一種磁控濺射鍍膜用的平面陰極的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及磁控濺射裝置領(lǐng)域，特別涉及一種磁控濺射鍍膜用的平面陰極。
【背景技術(shù)】
[0002]大面積磁控濺射廣泛應(yīng)用于光學(xué)、半導(dǎo)體、光電顯示、納米材料、集成線路和建筑裝飾等行業(yè)，在目前的真空鍍膜設(shè)備中，矩形平面濺射陰極是其核心設(shè)備，尤其是在大面積真空鍍膜設(shè)備中更是如此。平面陰極是最早設(shè)計(jì)和廣泛應(yīng)用的陰極濺射系統(tǒng)，尤其為直流磁控濺射工藝在金屬材料和類金屬材料的濺射沉積鍍膜領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。作為成熟的穩(wěn)定性最好的磁控濺射陰極結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，大面積線性平面磁控濺射陰極有很多衍生的設(shè)計(jì)；目前廣泛應(yīng)用在鍍膜工業(yè)行業(yè)中大的矩形平面濺射陰極，其在陰極周圍設(shè)有屏蔽罩，屏蔽罩下端連接有陽(yáng)極框，其中，陽(yáng)極框、屏蔽罩與電源正極、地線相連并與陰極體保持一定的距離，零電位的屏蔽罩截獲非靶材發(fā)射出的電子，避免氬氣電離產(chǎn)生輝光放電，阻止靶座等部件產(chǎn)生濺射，有效保證鍍膜質(zhì)量，但是這些陰極設(shè)計(jì)都存在濺射靶材利用率不不高、濺射沉積不均勻和陰極冷卻效果不佳的問(wèn)題，影響和限制了線性平面陰極在大面積磁控濺射領(lǐng)域的應(yīng)用。
[0003]公開號(hào)為CN203021644U的中國(guó)專利，公開了一種帶有磁芯軸裝置的鍍膜用陰極磁棒裝置，鍍膜陰極靶的濺射速率，沉積速率和靶材利用率還是不夠，使線性平面陰極應(yīng)用受到影響。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]為了克服上述所述的不足，本實(shí)用新型的目的是提供一種利用率高、濺射沉積均勻、陰極冷卻效果好的磁控濺射鍍膜用的平面陰極。
[0005]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案是:
[0006]—種磁控濺射鍍膜用的平面陰極，其中，包括濺射靶、靶套、真空腔體、絕緣座、陰極座、銅背板、可調(diào)磁極板、基片架，所述靶套通過(guò)第一真空密封圈與所述真空腔體密封連接；所述絕緣座通過(guò)第二真空密封圈與所述靶套連接；所述陰極座通過(guò)第三真空密封圈與所述絕緣座連接；所述銅背板通過(guò)第四真空密封圈與所述陰極座連接；所述陰極座與所述銅背板之間形成冷卻水腔；所述濺射靶固定在所述銅背板上；所述可調(diào)磁極板固定在所述冷卻水腔內(nèi)，所述可調(diào)磁極板與所述基片架連接。
[0007]作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn)，所述靶套緊固連接有陽(yáng)極座，所述靶套與所述陽(yáng)極座之間設(shè)置有工藝進(jìn)氣道，所述陽(yáng)極座上緊固連接有均氣壓板。
[0008]作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述可調(diào)磁極板設(shè)置有S極磁極、N極磁極、極靴座、極靴蓋、磁板定位柱、磁板鎖緊螺母、水密封蓋、調(diào)整座、調(diào)整桿和調(diào)整螺母；所述S極磁極和N極磁極處在所述極靴座與所述極靴蓋之間形成的極靴空間里，所述S極磁極和N極磁極固定在所述磁極板定位柱上，所述磁板鎖緊螺母、所述調(diào)整螺母分別與所述調(diào)整桿配合連接，所述調(diào)整桿通過(guò)第五真空密封圈與所述陰極座連接，所述調(diào)整螺母固定在所述調(diào)整座上。
[0009]作為本實(shí)用新型的更進(jìn)一步改進(jìn)，所述陰極座設(shè)置有進(jìn)水孔和出水孔，所述進(jìn)水孔和出水孔分別與所述冷卻水腔相連。
