一種基片加載腔的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及太陽能電池、液晶顯示屏等產品的生產加工領域，尤其涉及一種基片加載腔。
【背景技術】
[0002]在太陽能電池、液晶顯示屏等產品的生產過程中，進行工藝覆膜，或者承載若干硅片進行工藝覆膜的工件，稱為基片?；话銥楹穸瘸叽缦鄬τ诜娉叽巛^小的薄板狀物體，例如常見的730x920x3mm3、1300x1100x5mm3等規(guī)格的矩形薄板狀基片。完成一道完整的工藝制程，基片通常需要經(jīng)過多道工序，流經(jīng)設備中的多個不同的工位。
[0003]一般來說，在電池生產過程的不同階段，對基片有不同的溫度要求。例如在常見的PECVD覆膜工藝中，工藝制程及工藝腔室的溫度常保持在200°C以上，而基片在外界大氣中一般只有20°C左右的室溫。此時，如果能對基片進行合理的預熱處理，先將其溫度升高至一定的數(shù)值，不但可以減少基片在送入該工藝腔室后因承受較大溫差而帶來的熱應力和熱變形，還能有效提高基片的溫度均一性，從而可以防止基片碎裂或損壞并提高工藝效果。
[0004]又比如，基片在完成某一道工藝制程后，需要將其從設備中取出，此時，基片將會有接近200°C左右的高溫，若直接將其從設備中取出，不但具有很高的高溫危險性，不利于操作，容易造成事故，而且在高溫時將基片直接暴露在大氣環(huán)境下，較大溫差產生的熱應力和熱變形也容易造成工藝薄膜的裂紋、基片的碎裂或損壞等。另外，高溫基片還容易跟大氣中的氧氣、水份等發(fā)生化學反應直接影響工藝結果。因此，工藝制程后先對基片進行合理的降溫處理再將其從設備中取出就顯得很有必要。
[0005]針對上述情況，在現(xiàn)有技術中多采用在真空設備中增加一個預熱腔或者冷卻腔的方式來實現(xiàn)溫度調整功能，或者也可以將溫度控制與加載腔結合在一起。然而，無論采用前述哪種方式，無疑都需要在加載腔和工藝腔之間增加一個獨立的傳輸腔，造成了設備的占地空間的增加。圖1所示為現(xiàn)有技術中一種真空設備示意圖，該設備包含有加載腔110，傳輸腔120和工藝腔130，其中加載腔110中設置有溫度控制的裝置可以起到預熱或冷卻的功能。為了防止各腔體之間及腔體與大氣之間的相互影響，上述各腔體之間需要有可以自動開啟或關閉的隔離閥門150、160、170。為了實現(xiàn)基片在加載腔110和工藝腔130之間的傳輸，圖2所示傳輸腔120中需設置有作旋轉運動的轉盤123，和安裝于轉盤上、既能隨轉盤轉動、又能相對于轉盤作直線運動的真空傳輸裝置124。在轉盤123的轉動過程中，對于幅面尺寸較大的基片，重心通常不在平面轉動的轉動中心上，這就使得基片具有了離心運動的趨勢。根據(jù)運動學知識，旋轉運動的角速度越大，物體離心運動的趨勢就越明顯。而阻止基片在傳輸機構124上發(fā)生“打滑”所需的向心力，則全部由基片與傳輸機構的接觸部分的摩擦力提供。因此，為了防止“打滑”現(xiàn)象的產生，一般會限制旋轉運動的轉動角速度，這就使得旋轉運動需要花費較長時間完成，從而降低了設備產能。另一方面，由于旋轉運動的存在，旋轉機構也需要一定的回轉空間，使得傳輸腔的尺寸較大，也增加了傳輸腔的空間體積。
[0006]綜上所述，現(xiàn)有技術的真空設備占地空間過大，傳輸動作過于復雜繁瑣，這些因素都增加了設備的生產成本且降低了產能。
【實用新型內容】
[0007]為了解決上述問題，本實用新型提供了一種基片加載腔，可以在一種腔室內既實現(xiàn)基片的溫度控制功能又實現(xiàn)基片的傳輸功能，在降低傳輸動作的繁瑣性的同時節(jié)省了設備空間，從而達到降低設備成本，提高產能的目的。
