對(duì)調(diào)節(jié)單元借助重力欲向下方進(jìn)行的移動(dòng)，根據(jù)第1-1磁鐵和第1-2被引導(dǎo)成相互斥力產(chǎn)生作用，能夠更加有效地抵消調(diào)節(jié)單元的自重，進(jìn)而能夠以低于自重的壓力進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0030]在此情況下，調(diào)節(jié)盤與拋光墊相接觸并執(zhí)行調(diào)節(jié)工序的高度，在距離上述止擋部的位置的偏差不大的情況下，例如，上述第1-1磁鐵能夠按與上述旋轉(zhuǎn)軸的上述第一臺(tái)階相隔約5mm至20mm大小進(jìn)行間隔配置。
[0031]一方面，上述磁鐵被由在上述傳動(dòng)軸與上述驅(qū)動(dòng)軸相對(duì)的面上分別配置的第2-1磁鐵和第2-2磁鐵構(gòu)成，進(jìn)而施加引力使上述調(diào)節(jié)單元的上端與上述旋轉(zhuǎn)軸的下端相互接近，也能夠施加小于調(diào)節(jié)單元的自重的壓力。
[0032]并且，上述磁鐵還可以被配置成，板與傳動(dòng)軸的下側(cè)之間產(chǎn)生斥力，其中上述板在外周軸的下端部向連接傳動(dòng)軸與調(diào)節(jié)單元時(shí)所形成的傳動(dòng)軸與調(diào)節(jié)單元之間的空間延伸。
[0033]一方面，用于直接測(cè)定通過上述調(diào)節(jié)盤來加壓的力的重量傳感器設(shè)置于調(diào)節(jié)單元，可實(shí)時(shí)檢測(cè)借助調(diào)節(jié)盤而被施加的力，進(jìn)而可實(shí)時(shí)控制調(diào)節(jié)重量。
[0034]并且，上述調(diào)節(jié)器還包括墊高測(cè)定部，用于測(cè)定上述拋光墊在半徑方向上的高度偏差，根據(jù)借助上述墊高測(cè)定部檢測(cè)的上述拋光墊的表面高度分布，使上述拋光墊的高度越高，導(dǎo)入的壓力越大。
[0035]如此，即使在調(diào)節(jié)盤以均勻的壓力向拋光墊的表面進(jìn)行微切削，若為晶片的化學(xué)機(jī)械拋光工序而所施加于拋光墊的力的分布不均勻，則會(huì)出現(xiàn)隨半徑方向拋光墊的表面高度不均勻的現(xiàn)象，因此，對(duì)于拋光墊的半徑方向的高度偏差，通過調(diào)節(jié)由調(diào)節(jié)盤向拋光墊進(jìn)行施壓并微切削的切削量，即便在晶片的拋光工序中存在拋光墊的半徑方向的力的偏差，拋光墊的整體表面能夠保持相同的高度，并且能夠?qū){液均勻地向晶片供給。由此，借助調(diào)節(jié)器的拋光墊的表面整體的修整效果變得均勻，流入晶片的漿液的量不會(huì)出現(xiàn)局部性的差異，進(jìn)而能夠獲得以更加優(yōu)秀的品質(zhì)執(zhí)行晶片的化學(xué)機(jī)械拋光工序的效果。
[0036]在本說明書以及本實(shí)用新型的權(quán)利要求書中所記載的“拋光墊的半徑方向的表面高度值”、“拋光墊的半徑方向的墊高”以及與此相似的術(shù)語定義成應(yīng)包括“從拋光墊的底面至表面的絕對(duì)高度”，還包括作為“拋光墊的表面高度的偏差”的相對(duì)高度。
[0037]根據(jù)本實(shí)用新型，設(shè)置有磁鐵，上述磁鐵產(chǎn)生磁力，使借助調(diào)節(jié)單元的自重的重力方向的力被抵消，根據(jù)借助磁力來引入向旋轉(zhuǎn)軸抬起調(diào)節(jié)單元的上升的力，以小于調(diào)節(jié)單元的自重的低壓來精準(zhǔn)地控制拋光墊，進(jìn)而能夠達(dá)到通過加壓來修整的有利效果。
[0038]由此，本實(shí)用新型借助如上所述的簡單的結(jié)構(gòu)，以I?2鎊(Ib)以下的低重量施加用于調(diào)節(jié)拋光墊的壓力，進(jìn)而能夠進(jìn)行修整。
[0039]并且，本實(shí)用新型可利用重力傳感器來實(shí)時(shí)測(cè)定借助調(diào)節(jié)盤來施加的力，實(shí)時(shí)控制借助調(diào)節(jié)盤的壓力，進(jìn)而能夠達(dá)到準(zhǔn)確導(dǎo)入調(diào)節(jié)盤的壓力的效果。
[0040]并且，根據(jù)本實(shí)用新型，在與調(diào)節(jié)單元一起進(jìn)行上下移動(dòng)的傳動(dòng)軸的周圍和圍繞著傳動(dòng)軸的周圍的外周軸的側(cè)壁，以環(huán)形態(tài)配置磁鐵，借助磁力來抵消借助調(diào)節(jié)單元的自重的重量，由此，能夠獲得不會(huì)產(chǎn)生調(diào)節(jié)單元偏向某一側(cè)的升力，而是準(zhǔn)確地向上下方向產(chǎn)生升力，在調(diào)節(jié)盤的表面整體均勻地保持低于調(diào)節(jié)單元的壓力，并執(zhí)行調(diào)節(jié)工序的優(yōu)點(diǎn)。
