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      一種晶體片倒角裝置的制造方法

      文檔序號(hào):8875100閱讀:531來(lái)源:國(guó)知局
      一種晶體片倒角裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型晶體片生產(chǎn)加工領(lǐng)域,特別指一種晶體片倒角裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002]晶體片在加工中有一道倒角工序,由于晶體片比較薄脆,而且一般難以有相應(yīng)的裝置對(duì)其進(jìn)行夾持并磨削,而且倒角有尺寸要求,徒手夾持用砂輪磨削的話,難以加工。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作方便快捷,加工精度高,生產(chǎn)效率高的晶體片倒角裝置。
      [0004]本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案如下:一種晶體片倒角裝置,包括工作臺(tái)、晶片固定組件及磨削組件,其中,上述工作臺(tái)為L(zhǎng)型支撐結(jié)構(gòu),工作臺(tái)由橫向支撐塊及豎向支撐塊連接而成;上述晶片固定組件設(shè)置在橫向支撐塊上,晶片固定組件上放置待加工的晶片,并推動(dòng)晶片橫向運(yùn)動(dòng)至豎向支撐塊處;上述磨削組件設(shè)置在豎向支撐塊上,磨削組件驅(qū)動(dòng)砂輪沿豎向支撐塊進(jìn)行豎向運(yùn)動(dòng),以便將砂輪推至待加工的晶片處,對(duì)晶片進(jìn)行磨削倒角。
      [0005]優(yōu)選地,所述的晶片固定組件包括第一固定座、第一導(dǎo)軌、第一導(dǎo)槽、滑塊、連接塊、晶片吸盤(pán)、連桿、推塊、推桿及氣缸。
      [0006]優(yōu)選地,所述的第一導(dǎo)軌固定設(shè)置在工作臺(tái)的橫向支撐塊上,并沿橫向支撐塊延伸;上述第一導(dǎo)槽嵌在第一導(dǎo)軌內(nèi),并沿第一導(dǎo)軌自由運(yùn)動(dòng);第一導(dǎo)槽的上端固定在滑塊上,并帶動(dòng)滑塊橫向運(yùn)動(dòng);滑塊上固定有晶片吸盤(pán),晶片吸盤(pán)上放置待加工的晶體片,滑塊運(yùn)動(dòng)帶動(dòng)晶片吸盤(pán)運(yùn)動(dòng),以便將晶體片推送至砂輪的下部。
      [0007]優(yōu)選地,所述的滑塊的下部固定有連接塊,連接塊的左端固定有連桿,連桿的左端固定在推塊上,推塊的左端固定在推桿上,推桿推動(dòng)推塊橫向運(yùn)動(dòng)。
      [0008]優(yōu)選地,所述的推桿設(shè)置在氣缸內(nèi),氣缸驅(qū)動(dòng)推桿橫向運(yùn)動(dòng),以便依此推動(dòng)推塊、連桿、連接塊及滑塊橫向運(yùn)動(dòng);上述氣缸的左端固定在第一固定座上,第一固定座固定在工作臺(tái)的橫向支撐塊上。
      [0009]優(yōu)選地,所述的磨削組件包括第二導(dǎo)軌、第二導(dǎo)槽、活動(dòng)座、絲桿絲桿座、第二固定座、固定板、電機(jī)及砂輪。
      [0010]優(yōu)選地,所述的第二導(dǎo)軌固定設(shè)置在上述工作臺(tái)的豎向支撐塊上,并沿豎向支撐塊延伸;第二導(dǎo)槽嵌在第二導(dǎo)軌內(nèi),并沿第二導(dǎo)軌自由運(yùn)動(dòng),第二導(dǎo)槽的外端固定在活動(dòng)座上,活動(dòng)座的上端插設(shè)有絲桿,并與絲桿螺紋連接;絲桿的上端插在絲桿座中,絲桿座驅(qū)動(dòng)絲桿旋轉(zhuǎn),以便帶動(dòng)活動(dòng)座沿第二導(dǎo)軌豎向運(yùn)動(dòng);上述絲桿座固定在第二固定座上,第二固定座固定在工作臺(tái)的豎向支撐塊上。
      [0011]優(yōu)選地,所述的活動(dòng)座的左側(cè)向外延伸形成支撐平臺(tái),該支撐平臺(tái)上可拆卸地固定有固定板,固定板上固定有電機(jī),電機(jī)的電機(jī)軸向下延伸穿過(guò)活動(dòng)座,電機(jī)軸的下端固定有砂輪,電機(jī)隨活動(dòng)座豎向運(yùn)動(dòng),以便使砂輪移動(dòng)至待加工的晶體片附近,電機(jī)驅(qū)動(dòng)砂輪旋轉(zhuǎn),以便打磨晶體片周緣,進(jìn)行倒角。