[0008]本實用新型提供了一種基片加載腔，所述加載腔的第一側壁和第二側壁上分別設置有用于基片進出的第一開口和第二開口，所述加載腔內包含有基片傳輸機構和用于改變基片溫度的溫度控制裝置，所述基片傳輸機構設置于靠近所述第一開口的位置處，用于基片的傳輸，所述基片傳輸機構包括有用于承載基片的若干長條狀的機械手臂，其中各所述機械手臂之間有空檔空間，所述溫度控制裝置設置于靠近所述第二開口的位置處，所述每相鄰兩個機械手臂之間的空檔空間中設置有能夠進行升降運動的溫度控制裝置。
[0009]可選地，所述基片傳輸機構還包括一個可以在第一側壁與第二側壁之間往復運動的平臺，且所述若干機械手臂固定設置于所述平臺上。
[0010]可選地，所述溫度控制裝置中包含有溫度媒介以對基片進行加熱或冷卻。
[0011 ] 可選地，所述第一開口用于基片在外界大氣和所述加載腔之間的傳遞，所述第二開口用于基片在所述加載腔和工藝腔之間的傳遞。
[0012]可選地，所述若干機械手臂的個數(shù)為2-4個。
[0013]可選地，與所述機械手臂長度方向垂直的所述基片的邊長為第一邊長，所述每個機械手臂的寬度小于等于所述第一邊長的8%。
[0014]可選地，各所述機械手臂之間空檔空間的累計距離之和大于等于所述基片第一邊長的70%。
[0015]可選地，所述加載腔應用于線型的真空設備內。
[0016]相對于現(xiàn)有技術，本實用新型主要實現(xiàn)了如下技術效果:
[0017]本發(fā)明提供的基片加載腔，充分利用機械手臂與溫度控制裝置的空間結構差異，采用了將基片的溫度控制與基片的傳輸集于一個腔室中的設計，將所有的運動步驟都分解為簡單的直線往復運動，簡化了傳輸裝置的工作步驟，同時由于減少了單獨的傳輸腔也略去了傳輸動作中的旋轉運動，從而節(jié)省了設備空間，達到降低設備成本，提高產能的目的。
【附圖說明】
[0018]圖1為現(xiàn)有技術中的一種真空設備示意圖。
[0019]圖2為現(xiàn)有技術中傳輸腔內的結構示意圖。
[0020]圖3為本實用新型的一種真空設備示意圖。
[0021]圖4為本實用新型一實施例中溫度控制裝置位于“低位“狀態(tài)時的結構示意圖。
[0022]圖5為圖4的沿DD’方向的剖面圖。
[0023]圖6為本實用新型一實施例中溫度控制裝置位于“高位“狀態(tài)時的結構示意圖。
[0024]圖7為圖6的沿DD’方向的剖面圖。
[0025]圖8-圖13為本實用新型一實施例中溫度控制裝置作為冷卻裝置時的基片加載腔的工作步驟示意圖。
【具體實施方式】
[0026]以下將結合附圖所示的具體實施例對本實用新型進行詳細描述。值得說明的是，下文所記載的實施例并不限制本實用新型，本領域的普通技術人員根據(jù)這些實施例所做出的結構、方法、或功能上的變換均包含在本實用新型的保護范圍內。
[0027]圖3所示為本實用新型的一種真空設備示意圖，該設備包含有加載腔190和工藝腔130，設備外部有將基片從大氣中傳輸至加載腔190中的外部傳輸機構140，大氣、加載腔190、工藝腔130之間設置有可以自動開啟或關閉的隔離閥門160、170。可選地，該真空設備為一種線型的真空設備。
[0028]圖4為基片加載腔190內的結構不意圖，如圖4所不，加載腔190具有第一側壁198和第二側壁199，所述第一側壁198上設置有第一開口 200，用于基片在外界大氣和所述加載腔190之間的傳遞，所述第二側壁199上設置有第二開口 201，用于基片在所述加載腔190和工藝腔130之間的傳遞。
[0029]加載腔190內包含有基片傳輸機構193和用于改變基片溫度的溫度控制裝置194。所述基片傳輸機構193設置于靠近所述第一開口 200