[0041]并且，根據(jù)本實(shí)用新型，對(duì)應(yīng)于拋光墊的半徑方向的高度偏差，調(diào)節(jié)調(diào)節(jié)盤的壓力，由調(diào)節(jié)器對(duì)拋光墊進(jìn)行微切削，以保持拋光墊的整體表面的相同高度，使得能夠獲得向拋光墊供給的漿液始終均勻地向晶片進(jìn)行供給的有利效果。
[0042]由此，根據(jù)本實(shí)用新型，隨著借助調(diào)節(jié)器而使得拋光墊的表面整體的修整效果變得均勻，能夠獲得按更加優(yōu)秀的品質(zhì)執(zhí)行晶片的化學(xué)機(jī)械拋光工序的效果。
【附圖說明】
[0043]圖1為表示一般的化學(xué)機(jī)械拋光裝置的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
[0044]圖2為圖1的俯視圖。
[0045]圖3為沿圖2的切割線3-3的拋光墊的表面高度的分布圖。
[0046]圖4為表示本實(shí)用新型的一實(shí)施例的化學(xué)機(jī)械拋光裝置的調(diào)節(jié)器的結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0047]圖5為沿圖4的切割線V-V的調(diào)節(jié)器的縱剖視圖。
[0048]圖6為沿圖5的切割線V1- VI的調(diào)節(jié)器的橫剖簡圖。
[0049]圖7為圖5的“A”部分的放大圖。
[0050]圖8為圖5的“B”部分的放大圖。
[0051]圖9為圖5的“C”部分的放大圖。
[0052]圖10為根據(jù)拋光墊的高度分布的調(diào)節(jié)盤的壓力計(jì)算圖。
[0053]圖11為依次表示圖4的調(diào)節(jié)器的工作方法的順序圖。
[0054]附圖標(biāo)記的說明
[0055]W:晶片90:非接觸式表面高度測(cè)定部
[0056]100:調(diào)節(jié)器 110:調(diào)節(jié)單元
[0057]111:調(diào)節(jié)盤112:盤托
[0058]112a:托柱115:撓性隔膜
[0059]120:臂部130:旋轉(zhuǎn)體
[0060]132:凹槽135:驅(qū)動(dòng)電機(jī)
[0061]140:固定件 150:壓力調(diào)節(jié)部
[0062]160:控制部 170:第一磁鐵
[0063]180:第二磁鐵 190:第三磁鐵
[0064]201:重量傳感器Cl:加壓室
【具體實(shí)施方式】
[0065]以下，將參照附圖對(duì)本實(shí)用新型的一實(shí)施例的化學(xué)機(jī)械拋光裝置的調(diào)節(jié)器100進(jìn)行詳細(xì)說明。但是，在對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行說明的過程中，對(duì)于公知的功能或構(gòu)成，將采用相同或相似的附圖標(biāo)記，并省略有關(guān)說明，以明確本實(shí)用新型的要旨。
[0066]圖4為表示本實(shí)用新型的一實(shí)施例的化學(xué)機(jī)械拋光裝置的調(diào)節(jié)器的構(gòu)成的立體圖，圖5為沿圖4的切割線V-V的調(diào)節(jié)器的縱剖視圖。，圖6為沿圖5的切割線V1-VI的調(diào)節(jié)器的橫剖簡圖，圖7為圖5的“A”部分的放大圖，圖8為圖5的“B”部分的放大圖，圖9為圖5的“C”部分的放大圖。
[0067]如圖所示，本實(shí)用新型的一實(shí)施例的化學(xué)機(jī)械拋光裝置的調(diào)節(jié)器100包括:調(diào)節(jié)單元110，以在由晶片W施壓的拋光墊11的表面進(jìn)行往復(fù)回旋運(yùn)動(dòng)120d的方式進(jìn)行修整；臂部120，以將調(diào)節(jié)單元110設(shè)置于一端部的狀態(tài)隨著旋回軸120a的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行往復(fù)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)；旋轉(zhuǎn)軸130，在臂部120的末端借助驅(qū)動(dòng)電機(jī)135被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)而向調(diào)節(jié)單元110傳遞旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)力；固定件140，以圍繞旋轉(zhuǎn)軸130的外圍的形態(tài)固定于上述臂部120 ;壓力調(diào)節(jié)部150，向加壓室Cl施加空壓；墊高測(cè)定部90，用于測(cè)定拋光墊11的表面高度差異；第一磁鐵170、第二磁鐵180以及第三磁鐵190，被設(shè)置成向抑制調(diào)節(jié)單元110向重力方向移動(dòng)的方向產(chǎn)生磁力；以及重量傳感器201，用于測(cè)定借助調(diào)節(jié)盤111施加的壓力。