[0010]作為本實(shí)用新型的更進(jìn)一步改進(jìn)，所述絕緣座的材料為聚甲醛。
[0011 ] 本實(shí)用新型的一種磁控濺射鍍膜用的平面陰極包括濺射靶、靶套、真空腔體、絕緣座、陰極座、銅背板、可調(diào)磁極板、基片架，靶套通過(guò)第一真空密封圈與真空腔體密封連接；絕緣座通過(guò)第二真空密封圈與靶套連接；陰極座通過(guò)第三真空密封圈與絕緣座連接；銅背板通過(guò)第四真空密封圈與陰極座連接；陰極座與銅背板之間形成冷卻水腔；濺射靶固定在銅背板上；可調(diào)磁極板固定在冷卻水腔內(nèi)，可調(diào)磁極板與基片架連接。在本實(shí)用新型中，通過(guò)采用全水冷的方式對(duì)銅背板進(jìn)行冷卻，在生產(chǎn)過(guò)程中可以最大化的帶走濺射產(chǎn)生的熱量；而且還通過(guò)采用可調(diào)磁極板全水冷的方式進(jìn)行磁極板冷卻，因此磁場(chǎng)的穩(wěn)定性強(qiáng)，可以長(zhǎng)期保持磁場(chǎng)的穩(wěn)定性；另外，各部件的結(jié)合處采用靜密封，密封效果好，有效地防止了漏水、漏氣和陰極短路現(xiàn)象的發(fā)生，減少了維修成本，使得本實(shí)用新型使用壽命增長(zhǎng)。本實(shí)用新型濺射靶利用率高、濺射沉積均勻、陰極冷卻效果好。
【附圖說(shuō)明】
[0012]為了易于說(shuō)明，本實(shí)用新型由下述的較佳實(shí)施例及附圖作以詳細(xì)描述。
[0013]圖1為本實(shí)用新型的主視圖；
[0014]圖2為圖1的左視圖；
[0015]圖3為圖1的俯視圖；
[0016]圖4為本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例的主視圖；
[0017]圖5為圖4的左視圖；
[0018]圖6為圖4的俯視圖；
[0019]附圖標(biāo)記:1-靶套，2-絕緣座，3-陰極座，4-陽(yáng)極座，5-均氣壓板，6_滅弧罩，7_工藝進(jìn)氣道，8-銅背板，9-濺射靶，10-可調(diào)磁極板，10-1-S極磁鐵，10-2-N極磁鐵，10-3-極靴座，10-4-極靴蓋，10-5-磁極板定位柱，10-6-磁板鎖緊螺母，10-7-水密封蓋，10-8-調(diào)整座，10-9-調(diào)整桿，10-10-調(diào)整螺母，11-真空腔體，12-基片架，13-1-靶套真空密封圈，13-2-絕緣套真空密封圈，13-3-陰極座真空密封圈，13-4-銅背板真空密封圈，13-5-調(diào)整桿密封圈，14-進(jìn)水孔，15-出水孔，16-冷卻水腔。
【具體實(shí)施方式】
[0020]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0021]如圖1、圖2、圖3、圖4、圖5和圖6所示，本實(shí)用新型的一種磁控濺射鍍膜用的平面陰極，包括濺射靶9、靶套1、真空腔體11、絕緣座2、陰極座3、銅背板8、可調(diào)磁極板10、基片架12，靶套1通過(guò)第一真空密封圈與真空腔體11密封連接；絕緣座2通過(guò)第二真空密封圈與靶套1連接；陰極座3通過(guò)第三真空密封圈與絕緣座2連接；銅背板8通過(guò)第四真空密封圈與陰極座3連接；陰極座3與銅背板8之間形成冷卻水腔11 ;濺射靶9固定在銅背板8上；可調(diào)磁極板10固定在冷卻水腔11內(nèi)，可調(diào)磁極板11與基片架12連接。
[0022]在本實(shí)用新型中，通過(guò)采用全水冷的方式對(duì)銅背板8進(jìn)行冷卻，在生產(chǎn)過(guò)程中可以最大化的帶走濺射產(chǎn)生的熱量；而且還通過(guò)采用可調(diào)磁極板10全水冷的方式進(jìn)行磁極板冷卻，因此磁場(chǎng)的穩(wěn)定性強(qiáng)，可以長(zhǎng)期保持磁場(chǎng)的穩(wěn)定性；另外，各部件的結(jié)合處采用靜密封，密封效果好，有效地防止了漏水、漏氣和陰極短路現(xiàn)象的發(fā)