一種小型真空蒸鍍儀的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種小型真空蒸鍍儀,尤其適用于有機發(fā)光(OLED)器件的生產(chǎn)和制造,屬于機械技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]真空熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)被廣泛應(yīng)用于有機EL (Electro Luminescence)顯示器等平板顯示器的制造領(lǐng)域,該技術(shù)在相應(yīng)薄膜器件產(chǎn)業(yè)化中的應(yīng)用也十分廣泛。其基本原理是利用加熱的手段使待形成薄膜的原材料受熱蒸發(fā),由凝聚相變成氣相,原材料的分子或原子從表面氣化逸出,形成蒸汽流,入射到基板(襯底)表面,最終蒸發(fā)的分子或原子在基板(襯底)上沉積,凝結(jié)形成固態(tài)薄膜。
[0003]目前,這類真空熱蒸發(fā)鍍膜儀器主要有兩大類,一是以產(chǎn)業(yè)為主的大中型的生產(chǎn)型設(shè)備,另外則是以進一步發(fā)展有機發(fā)光顯示技術(shù)的科研學術(shù)型設(shè)備。而在科研學術(shù)型設(shè)備中,當前主流的是配有手套箱的實驗室設(shè)備,這類設(shè)備往往因使用者的具體要求和習慣不同而存在不同的結(jié)構(gòu),但大多都以低壓大電流控制為主,體積相對較大,成本較高,且標準化程度低。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷,本實用新型的目的是提出一種小型真空蒸鍍儀。
[0005]本實用新型的目的,將通過以下技術(shù)方案得以實現(xiàn):
[0006]—種小型真空蒸鍍儀,包括設(shè)備整體機架,蒸鍍腔室,真空系統(tǒng),冷卻系統(tǒng),所述蒸鍍腔室包括底部的蒸發(fā)區(qū),及設(shè)置于蒸發(fā)區(qū)正上方的待加工蒸鍍區(qū),所述蒸發(fā)區(qū)包括置于蒸鍍腔室底板上的蒸發(fā)電極、相鄰的蒸發(fā)電極之間的電極隔板、及設(shè)置于蒸發(fā)電極內(nèi)的有機蒸發(fā)坩禍;所述待加工蒸鍍區(qū)由上至下依此包括樣品盤、掩膜盤及蒸發(fā)擋板。
[0007]優(yōu)選地,所述蒸發(fā)電極包括至少兩個有機蒸發(fā)電極及一對金屬蒸發(fā)電極,每個所述有機蒸發(fā)電極與一對金屬蒸發(fā)電極通過電極隔板間隔,且在蒸鍍腔室底板上圍設(shè)成一圓周。
[0008]優(yōu)選地,所述樣品盤上開設(shè)有用于安裝蒸鍍樣片用的方形孔,所述掩膜盤上方固定有具有圖案的掩膜板。
[0009]優(yōu)選地,所述掩膜板與掩膜盤通過磁力連接固定。
[0010]優(yōu)選地,所述蒸鍍腔室的一側(cè)設(shè)置有與蒸鍍腔室密封連接的閉合門,所述閉合門上開設(shè)有兩個可視窗。
[0011]優(yōu)選地,所述蒸鍍腔室上還連接有真空系統(tǒng)及冷卻系統(tǒng)。
[0012]優(yōu)選地,所述有機蒸發(fā)電極為筒狀,設(shè)置有八個。
[0013]優(yōu)選地,所述金屬蒸發(fā)電極設(shè)置有一對,共用一組負極,并通過內(nèi)部設(shè)置有橡膠圈的絕緣環(huán)與蒸鍍腔室絕緣。
[0014]本實用新型突出效果為:體積較小,簡潔明了,功能齊全,性價比高,可實現(xiàn)大眾化的應(yīng)用;控制系統(tǒng)實現(xiàn)了整個裝置的工作,設(shè)備的標準化程度相較于其他設(shè)備而言明顯提高;同時也滿足了高等學校的日常教學和研究。
[0015]以下便結(jié)合實施例附圖,對本實用新型的【具體實施方式】作進一步的詳述,以使本實用新型技術(shù)方案更易于理解、掌握。
【附圖說明】
