連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種鍍膜設(shè)備，特別是涉及一種連續(xù)型(in-line)同步鍍膜設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]目前真空濺鍍(sputtering)技術(shù)的應(yīng)用日漸廣泛，舉凡在可攜式3C電子產(chǎn)品外殼上鍍覆防電磁波干擾(EMI)鍍膜的3C產(chǎn)業(yè)，甚或是在透明鏡片上鍍覆有光學(xué)鍍膜(optical film)的光學(xué)鏡片產(chǎn)業(yè)，無不使用到真空濺鍍設(shè)備。在各種真空濺鍍設(shè)備中又以連續(xù)型多腔體(mult1-chambers)的鍍膜設(shè)備因為具備有速度快、產(chǎn)量高、鍍覆質(zhì)量優(yōu)良，以及能大幅地降低生產(chǎn)成本等優(yōu)點，因而廣泛地應(yīng)用于大量鍍膜的制程中。
[0003]參閱圖1，中國臺灣第M258101核準(zhǔn)公告號實用新型專利案(以下稱前案)公開一種一般的連續(xù)型鍍膜設(shè)備9，包含一個真空腔體91、一個能在該真空腔體91內(nèi)沿一方向Y移動且載放有一待鍍物(圖未示)的載具92、多個設(shè)置在該真空腔體91內(nèi)的傳輸機(jī)構(gòu)93、一前升降單元94、一后升降單元95，及一個設(shè)置在該真空腔體91下的回傳模塊96。
[0004]該真空腔體91沿該方向Y依序包括一個進(jìn)料區(qū)間911、一個設(shè)置有多個陰極濺鍍靶的鍍膜區(qū)間912，及一個出料區(qū)間913。該前升降單元94與該后升降單元95是分別鄰設(shè)于該真空腔體91的進(jìn)料區(qū)間911與出料區(qū)間913。
[0005]該載放有該待鍍物的載具92是先通過該前升降單元94導(dǎo)入至該真空腔體91的該進(jìn)料區(qū)間911，以通過設(shè)置于該真空腔體91內(nèi)的所述傳輸機(jī)構(gòu)93傳送進(jìn)入該鍍膜區(qū)間912經(jīng)由所述陰極濺鍍靶進(jìn)行多道鍍膜程序并制得一鍍覆有一多層膜的完成品后，被傳送進(jìn)入該出料區(qū)間913以通過該出料區(qū)間913內(nèi)的傳輸機(jī)構(gòu)93導(dǎo)出該出料區(qū)間913并位于該后升降單元95上。最后，通過人工或機(jī)械手臂拿取該完成品后，以經(jīng)由該后升降單元95使凈空后的該載具92向下位移并導(dǎo)入該回傳模塊96，且通過該回傳模塊96重新回到該前升降單元94上，再放置另一個待鍍物以形成一個循環(huán)。如此，不斷重復(fù)上述的各道鍍膜程序，以依序生廣出完成品。
[0006]然而，由于該一般的連續(xù)型鍍膜設(shè)備9內(nèi)所配置的載具92的數(shù)量僅有一個，該載放有該待鍍物的載具92必須完成各道鍍膜程序后，才能在凈空后的載具92上載放另一個待鍍物以重新進(jìn)行各道鍍膜程序。因此，當(dāng)該載具92在該鍍膜區(qū)間912內(nèi)的其中一陰極濺鍍靶進(jìn)行其中一道鍍膜程序時，將造成其他陰極濺鍍靶閑置，無法有效地提高產(chǎn)能并縮減量產(chǎn)的工時。
[0007]經(jīng)上述說明可知，改良連續(xù)型鍍膜設(shè)備的結(jié)構(gòu)，以解決陰極濺鍍靶閑置的問題并借此提高產(chǎn)能使量產(chǎn)的工時得以縮減，是此技術(shù)領(lǐng)域的相關(guān)技術(shù)人員所待突破的難題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本實用新型的目的在于提供一種連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備。
[0009]本實用新型的連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備，包含:一個真空腔體、η個陰極濺鍍靶組合、多個載具，及一個傳輸機(jī)構(gòu)。該真空腔體包括(n+1)個緩沖區(qū)間及η個鍍膜區(qū)間，所述緩沖區(qū)間與所述鍍膜區(qū)間是沿一排列方向依序輪流設(shè)置，η 3 2且是正整數(shù)。所述陰極濺鍍靶組合分別對應(yīng)設(shè)置在該η個鍍膜區(qū)間，且每一陰極濺鍍靶組合具有至少一種靶材。所述載具分別載放一個待鍍物且分別能被控制地于該多個鍍膜區(qū)間和該多個緩沖區(qū)間移動，其中，每一載具于各鍍膜區(qū)間中執(zhí)行一鍍膜程序時，能于各鍍膜區(qū)間與各鍍膜區(qū)間前后的緩沖區(qū)間三者間移動。該傳輸機(jī)構(gòu)設(shè)置于該真空腔體，且于所述緩沖區(qū)間、所述鍍膜區(qū)間連續(xù)地設(shè)置，用以傳輸所述載具進(jìn)行各鍍膜程序。
[0010]本實用新型的連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備，該傳輸機(jī)構(gòu)包括(2η+1)個輸送組件，及(2η+1)個用以分別驅(qū)動所述輸送組件的馬達(dá)，該傳輸機(jī)構(gòu)的(2η+1)個輸送組件分別對應(yīng)設(shè)置在所述緩沖區(qū)間與所述鍍膜區(qū)間。
