用于安置基板的裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種用于安置基板的裝置，具有多個布置在水平面內的、分別被支承圓圍繞的、分別用于圓盤狀基板的支承座，所述裝置還具有多個在相鄰的支承座之間布置的支架，所述支架空間上相互分隔并且具有定心側面，所述定心側面分別沿著位于水平面內的圓弧線延伸，其中，多個分別位于支承座側面的定心側面各自構成貼靠位置，用于接觸地貼靠所述基板的邊緣的部段，所述定心側面分別配屬于相互不同的支架。
【背景技術】
[0002]這種各類型的裝置構成用于CVD (化學氣相沉積)反應器的基座，并從文獻DE 102007 023 970 A1 中已知。
[0003]未公開的文獻DE 10 2012 108 986 A1描述了一種具有在水平面內布置的支承座的基座，其中，支承座被多個定心側面包圍，其中，每個定心側面具有與支承圓相切的直線延伸的側面部段。
[0004]文獻DE 10 2011 055 061 A1描述了一種CVD反應器，其中，放置在放置面上的基板的邊緣被這樣支承，從而使基板中空地放置在其支承座上方。
[0005]文獻US 2003/0178145 Al描述了一種CVD反應器，其中，基板利用其邊緣放置在支撐點上。
[0006]根據(jù)本實用新型的裝置尤其具有和文獻EP 2 160 759 B1所述一樣的可應用在CVD反應器中的基座的設計和功能。被設計為基座的裝置由面狀的石墨件構成，該石墨件在其表面上具有相互間隔的支架?；谋砻鏄嫵闪怂降姆胖妹妫摲胖妹婢哂卸鄠€尤其均勻布置的支承座。在每個支承座上可以布置一個圓盤形的基板。已知的裝置具有從放置面伸出的支架，該支架分別構成三個貼靠側面。支架在空間上相互分離。定心側面是貼靠側面并且在弧線上延伸。在現(xiàn)有技術中，弧線位于支承座的圓形的平面輪廓線上。兩個相鄰支承座的由弧線所定義的支承圓在兩個相鄰的支架的間隔空間中接觸。利用支架的六角形布置，基板可以定位在六角形布置的放置面上。
[0007]此外，由文獻US 2013/065403和文獻W0 2012/050117還已知用于容納待涂覆的基板的載體。
【實用新型內容】
[0008]由此，本實用新型所要解決的技術問題在于，對所述類型的裝置進行便于使用的改進。
[0009]所述技術問題根據(jù)本實用新型通過一種裝置解決，所述裝置具有多個布置在水平面內的、分別被支承圓圍繞的、分別用于圓盤狀基板的支承座，所述裝置還具有多個在相鄰的支承座之間布置的支架，所述支架空間上相互分隔并且具有定心側面，所述定心側面分別沿著位于水平面內的圓弧線延伸，其中，多個分別位于支承座側面的定心側面各自構成貼靠位置，用于接觸地貼靠所述基板的邊緣的部段，所述定心側面分別配屬于相互不同的支架，其中規(guī)定，多個分別位于支承座側面的定心側面沿著相互不同的圓弧線延伸，該圓弧線的半徑分別大于所述支承圓的半徑，并且所述定心側面僅在相應的貼靠位置上與所述支承圓相切。
[0010]所述技術問題根據(jù)本實用新型還通過一種裝置解決，所述裝置具有布置在水平面內的、分別用于圓盤形基板的支承座，其中，至少一個位于所述裝置的邊緣附近的支承座這樣設計并且尤其具有凹穴，從而在位于所述支承座上的所述基板的下方構成空腔，所述空腔具有邊緣區(qū)域，所述邊緣區(qū)域的豎直深度朝著支承圓的圓心的方向變大，其特征在于，所述空腔的邊緣區(qū)域具有不同于旋轉對稱結構的延伸走向，其中，在相對于所述支承座的圓心的相等徑向距離處，在朝向所述裝置邊緣的邊緣區(qū)域中的豎直高度小于在遠離所述裝置邊緣的邊緣區(qū)域中的豎直高度。
[0011]根據(jù)本實用新型，弧線(定心側面沿該弧線延伸)的走向與支承圓的走向(支承圓的走向相當于基板的平面輪廓)不同。
[0012]首先根據(jù)本實用新型規(guī)定，定心側面僅在貼靠位置與支承圓相切。定心側面沿著與貼靠位置錯移的周向與支承圓、即也與基板的邊緣保持間距?；褰佑|僅發(fā)生在接觸點上。定心側面以相對于接觸點的角間距與支承圓保持盡量小的間距，該間距隨著距接觸位置越來越遠而不斷增大。這可以在多個角度上進行。在本實用新型的制造工藝方面優(yōu)選的方案中，定心側面的弧線在半徑比支承圓的半徑更大的圓弧線上延伸。在支撐平面上的定心側面的曲率半徑可以比在支撐平面上的支承圓的曲率半徑大5%至10%。根據(jù)本實用新型的支架可以具有三個或四個定心側面。支架可以具有三邊或四邊對稱結構。每個定心側面鄰接在支承座上。支承座可以例如以六角形布置分布在水平面上。定心側面能夠以相對于經(jīng)過貼靠位置的對稱軸徑向對稱布置的方式延伸，從而使貼靠位置大約位于定心側面的中間。至少與水平面的邊緣間隔的支承座被支承圓圍繞，所述支承圓與彼此不同的支架的定心側面上的以均勻的角間距相互位錯的位置相切。圓弧線(定心側面沿該圓弧線延伸)與支承圓相切。定心側面所定義的圓弧線的圓心位于經(jīng)過支承圓的圓心和貼靠位置的直線上。
