合金粒子的連 結(jié),可確實(shí)地使濺鍍靶材本身的體積電阻值減少。
      [0024] [發(fā)明的效果]
      [0025] 若依據(jù)本發(fā)明,可實(shí)現(xiàn)能以直流電源進(jìn)行放電的具有銅或銅合金與氧化物的濺鍍 靶材,并能穩(wěn)定地容易形成用以形成靜電容量方式的觸控面板用傳感器薄膜的黑化層。
      【附圖說(shuō)明】
      [0026] 圖1為實(shí)施例1的剖面觀察。
      [0027] 圖2為實(shí)施例4的剖面觀察。
      【具體實(shí)施方式】
      [0028] [發(fā)明最優(yōu)選的實(shí)施形態(tài)]
      [0029] 以下,說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)。首先,說(shuō)明本實(shí)施形態(tài)的濺鍍靶材的制造。
      [0030] 于本實(shí)施形態(tài)中,制作各氧含量的濺鍍靶材(實(shí)施例1至3)。為了比較,也制作比 較例1至3。表1中,表示各濺鍍靶材的數(shù)據(jù)。以下,說(shuō)明各濺鍍靶材的制造條件。
      [0031] 實(shí)施例1 :以平均粒徑D5Q= 3. 0μπι的銅粉、及平均粒徑D5Q= 3. 0μπι的氧化銅(I) 粉作為原料??紤]氧化銅(I)粉中的氧含量成為化學(xué)計(jì)量比(Cu:0 = 2 :1),以氧含量成為 20原子%的方式予以稱(chēng)量。將所稱(chēng)量的原料粉與氧化鋯制粉碎介質(zhì)投入于罐(pot)內(nèi),使 用球磨機(jī)混合3小時(shí)。然后,將其混合粉篩分后,填充于直徑174_的石墨塑模中。將填充 有混合粉的石墨塑模安置在電燒結(jié)裝置(DR.SINTER/SPSSyntax(股)制)后,依下列條件 進(jìn)行燒結(jié)。
      [0032] 〈燒結(jié)條件〉
      [0033] ?氣氛(atmosphere):真空(壓力:40Pa(帕))
      [0034] ?升溫時(shí)間:30°C /min (分鐘)
      [0035] ?燒結(jié)溫度:850°C
      [0036] ?燒結(jié)保持時(shí)間:30分鐘
      [0037] ?壓力:25MPa (兆帕)
      [0038] ?降溫:自然冷卻
      [0039] 將依上述燒結(jié)條件所得的燒結(jié)體進(jìn)行機(jī)械加工,制作直徑101. 6_、厚度5mm的派 鍍靶材。
      [0040] 實(shí)施例2 :以原料粉的氧含量成為15原子%的方式予以稱(chēng)量。其余制造條件與實(shí) 施例1相同。
      [0041] 實(shí)施例3 :以原料粉的氧含量成為10原子%的方式予以稱(chēng)量。其余制造條件與實(shí) 施例1相同。
      [0042] 實(shí)施例4 :以平均粒徑DM= 9. 6μm的鎳粉及平均粒徑D5(]= 2. 5μm的氧化銅(II) 粉作為原料??紤]氧化銅(Π)粉中的氧含量成為化學(xué)計(jì)量比(Cu:0= 1 :1),以銅含量成 為30原子%、鎳含量成為40原子%、氧含量成為30原子%的方式予以稱(chēng)量。其余制造條 件與實(shí)施例1相同。
      [0043] 實(shí)施例5 :將平均粒徑D5(]= 9. 6μm的鎳粉、平均粒徑D5。= 3. 0μm的銅粉、以及 平均粒徑DM=2.5ym的氧化銅(II)粉作為原料??紤]氧化銅(II)粉中的氧含量成為化 學(xué)計(jì)量比(Cu:0= 1 :1),以銅含量成為34原子%、鎳含量成為46原子%、氧含量成為20 原子%的方式予以稱(chēng)量。其于制造條件與實(shí)施例1相同。
      [0044] 比較例1 :至以球磨機(jī)的混合為止,與實(shí)施例1同樣方式實(shí)施,以單軸壓塑成型 (加壓機(jī)壓力:500kgf(4克力)/cm2)制作直徑140mm的壓粉物。然后,使用燒成爐依下列 條件進(jìn)行燒成。
      [0045] 〈燒成條件〉
      [0046] ?氣氛:大氣
      [0047] ?升溫時(shí)間:50°C /hr (約 0· 83°C /min)
      [0048] ?燒結(jié)溫度:900 °C
      [0049] ?燒結(jié)保持時(shí)間:4小時(shí)
      [0050] ?降溫:5CTC /hr (約 0· 83°C /min)
      [0051 ] 將以上述燒結(jié)條件所得的燒結(jié)體進(jìn)行機(jī)械加工,制作直徑101. 6mm、厚度5mm的濺 鍍靶材。
      [0052] 比較例2 :除使燒成氣氛設(shè)為真空(壓力:40Pa)以外,其余與比較例1相同。
      [0053] 比較例3 :僅使用氧化銅⑴粉作為原料粉。其氧含量為33. 3原子%(Cu:0 = 2 : 1)。將氧化銅粉直接填充于直徑174mm的石墨塑模中。以后的條件以與實(shí)施例1同樣的方 式實(shí)施。