[0011]本實用新型的連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備，該傳輸機(jī)構(gòu)的每一輸送組件具有多個滾輪，各輸送組件的所述滾輪是用以承托傳輸所述載具進(jìn)行各鍍膜程序。
[0012]本實用新型的連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備，該傳輸機(jī)構(gòu)還包括(2η+1)個感應(yīng)單元，該(2η+1)個感應(yīng)單元分別對應(yīng)設(shè)置在所述緩沖區(qū)間與所述鍍膜區(qū)間，并用以偵測所述載具的位置。
[0013]本實用新型的連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備，每一感應(yīng)單元具有一前傳感器，及一后傳感器。
[0014]本實用新型的連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備，該連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備還包含一設(shè)置于該真空腔體對應(yīng)于第一個緩沖區(qū)間的一端的入口閥門、一設(shè)置于該真空腔體對應(yīng)于第(n+1)個緩沖區(qū)間的另一端的出口閥門，及一銜接該出口閥門與該入口閥門的自動回流單元。
[0015]本實用新型的連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備，該自動回流單元包括一與該出口閥門連接的載出腔、一與該入口閥門連接的載入腔，及一連接該載出腔與該載入腔的回送機(jī)構(gòu)。
[0016]本實用新型的連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備，該回送機(jī)構(gòu)具有一與該載出腔連接且能操控地使所述載具自該載出腔向下移動的沉降段、一與該載入腔連接且能操控地使所述載具向上移動至該載入腔的攀升段，及一位于該沉降段與該攀升段間的中繼段。
[0017]本實用新型的連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備，該沉降段、該攀升段、該載出腔，及該載入腔各具有一輸送組件，及一用以驅(qū)動其輸送組件的馬達(dá)，且該中繼段具有至少一輸送組件及至少一用以驅(qū)動其輸送組件的馬達(dá)。
[0018]本實用新型的連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備，該連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備還包含至少一連接于該真空腔體的抽真空單元，該自動回流單元的載出腔與載入腔分別具有一抽氣泵。
[0019]本實用新型的有益效果在于，借由該真空腔體內(nèi)的所述緩沖區(qū)間與所述鍍膜區(qū)間的結(jié)構(gòu)改良并配合所述載具的配置，令各載具可同時于各鍍膜區(qū)間內(nèi)執(zhí)行各鍍膜程序以妥善地利用每一個鍍膜區(qū)間，避免了以往因鍍膜區(qū)間內(nèi)的陰極濺鍍靶閑置而無法有效地提高產(chǎn)能并縮減量產(chǎn)工時的問題。
【附圖說明】
[0020]本實用新型的其他的特征及功效，將于參照圖式的實施方式中清楚地呈現(xiàn)，其中:
[0021]圖1是一側(cè)視示意圖，說明中國臺灣第M258101核準(zhǔn)公告號實用新型專利案所公開的一般的連續(xù)型鍍膜設(shè)備；
[0022]圖2是一上視圖，說明本實用新型連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備的一實施例；
[0023]圖3是沿圖2的直線II1-1II所取得的一剖視示意圖，說明本實用新型該實施例的多個載具于該實施例內(nèi)的配置關(guān)系與移動情形；
[0024]圖4是取自圖3的一局部放大圖，說明本實用新型該實施例的一鍍膜區(qū)間、部分傳輸機(jī)構(gòu)及部分回送機(jī)構(gòu)的細(xì)部結(jié)構(gòu)；
[0025]圖5是一立體圖，說明本實用新型該實施例的鍍膜區(qū)間的細(xì)部結(jié)構(gòu)。
【具體實施方式】
[0026]參閱圖2、圖3與圖4，本實用新型的連續(xù)型同步鍍膜設(shè)備的一實施例，包含:一個真空腔體l、n個陰極濺鍍靶組合2、多個載具3、一個傳輸機(jī)構(gòu)4、一個入口閥門5、一個出口閥門6、一個自動回流單元7，及至少一個連接于該真空腔體I的抽真空單元8。
[0027]該真空腔體I包括(n+1)個緩沖區(qū)間11及η個鍍膜區(qū)間12，η蘭2且是正整數(shù)。所述緩沖區(qū)間11與所述鍍膜區(qū)間12是沿一排列方向X依序輪流設(shè)置。所述陰極濺鍍靶組合2分別對應(yīng)設(shè)置在該η個鍍