[0013]支承圓的圓心可以位于棋盤形布置的角點或六角形布置的角點上。分別被支承圓限定邊界的支承座可以具有凹穴。在此，可以分別是凹腔狀的凹穴。凹穴可以具有光滑壁式的底部。然而底部也可以具有臺階。所述臺階可以繞支承座的圓心在圓弧線上延伸。然而在放置面的邊緣上布置的支承位置也可以具有其他結構的凹腔。在此尤其規(guī)定，至少凹腔的邊緣區(qū)域相對于支承位置的圓心非對稱地延伸。凹腔底部在朝向裝置邊緣的側面上比在背離裝置邊緣的側面上更少地下降。由此，在放置在支承座上的基板的下方構成的空腔在其朝向裝置邊緣的側面上具有比在背離裝置邊緣的側面上更小的深度。此外還規(guī)定，在支承座上布置的基板僅在局部、從某種程度上說被點狀地邊緣支承。支承點構成較小的支承面，其形成放置區(qū)。局部的放置區(qū)優(yōu)選位于接觸位置上。所述放置區(qū)大體上僅在定心側面的區(qū)域上延伸，所述定心側面的區(qū)域與基板的邊緣貼靠接觸。放置區(qū)沿支承圓延伸較小的角度、例如3°至10°、優(yōu)選5°。根據(jù)本實用新型的布置優(yōu)選在CVD反應器的基座上實現(xiàn)。在該基座上設有多個用于容納基板的凹槽。支架的作用在于，使凹槽以及置入凹槽中的基板相互分隔，并且在支承座內定心。在此，這種分隔應盡可能節(jié)約空間地進行。相鄰布置的基板的邊緣可以在兩個相鄰的支架之間的區(qū)域中接觸。根據(jù)本實用新型，基板的邊緣僅在非常狹窄、幾乎點狀的周向區(qū)域內接觸定心側面?；宓难刂芟蚺c接觸位置保持間距的邊緣部段相對于定心側面具有間距。如此構成的貼靠側面可以具有倒棱。通過在上部邊緣區(qū)域中的斜面實現(xiàn)了對基板更簡單的定位。這是在配位的最后階段從某種程度上說自動完成的。憑借根據(jù)本實用新型的定心側面的輪廓走向，在操作時通常在支架側面上產(chǎn)生較少損傷。由此利用本實用新型的技術方案降低了損傷支架邊緣的風險?；蹇梢赃@樣定位在放置面上，從而使多個圓心保持約為基板直徑的間距。兩個圓心之間的間距大于基板直徑一個安全距離。每個基板可以通過六個接觸點貼靠在六個不同的支架上。支架以60°相互位錯地布置。定心側面相對于支承座的圓心以20°至40°、優(yōu)選30°的圓弧角延伸。
[0014]本實用新型的另一個方面涉及對靠近裝置邊緣、也即靠近基座邊緣的支承座的底部的設計方案。在此，優(yōu)選涉及緊鄰裝置邊緣的支承座、也即直接鄰接在裝置邊緣區(qū)域上的支承座。
[0015]支承座具有凹穴，使得在放置于支承座上的基板的下方構成空腔。放置區(qū)可以是環(huán)形區(qū)，基板的邊緣放置在所述放置區(qū)上。優(yōu)選地，然而放置區(qū)還可以在此由單個局部的放置區(qū)構成，所述放置區(qū)僅局部、從某種程度上說點狀地支承基板的邊緣。在基板的大體上平面延伸的底側與支承座的底部之間構成空腔。空腔的深度從支承座的邊緣區(qū)域開始向著支承座的圓心方向變大。這可以連續(xù)地或分級性地進行。這種空腔還在文獻US 2012/0017832、US 5，242，501、US 6，761，771、US 2006/0180086、US 7，591，908 和 US2009/0277387中有所描述。
[0016]為了局部提高由支承座的被加熱的底部向基板的熱傳遞，在本實用新型的另一個方面中規(guī)定，空腔的或者支承座或凹穴的邊緣區(qū)域具有與旋轉對稱結構不同的延伸走向，其中，在至支承座的圓心的相等的徑向間距處，在朝向裝置邊緣的邊緣區(qū)域中的豎直高度小于背離裝置邊緣的邊緣區(qū)域中的豎直高度。從支承座的底部向基板的熱傳遞大體上通過熱輻射或(只要在基板與支承座的底部之間存在具有足夠大的導熱系數(shù)的氣體)通過熱傳導進行。通過局部減小在支承座的朝向裝置