      [0054] 對(duì)于所制作的各濺鍍靶材、實(shí)施氧含量、相對(duì)密度、體積電阻值、平均粒徑的評(píng)價(jià)。 將其結(jié)果,表示于表1及表2中。又,各評(píng)價(jià)方法如下。
      [0055] 氧含量:通過(guò)機(jī)械加工切削燒結(jié)體的表面,從所得的切粉,采用氧氮分析裝置 (EMGA_55(V(股)堀場(chǎng)制作所制),測(cè)定氧含量。
      [0056] 相對(duì)密度:將濺鍍靶材的重量(g)除以其體積(cm3),算出依下述理論式(數(shù)1)的 理論密度P (g/cm3)的百分率,設(shè)為相對(duì)密度(% )。
      [0057] 「教 11
      [0058]
      [0059] 式中,C(Cu)、C(Cu20)分別表示濺鍍靶材中的銅系金屬相與氧化物相的含量(重 量%),P(Cu)、P(Cu20)分別表示銅或者銅合金的密度、氧化物的密度。銅系金屬相與氧 化物相的含量(重量% ),假定所實(shí)測(cè)的燒結(jié)體中的氧全部形成氧化銅(I)或銅合金氧化物 而算出。
      [0060] 體積電阻值:使用低電阻率計(jì)仏0代8丨&即八股)三菱化學(xué)Analytech制)及四探 針?lè)ㄓ锰綔y(cè)器,測(cè)定加工后的濺鍍靶材的體積電阻值。
      [0061] 平均粒徑:研磨濺鍍靶材的表面作成平滑。對(duì)于該平滑表面,通過(guò)搭載有能量分散 型X光分析?DS)/電子線(xiàn)后方散射衍射分析(;EBSD)裝置(PegasusSystem/Ametek(股) 制)的FE槍型的掃描式電子顯微鏡(SUPRA55VP/CarlZeiss公司制)而測(cè)定銅及鎳及氧 的EDS光譜及EBSD圖型。測(cè)定條件設(shè)為加速電壓20kV、觀察區(qū)域60X60μm、測(cè)定間隔 0.5μm。附有指數(shù)的結(jié)晶相為銅系金屬相(銅相或銅合金相)及氧化物相,從EDS光譜區(qū) 別兩者。對(duì)于所得的數(shù)據(jù),選擇EBSD解析程序(OIMAnalysis/(股)TSLSolutions制)的 分析目錄"GrainSize",以算出銅系金屬相與氧化物相的各別附面積重量的平均結(jié)晶粒徑 (ym)。此時(shí),被檢出5°以上的方位差時(shí),辨識(shí)為一般粒界者,對(duì)于銅,是在〈111>軸周?chē)?在60°旋轉(zhuǎn)的方位關(guān)系的雙晶粒界不視為一般粒界的方式實(shí)施。又,銅系金屬相的面積比, 如下方式算出。
      [0062] 銅系金屬相的面積比:采用的值使用上述的解析程序,以"Color Coded Map Style"選擇"Phase(相)",其他的設(shè)定則通過(guò)設(shè)為初期設(shè)定而算出的"Total Fraction" 的值。
      [0063] [表 1]
      [0064]
      [0065] 如表1所示,于實(shí)施例1至3中,所制作的濺鍍靶材的氧含量,約略成為目的水平。 于比較例1時(shí),由于在大氣中實(shí)施燒成處理,故氧含量顯著增大(相對(duì)于原料中的氧含量 20. 0原子%,制造后增加至46. 8原子% )。在比較例2時(shí),雖然燒成溫度較高(900°C)、燒 成時(shí)間較長(zhǎng)(4hr),但仍然成為相對(duì)密度低者。相對(duì)于此,可知經(jīng)采用電燒結(jié)法的實(shí)施例1 至3的相對(duì)密度成為85%以上,若采用電燒結(jié)法,可促進(jìn)燒結(jié)。即使含有鎳的實(shí)施例4、5, 所制成的濺鍍靶材的氧含量也略成為目的水平。但,如與實(shí)施例1至3相比較,與原料粉中 的氧含量相比,稍為降低。認(rèn)為這是由于鎳粉與氧化銦(II)粉的反應(yīng)所形成的氧化鎳相具 有氧缺損之故。另一方面,關(guān)于相對(duì)密度,實(shí)施例4、5均成為85%以上。
      [0066] 其次,于實(shí)施例1至3中,可知體積電阻值在1.0Χ102Ωcm以下的范圍,可以直流 電源進(jìn)行放電。另一方面,比較例1、3成為絕緣物,不能實(shí)施體積電阻值的測(cè)定。對(duì)于比較 例2,也因體積電阻值非常大且測(cè)定值不穩(wěn)定,故未能特定電阻值。又,對(duì)于比較例2,雖然 具有一定的導(dǎo)電性,但仍難以通過(guò)直流電源而使其穩(wěn)定地放電。
      [0067] 圖1中,表示以電子線(xiàn)后方散射衍射分析裝置(EBSD裝置)觀察實(shí)施例1的濺鍍靶 材的剖面的結(jié)果。認(rèn)為圖1中顯
      當(dāng)前第2頁(yè)1 2 3 
      網(wǎng)友詢(xún)問(wèn)留言 已有0條留言
      • 還沒(méi)有人留言評(píng)論。精彩留言會(huì)獲得點(diǎn)贊!
      1