真空鍍膜設備的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種鍍膜設備，特別是涉及一種可在真空環(huán)境下于一待鍍物上形成一薄膜的真空鍍膜設備。
【背景技術】
[0002]真空鍍膜法是一種在觸控面板、太陽能電池等等的光電產(chǎn)業(yè)、半導體產(chǎn)業(yè)常見的鍍膜技術，已知真空鍍膜法包含物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)等方式。以薄膜太陽能電池制程為例，需要利用真空鍍膜方式于一基板鍍上透明導電薄膜電極、光電轉換層等膜層，又或者，例如銅銦鎵薄膜太陽能電池制作時，則需要先于基板鍍上銅薄膜、銦薄膜后再進行砸化處理。因此，現(xiàn)有的一種真空鍍膜設備，是在一腔體內(nèi)設有數(shù)個腔室，每個腔室可進行不同材料薄膜的鍍膜制程，且相鄰腔室間設有閥門，通過閥門啟閉來控制腔室間的連通與否。故進行太陽能電池的鍍膜制程時，主要是先使基板于第一個腔室內(nèi)鍍上第一種材料的薄膜，接著打開第一個腔室與第二個腔室間的閥門，使該基板輸送到第二個腔室鍍上第二種材料的薄膜，后續(xù)依此類推，打開下一閥門，并將基板輸送到下一腔室鍍膜。
[0003]但因為控制閥門開啟與關閉，會耗費一定的時間。而且當閥門開啟后，相鄰兩腔室就會互相連通，上一腔室中的工作氣體會流到下一腔室內(nèi)，進而影響下一腔室內(nèi)的真空度，且任一腔室要進行鍍膜時，都必須先將腔室內(nèi)抽到一定的真空度后再通入工作氣體，因此每當基板送入下一腔室后，為了維持下一腔室的真空度，又必需重新抽真空而耗費時間，如此導致制程麻煩、時間長，制造效率低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實用新型的目的在于提供一種結構創(chuàng)新、可提升制程速度、縮短制程時間的真空鍍膜設備。
[0005]本實用新型真空鍍膜設備，適用于在一片基板上鍍膜，并包含一個真空腔體，該真空腔體包括一個界定出一個腔室的腔壁。該腔室包括二個相鄰且未受隔開而相連通的鍍膜空間，該真空鍍膜設備還包含一個連接該真空腔體并用于對所述鍍膜空間抽真空的抽氣幫浦，該抽氣幫浦具有一個位于所述鍍膜空間之間的抽氣口，該抽氣幫浦能在一個第一抽氣模式與一個第二抽氣模式間切換，該第一抽氣模式的抽氣效率大于該第二抽氣模式的抽氣效率，所述抽氣效率是指單位時間所抽走的氣體體積。
[0006]本實用新型所述的真空鍍膜設備，該腔壁還界定出一個與該腔室相鄰的準備室，該真空腔體還包括一個位于該腔室與該準備室之間的閥門。
[0007]本實用新型所述的真空鍍膜設備，該腔室的長度為5公尺?10公尺，寬度為0.3公尺?0.6公尺，高度為0.2公尺?0.5公尺，在該第一抽氣模式下，抽氣效率為500公升/秒?3500公升/秒，在該第二抽氣模式下，抽氣效率為200公升/秒?1000公升/秒。
[0008]本實用新型所述的真空鍍膜設備，該腔室的長度為10公尺?20公尺，寬度為1.2公尺?3公尺，高度為I公尺?2公尺，在該第一抽氣模式下，抽氣效率為15000公升/秒?30000公升/秒，在該第二抽氣模式下，抽氣效率為5000公升/秒?10000公升/秒。
[0009]本實用新型所述的真空鍍膜設備，還包含二個分別位于所述鍍膜空間的鍍膜單元，每一個鍍膜單元包括一個能承載該基板的載臺，以及一個與該載臺間隔相對的革巴材。
[0010]本實用新型的有益效果在于:通過該抽氣幫浦可同時對該兩鍍膜空間抽真空，可隨時維持該兩鍍膜空間的真空度，而且該抽氣幫浦可于兩種不同的抽氣模式間切換，可因應鍍膜空間的真空度變化切換到適當?shù)某闅饽Ｊ?，應用上非常靈活且方便。本實用新型通過在所述鍍膜空間交界處設置該抽氣幫浦，此種結構創(chuàng)新，可免去于該兩鍍膜空間之間設置閥門，從而可提升制程速度、縮短制程時間，具有鍍膜效率高的優(yōu)點。