      [0012]優(yōu)選地,所述的晶體吸盤(pán)包括吸盤(pán)體、吸孔、導(dǎo)氣槽及環(huán)形吸槽,其中,上述吸盤(pán)體為圓柱體結(jié)構(gòu),吸孔設(shè)置在吸盤(pán)體上,并貫穿吸盤(pán)體;環(huán)形槽包括至少二個(gè),各環(huán)形槽間隔設(shè)置在吸盤(pán)體的頂面,并向下凹陷,形成晶體吸附面,以便吸附晶體;上述導(dǎo)氣槽設(shè)置在吸盤(pán)體的頂面,導(dǎo)氣槽連接吸孔及環(huán)形吸槽,吸孔連接外設(shè)的真空發(fā)生器及氣泵,以便使吸附面上形成負(fù)壓,吸住待加工的晶體片。
      [0013]優(yōu)選地,所述的導(dǎo)氣槽由相互垂直的兩個(gè)長(zhǎng)條狀槽體交叉形成為十字形槽體,導(dǎo)氣槽的交叉點(diǎn)與吸孔重疊,使吸孔與導(dǎo)氣槽連通;兩個(gè)長(zhǎng)條狀槽體向兩側(cè)延伸至外側(cè)的環(huán)形槽體內(nèi),以便使各環(huán)形槽體與吸孔連通;吸孔的兩端分別延伸至吸盤(pán)體的頂面及底面,吸孔的底端設(shè)有接氣管,接氣管的上端與吸孔連接,下端連接有氣管,氣管連接在外設(shè)的真空發(fā)生器及氣泵。
      [0014]本實(shí)用新型的有益效果在于:
      [0015]本實(shí)用新型是在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中,總結(jié)創(chuàng)新得出,通過(guò)設(shè)計(jì)一種包括工作臺(tái)、晶片固定組件及磨削組件的晶體片倒角裝置,工作臺(tái)為L(zhǎng)型支撐結(jié)構(gòu),由橫向支撐塊及豎向支撐塊連接而成,橫向支撐塊上設(shè)置有晶體固定組件,磨削組件設(shè)置在豎向支撐塊上,晶體固定組件的第一導(dǎo)軌固定在橫向支撐座上,第一導(dǎo)軌上嵌有第一導(dǎo)槽,第一導(dǎo)槽固定在滑塊上部,滑塊的底部固定有連接塊,連接塊通過(guò)連桿連接在推塊上,推塊則連接固定在氣缸的推桿上,氣缸驅(qū)動(dòng)推桿橫向運(yùn)動(dòng),從而推動(dòng)滑塊沿第一導(dǎo)軌橫向運(yùn)動(dòng),滑塊上設(shè)置有晶片吸盤(pán),晶片吸盤(pán)上吸附有待加工的晶體片,滑塊運(yùn)動(dòng),以便將晶體片推至磨削組件的下方;磨削組件的第二導(dǎo)軌固定在工作臺(tái)的豎向支撐塊上,第二導(dǎo)軌上嵌有第二導(dǎo)槽,第二導(dǎo)槽沿第二導(dǎo)軌豎向自由運(yùn)動(dòng),第二導(dǎo)槽固定在活動(dòng)座上,活動(dòng)座的上部插設(shè)有絲桿,并與絲桿螺紋連接,絲桿的上部插入在絲桿座內(nèi),絲桿座驅(qū)動(dòng)絲桿旋轉(zhuǎn),以便帶動(dòng)活動(dòng)座沿第二導(dǎo)軌豎向運(yùn)動(dòng),活動(dòng)座上固定有電機(jī),電機(jī)轉(zhuǎn)軸設(shè)置在電機(jī)下部,電機(jī)轉(zhuǎn)軸上設(shè)置砂輪,活動(dòng)座帶動(dòng)砂輪移動(dòng)至待加工晶體片處,電機(jī)驅(qū)動(dòng)砂輪旋轉(zhuǎn),以便打磨晶體片周緣,形成倒角。
      【附圖說(shuō)明】
      [0016]圖1為本實(shí)用新型的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0017]圖2為本實(shí)用新型的主視圖。
      [0018]圖3為圖2的俯視圖。
      [0019]圖4為圖1中晶體吸盤(pán)的立體結(jié)構(gòu)示意圖之一。
      [0020]圖5為圖1中晶體吸盤(pán)的立體結(jié)構(gòu)示意圖之二。
      【具體實(shí)施方式】
      [0021]下面將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述:
      [0022]如圖1至圖5所示,本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案如下:一種晶體片倒角裝置,包括工作臺(tái)1、晶片固定組件及磨削組件,其中,上述工作臺(tái)I為L(zhǎng)型支撐結(jié)構(gòu),工作臺(tái)I由橫向支撐塊及豎向支撐塊連接而成;上述晶片固定組件設(shè)置在橫向支撐塊上,晶片固定組件上放置待加工的晶片,并推動(dòng)晶片橫向運(yùn)動(dòng)至豎向支撐塊處;上述磨削組件設(shè)置在豎向支撐塊上,磨削組件驅(qū)動(dòng)砂輪20沿豎向支撐塊進(jìn)行豎向運(yùn)動(dòng),以便將砂輪20推至待加工的晶片處,對(duì)晶片進(jìn)行磨削倒角。
      [0023]晶片固定組件包括第一固定座11、第一導(dǎo)軌2、第一導(dǎo)槽3、滑塊4、連接塊5、晶片吸盤(pán)6、連桿7、推塊8、推桿9及氣缸10。
      [0024]第一導(dǎo)軌2固定設(shè)置在工作臺(tái)I的橫向支撐塊上,并沿橫向支撐塊延伸;上述第一導(dǎo)槽3嵌在第一導(dǎo)軌2內(nèi),并沿第一導(dǎo)軌自由運(yùn)動(dòng);第一導(dǎo)槽3的上端固定在滑塊4上,并帶動(dòng)滑塊4橫向運(yùn)動(dòng);滑塊4上固定有晶片吸盤(pán)6,晶片吸盤(pán)6上放置待加工的晶體片,滑塊4運(yùn)動(dòng)帶動(dòng)晶片吸盤(pán)6運(yùn)動(dòng),以便將晶體片推送至砂輪20的下部。
      [0025]滑塊4的下部固定有連接塊5,連接塊5的左端固定有連桿7,連桿7的左端固定在推塊8上,推塊8的左端固定在推桿9上,推桿9推動(dòng)推塊8橫向運(yùn)動(dòng)。
      [0026]推桿9設(shè)置在氣缸10內(nèi),氣缸10驅(qū)動(dòng)推桿9橫向運(yùn)動(dòng),以便依此推動(dòng)推塊8、連桿7、連接塊5及滑塊4橫向運(yùn)動(dòng);上述氣缸10的左端固定在第一固定座11上,第一固定座11固定在工作臺(tái)I的橫向支撐塊上。
      [0027]磨削組件包括第二導(dǎo)軌12、第二導(dǎo)槽13、活動(dòng)座14、絲桿15絲桿座16、第二固定座17、固定板18、電機(jī)19及砂輪20。
      [0028]第二導(dǎo)軌12固定設(shè)置在上述工作臺(tái)I的豎向支撐塊上,并沿豎向支撐塊延伸;第二導(dǎo)槽13嵌在第二導(dǎo)軌12內(nèi),并沿第二導(dǎo)軌12自由運(yùn)動(dòng),第二導(dǎo)槽13的外端固定在活動(dòng)座14上,活動(dòng)座14的上端插設(shè)有絲桿15,并與絲桿15螺紋連接;絲桿15的上端插在絲桿座16中,絲桿座16驅(qū)動(dòng)絲桿15旋轉(zhuǎn),以便帶動(dòng)活動(dòng)座14沿第二導(dǎo)軌12豎向運(yùn)動(dòng);上述絲桿座16固定在第二固定座17上,第二固定座17固定在工作臺(tái)I的豎向支撐塊上。
      [0029]活動(dòng)座14的左側(cè)向外延伸形成支撐平臺(tái),該支撐平臺(tái)上可拆卸地固定有固定板18,固定板18上固定有電機(jī)19,電機(jī)19的電機(jī)軸向下延伸穿過(guò)活動(dòng)座14,電機(jī)軸的下端固定有砂輪20,電機(jī)19隨活動(dòng)座14豎向運(yùn)動(dòng),以便使砂輪移動(dòng)至待加工的晶體片附近,電機(jī)19驅(qū)動(dòng)砂輪20旋轉(zhuǎn),以便打磨晶體片周緣,進(jìn)行倒角。
      [0030]晶體吸盤(pán)6包括吸盤(pán)體61、吸孔62、導(dǎo)氣槽63及環(huán)形吸槽64,其中,上述吸盤(pán)體61為圓柱體結(jié)構(gòu),吸孔62設(shè)置在吸盤(pán)體61上,并貫穿吸盤(pán)體61 ;環(huán)形槽64包括至少二個(gè),各環(huán)形槽64間隔設(shè)置在吸盤(pán)體61的頂面,并向下凹陷,形成晶體吸附面,以便吸附晶體
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