一種類(lèi)金剛石碳膜沉積裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種類(lèi)金剛石碳膜沉積裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]類(lèi)金剛石碳膜(Diamond Like Carbon，DLC)是一種以sp3和sp2鍵的形式結(jié)合生成的亞穩(wěn)態(tài)材料，其不僅兼具了金剛石和石墨的優(yōu)良特性，還具有高硬度、高電阻率和良好光學(xué)性能，同時(shí)又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性，可廣泛用于機(jī)械、電子、光學(xué)、熱學(xué)、聲學(xué)和醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。
[0003]由于DLC是亞穩(wěn)態(tài)材料，在制備過(guò)程中需要荷能離子轟擊生長(zhǎng)表面，通常，采用物理氣相沉積方法、化學(xué)沉積方法或等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposit1n,PECVD)方法進(jìn)行制備，而PECVD方法由于沉積速率快、成膜質(zhì)量好，被廣泛應(yīng)用于DLC的制備。沉積裝置在制備DLC的過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)沉積物垃圾，沉積物垃圾在沉積裝置的底部積累，若不及時(shí)清理干凈，沉積物垃圾將會(huì)影響下一次沉積。現(xiàn)有技術(shù)在清理沉積物垃圾時(shí)，首先將真空室的上蓋升起，接著將真空吸頭從真空室的上方伸入到真空室的底部，對(duì)底部的沉積物垃圾進(jìn)行清理，由于真空吸頭往往不方便拐彎，因此在清理真空室底部的沉積物垃圾時(shí)，存在清理不徹底的問(wèn)題。
[0004]為克服清理不徹底的問(wèn)題，可以在真空室的側(cè)壁上設(shè)置門(mén)體，從而真空吸頭能夠從真空室側(cè)壁伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理真空室底部的沉積物垃圾，清理徹底。但是，在設(shè)置門(mén)體時(shí)將會(huì)在真空室的側(cè)壁上開(kāi)口，而開(kāi)口會(huì)對(duì)真空室內(nèi)的電場(chǎng)分布造成影響，造成電場(chǎng)不平衡。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明通過(guò)提供一種類(lèi)金剛石碳膜沉積裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中在真空室側(cè)壁開(kāi)設(shè)門(mén)體將會(huì)造成真空室內(nèi)部電場(chǎng)不平衡的技術(shù)問(wèn)題。
[0006]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種類(lèi)金剛石碳膜沉積裝置，包括真空室、門(mén)體、陽(yáng)極靶、陰極靶、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、抽真空裝置和電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)；
[0007]所述真空室的上蓋與所述真空室的室底相對(duì)，所述真空室的側(cè)壁連接所述上蓋和所述室底，以形成一腔室；
[0008]所述側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有一開(kāi)口；
[0009]所述門(mén)體與所述真空室連接，用于蓋設(shè)于所述開(kāi)口；
[0010]所述電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)可拆卸地連接在所述開(kāi)口處的所述側(cè)壁上，用于補(bǔ)全所述開(kāi)口，其中，所述電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)呈板狀，且，所述電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)的尺寸大于等于所述開(kāi)口的尺寸；
[0011]所述陽(yáng)極靶和所述陰極靶設(shè)置在所述真空室的內(nèi)部，且，所述陽(yáng)極靶與所述陰極靶相對(duì)設(shè)置，所述陰極靶位于所述真空室的室底與所述陽(yáng)極靶之間；
[0012]所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)穿過(guò)所述室底與所述陰極靶相連；
[0013]所述抽真空裝置與所述真空室連通。
[0014]優(yōu)選的，所述電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)的尺寸與所述開(kāi)口的尺寸相同。
[0015]優(yōu)選的，所述電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)與所述真空室的側(cè)壁之間通過(guò)螺栓連接。
[0016]優(yōu)選的，所述真空室為圓柱體，所述開(kāi)口呈弧形，所述電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)為弧形板。
[0017]優(yōu)選的，所述門(mén)體上具有一探視窗。
[0018]優(yōu)選的，還包括升降機(jī)構(gòu)；
[0019]所述升降機(jī)構(gòu)與所述上蓋相連。
[0020]優(yōu)選的，所述升降機(jī)構(gòu)為電動(dòng)升降機(jī)構(gòu)或液壓升降機(jī)構(gòu)。
[0021]優(yōu)選的，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為電機(jī)。
[0022]優(yōu)選的，還包括調(diào)節(jié)閥；
[0023]所述調(diào)節(jié)閥設(shè)置在所述抽真空裝置與所述真空室連通處。
[0024]優(yōu)選的，所述調(diào)節(jié)閥為可調(diào)電動(dòng)閥。