【附圖說明】
[0011]圖1是本實用新型真空鍍膜設備的一實施例的設備示意圖；
[0012]圖2是該實施例進行鍍膜制程的流程示意圖。
【具體實施方式】
[0013]下面結合附圖及實施例對本實用新型進行詳細說明。
[0014]參閱圖1與圖2，本實用新型真空鍍膜設備的一實施例，是以一磁控濺鍍設備為例，并適用于在一基板I上鍍膜。該真空鍍膜設備包含:一真空腔體2、一準備單元3、二鍍膜單元4，以及一抽氣幫浦5。
[0015]該真空腔體2包括一界定出相鄰的一準備室211與一腔室212的腔壁21，以及一位于該腔室212與該準備室211之間的閥門22。該腔室212位于該準備室211的下游處，并包括二相鄰且未受隔開而相連通的鍍膜空間213、214，所述鍍膜空間213、214都可供該基板I進行鍍膜制程。其中該鍍膜空間214相對于該鍍膜空間213遠離該準備室211。該閥門22可受控制而啟閉，以使該腔室212與該準備室211連通或不連通。
[0016]該準備單元3包括一位于該準備室211并用于承載該基板I的準備載臺31，以及一連接該真空腔體2并用于對該準備室211抽真空的幫浦32，該幫浦32安裝于該腔壁21后側或上方，并具有一連通該準備室211的抽氣口 321。
[0017]所述鍍膜單元4分別位于所述鍍膜空間213、214。每一鍍膜單元4包括一用于承載該基板I的載臺41、一與該載臺41間隔相對的靶材42，以及一鄰近該靶材42的磁鐵43。所述鍍膜單元4的所述靶材42材料不同，使該基板I可以于所述鍍膜空間213、214中鍍上不同材料的薄膜。
[0018]該抽氣幫浦5連接該真空腔體2，用于對所述鍍膜空間213、214抽真空。該抽氣幫浦5安裝于該腔壁21后側或者上方，并具有一朝前延伸并穿過該腔壁21而連通所述鍍膜空間213、214的抽氣口 51。該抽氣口 51位于所述鍍膜空間213、214之間，主要是位于所述鍍膜空間213、214的交界處。該抽氣幫浦5可在一第一抽氣模式與一第二抽氣模式間切換，且該第一抽氣模式的抽氣效率大于該第二抽氣模式的抽氣效率。所述抽氣效率是指單位時間所抽走的氣體體積，抽氣效率越大，代表能在越短的時間內(nèi)使所述鍍膜空間213、214達到越高的真空度。
[0019]該第一抽氣模式的運作功率大于該第二抽氣模式的運作功率，以控制該抽氣幫浦5能啟動較高效能的抽氣模式。通常在本實用新型裝置剛啟動時，或腔室212真空度較差時，為了快速達到高真空度，可以控制該抽氣幫浦5運作于該第一抽氣模式。當腔室212達到穩(wěn)定且良好的高真空度時，則可以切換至較低功率的該第二抽氣模式。在整個鍍膜制程中，上述使用不同抽氣模式進行抽氣的方式僅是舉例，實際上抽氣效率的設定，可依使用者所要求的生產(chǎn)效率及其選擇的性價比而定。
[0020]抽氣效率的設定值大小與所要求的生產(chǎn)效率(Turn Around Time)及該真空腔體2大小有關系。舉例來說，該腔室212的長度為5公尺?10公尺，寬度為0.3公尺?0.6公尺，高度為0.2公尺?0.5公尺時，在該第一抽氣模式下，抽氣效率可為500公升/秒?3500公升/秒，在該第二抽氣模式下，抽氣效率可為200公升/秒?1000公升/秒。另一方面，當該腔室212尺寸較大時，長度為10公尺?20公尺，寬度為1.2公尺?3公尺，高度為I公尺?2公尺時，在該第一抽氣模式下，抽氣效率可為15000公升/秒?30000公升/秒，在該第二抽氣模式下，抽氣效率可為5000公升/秒?10000公升/秒。其中，腔室212大小的選用與欲鍍基板I的尺寸有關。
[0021]本實用新型進行鍍膜時，首先將基板I放置于該準備室211的該準備載臺31上，此時該閥門22關閉，以隔開該準備室