[0016]圖1是本裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖2是本裝置的蒸發(fā)腔體內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0018]如圖1至圖2所示,本實用新型揭示了一種小型真空蒸鍍儀,包括前部設(shè)置有電源系統(tǒng)的整體機架1,整體機架由工業(yè)鋁型材搭建而成,四周安裝鋁質(zhì)圍板,前板安裝操作面板,頂部板上裝有散熱風扇,側(cè)板上開有通風散熱的半開孔,底下安裝萬向腳輪,可以隨意移動。
[0019]整體機架上設(shè)置有蒸鍍腔室2,所述蒸鍍腔室包括底部的蒸發(fā)區(qū),及設(shè)置于蒸發(fā)區(qū)正上方的待加工蒸鍍區(qū)。所述蒸鍍腔室是用不銹鋼焊接而成的矩形腔室,外表面拉絲拋光,內(nèi)表面電解拋光,底板的外側(cè)面開有螺紋孔,安裝到所述設(shè)備機架的臺面上。所述蒸鍍腔的主腔體上開設(shè)有抽氣口等KF,CF標準接口,用于安裝其它功能性部件。
[0020]所述蒸發(fā)區(qū)包括置于蒸鍍腔室底板上的蒸發(fā)電極、所述蒸發(fā)電極包括至少兩個有機蒸發(fā)電極5及一對金屬蒸發(fā)電極4。所述蒸發(fā)電極的一端穿設(shè)出蒸鍍腔室向外,與金屬蒸發(fā)電源相聯(lián)。作為最佳的實施例,所述有機蒸發(fā)電極5為筒狀,設(shè)置有8個。為了更高效的蒸發(fā),且為了避免在蒸發(fā)時不同材料之間的污染,每個所述有機蒸發(fā)電極5與一對金屬蒸發(fā)電極4通過電極隔板6間隔,且在蒸鍍腔室底板上圍設(shè)成一圓周。其中,一對金屬蒸發(fā)電極4是一起設(shè)置于相鄰的兩塊電極隔板6之間。
[0021]所述金屬蒸發(fā)電極4共用一組負極,并通過內(nèi)部設(shè)置有橡膠圈的絕緣環(huán)與蒸鍍腔室絕緣。所述金屬蒸發(fā)電極在蒸鍍腔室內(nèi)的一端用于安裝蒸發(fā)舟,蒸發(fā)舟內(nèi)放置所在蒸發(fā)的材料。金屬蒸發(fā)電極在腔體的外面一端與金屬蒸發(fā)電源相聯(lián)。
[0022]所述有機蒸發(fā)電極5內(nèi)設(shè)置有由鹵鎢燈制得的有機蒸發(fā)坩禍51 ;有機蒸發(fā)材料放置在所述有機蒸發(fā)坩禍51內(nèi),有機蒸發(fā)坩禍51可以設(shè)置為圓筒狀,也可以通過在有機蒸發(fā)坩禍51上裝一圓環(huán)狀導(dǎo)向筒,此結(jié)構(gòu)用于改變蒸發(fā)時的束流方向,使之束流向上蒸發(fā)。
[0023]所述有機蒸發(fā)電極5通過安裝在有機蒸發(fā)電極安裝盤上的O型橡膠圈進行密封,電源通過安裝盤上的陶封電極引入,將電與腔體之間絕緣開并實現(xiàn)密封。有機蒸發(fā)電極5在蒸鍍腔體外的一側(cè)有四個引腳,兩個用于連接電源的正負極,另兩個備用。
[0024]所述待加工蒸鍍區(qū)由上至下依此包括共軸的樣品盤7、掩膜盤8及蒸發(fā)擋板9。所述樣品盤7上開設(shè)有用于安裝蒸鍍樣片用的方形孔71,所述掩膜盤8上方通過磁力固定有具有圖案的掩膜板81。當然,所述方形孔71也可以根據(jù)需要設(shè)置成其他形狀。蒸鍍樣片一般采用ITO玻璃。
[0025]具體的,掩膜板81采用導(dǎo)磁不銹鋼制作,通過固定在掩膜盤8的上磁鐵吸合而固定。掩膜板81共四塊,每塊上面刻有二個圖案,共八個圖案。通過與樣品盤7之間相對轉(zhuǎn)動,在樣片上蒸鍍得到不同的圖案。
[0026]所述蒸鍍腔室2的一側(cè)設(shè)置有與蒸鍍腔室采用鉸鏈連接的閉合門31,所述閉合門31上開設(shè)有兩個用于觀察蒸鍍腔室內(nèi)部的狀況的可視窗32。所述閉合門31上設(shè)置有密封圈,與蒸鍍腔室之間密封連接。
[0027]所述蒸鍍腔室的后壁和側(cè)壁均設(shè)置有真空系統(tǒng),所述真空系統(tǒng)包括抽空系統(tǒng)和真空度測量系統(tǒng),所述真空系統(tǒng)與蒸鍍腔室的具體連接結(jié)構(gòu)為,蒸鍍腔室的后壁連接有真空抽氣栗組,腔體側(cè)壁連接有真空度測量探頭。所述蒸鍍腔室還設(shè)置有用于對金屬蒸發(fā)電極4和分子栗進行冷卻的冷卻系統(tǒng),所述金屬蒸發(fā)電極4和分子栗的水嘴接頭均接到所述冷卻系統(tǒng)上。
[0028]所述冷卻系統(tǒng)具體包括一臺水