[0025]本發(fā)明實(shí)施例中的一個(gè)或多個(gè)技術(shù)方案，至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn):
[0026]本發(fā)明通過(guò)在真空室的側(cè)壁上設(shè)置門(mén)體，在需要清理沉積物垃圾時(shí)，打開(kāi)側(cè)壁上的門(mén)體，將真空吸頭從真空室的側(cè)壁伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾，清理徹底，不會(huì)污染下一次沉積過(guò)程，并且，通過(guò)在真空室側(cè)壁上的開(kāi)口處增設(shè)電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)，利用電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)補(bǔ)全真空室的側(cè)壁上的開(kāi)口，從而能夠保證真空室內(nèi)的電場(chǎng)平衡，保證了沉積效果。
【附圖說(shuō)明】
[0027]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
[0028]圖1為本發(fā)明實(shí)施例中一種類(lèi)金剛石碳膜沉積裝置的剖面圖；
[0029]圖2為本發(fā)明實(shí)施例中真空室與開(kāi)口之間相對(duì)位置關(guān)系的示意圖；
[0030]圖3為本發(fā)明實(shí)施例中一種【具體實(shí)施方式】下的電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0031]其中，I為真空室，101為開(kāi)口，102為上蓋，2為門(mén)體，3為陽(yáng)極靶，4為陰極靶，5為旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，6為抽真空裝置，7為連接通道，8為機(jī)架，9為探視窗，10為升降機(jī)構(gòu)，11為電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)。
【具體實(shí)施方式】
[0032]為解決現(xiàn)有技術(shù)中在真空室側(cè)壁開(kāi)設(shè)門(mén)體將會(huì)造成真空室內(nèi)部電場(chǎng)不平衡的技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種類(lèi)金剛石碳膜沉積裝置，通過(guò)在真空室側(cè)壁上的開(kāi)口處增設(shè)電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)，利用電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)補(bǔ)全真空室的側(cè)壁上的開(kāi)口，從而能夠保證真空室內(nèi)的電場(chǎng)平衡，保證了沉積效果。
[0033]為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0034]本發(fā)明實(shí)施例提供一種類(lèi)金剛石碳膜沉積裝置，如圖1所示，所述裝置包括真空室
1、門(mén)體2、陽(yáng)極靶3、陰極靶4、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5、抽真空裝置6、連接通道7、機(jī)架8和電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)
II。真空室I的上蓋102與真空室I的室底相對(duì)，真空室I的側(cè)壁連接上蓋102和室底，以形成一腔室。真空室I放置于機(jī)架8上，真空室I的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有一開(kāi)口 101，門(mén)體2與真空室I連接，用于蓋設(shè)于開(kāi)口 101。電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11可拆卸地連接在開(kāi)口 101處的真空室I的側(cè)壁上，用于補(bǔ)全開(kāi)口 101，其中，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11呈板狀，且，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11的尺寸大于等于開(kāi)口101的尺寸。陽(yáng)極靶3和陰極靶4設(shè)置在真空室I的內(nèi)部，且，陽(yáng)極靶3與陰極靶4相對(duì)設(shè)置，且，陰極靶4位于，真空室I的室底與陽(yáng)極靶3之間。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5穿過(guò)真空室I的室底與陰極靶4相連。抽真空裝置6與真空室I連通，具體的，抽真空裝置6通過(guò)連接通道7與真空室I連通。其中，抽真空裝置6為分子栗。
[0035]具體來(lái)講，當(dāng)電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11的尺寸大于開(kāi)口101的尺寸時(shí)，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11與開(kāi)口 101的形狀可以相同，也可以不同，只要在安裝后，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11能夠補(bǔ)全開(kāi)口 1lgp可。而，當(dāng)電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11的尺寸等于開(kāi)口 101的尺寸時(shí)，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11與開(kāi)口 101的形狀相同，大小也相同，在安裝時(shí)，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11剛好能夠補(bǔ)全開(kāi)口 101。本申請(qǐng)?jiān)谡婵帐襂的側(cè)壁上設(shè)置門(mén)體2，在需要清理沉積物垃圾時(shí)，打開(kāi)側(cè)壁上的門(mén)體2，將真空吸頭從真空室I的側(cè)壁伸到內(nèi)