[0068]上述調(diào)節(jié)單元110包括:調(diào)節(jié)盤111，以與拋光板10上的拋光墊11的表面相接觸的狀態(tài)并在預(yù)定的角度范圍內(nèi)沿著回旋旋轉(zhuǎn)路徑進(jìn)行移動(dòng)，并對(duì)拋光墊11的表面進(jìn)行微切削；以及盤托112，固定調(diào)節(jié)盤111，使其無法脫離，并與調(diào)節(jié)盤111 一起進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。相比于調(diào)節(jié)盤111，盤托112形成有以小剖面向垂直方向向上延伸的托柱112a，從而插入設(shè)置于旋轉(zhuǎn)軸130的內(nèi)部。
[0069]調(diào)節(jié)單元110與在旋轉(zhuǎn)軸130中進(jìn)行上下移動(dòng)的傳動(dòng)軸132相結(jié)合，隨著傳動(dòng)軸132的旋轉(zhuǎn)而一起旋轉(zhuǎn)，且隨著傳動(dòng)軸132的上下移動(dòng)而進(jìn)行上下移動(dòng)并傳遞壓力。
[0070]上述臂部120與以預(yù)定的角度范圍旋轉(zhuǎn)的回旋軸120a相聯(lián)動(dòng)，向標(biāo)記為120d的方向進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。由此，調(diào)節(jié)單元110在臂部120的一端進(jìn)行回旋運(yùn)動(dòng)。
[0071]上述旋轉(zhuǎn)軸130包括:驅(qū)動(dòng)軸131，在臂部120的一端借助驅(qū)動(dòng)電機(jī)135來在原地被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)；傳動(dòng)軸132，以與驅(qū)動(dòng)軸131嚙合的方式被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，向調(diào)節(jié)單元110傳遞旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)力，與此同時(shí)，相對(duì)于驅(qū)動(dòng)軸131進(jìn)行上下方向的相對(duì)移動(dòng)132y ;外周軸133，呈中空型，將驅(qū)動(dòng)軸131和傳動(dòng)軸132收容于中空部并配置在上述驅(qū)動(dòng)軸131和上述傳動(dòng)軸132的周圍。在附圖所示的實(shí)施例中，外周軸133與驅(qū)動(dòng)軸131相嚙合并在原地進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，但根據(jù)未圖示的其他實(shí)施形態(tài)，也可被配置成為不設(shè)有后述的板133x，不旋轉(zhuǎn)于驅(qū)動(dòng)軸131的周圍的狀態(tài)。
[0072]傳動(dòng)軸132的下端部與調(diào)節(jié)單元110的托柱112a相結(jié)合。由此，隨著傳動(dòng)軸132相對(duì)于驅(qū)動(dòng)軸131進(jìn)行上下移動(dòng)，托柱112a隨之一同向垂直方向進(jìn)行上下移動(dòng)。
[0073]在此情況下，在驅(qū)動(dòng)軸131和傳動(dòng)軸132之間形成有壓力室Cl，驅(qū)動(dòng)軸131的下端突出部131x插入于傳動(dòng)軸132的凹入部132c，隨著從壓力調(diào)節(jié)部150到達(dá)至壓力室C的空壓，驅(qū)動(dòng)軸131的突出部131x和傳動(dòng)軸132的凹入部132c之間的空間發(fā)生變動(dòng)，隨之傳動(dòng)軸132向上下方向132y移動(dòng)，并且隨著傳動(dòng)軸132的上下移動(dòng)，借助調(diào)節(jié)盤111的壓力將發(fā)生變動(dòng)。
[0074]在此情況下，驅(qū)動(dòng)軸131的突出部131x和傳動(dòng)軸132的凹入部132c的剖面形成為并非圓形的剖面(例如，橢圓形或四邊形剖面)，從而允許相對(duì)于驅(qū)動(dòng)軸131的傳動(dòng)軸132的上下移動(dòng)的同時(shí)，使上述驅(qū)動(dòng)軸131和上述傳動(dòng)軸132 —同進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。一方面，即使驅(qū)動(dòng)軸131的突出部131x和傳動(dòng)軸132的凹入部132c的剖面形成為圓形，可在上述驅(qū)動(dòng)軸131的突出部131x和上述傳動(dòng)軸132的凹入部132c的相對(duì)的面之上，形成半徑方向的突起(未圖示)和收容上述突起的卡坎，借助向旋轉(zhuǎn)方向相互干擾，允許相對(duì)于驅(qū)動(dòng)軸131的傳動(dòng)軸132的上下移動(dòng)，并且能夠使上述驅(qū)動(dòng)軸131和上述傳