蒸鍍機(jī)的噴嘴系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本申請涉及PVD(Physical Vapor Deposit1n)領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸鍍機(jī)的噴嘴系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)蒸發(fā)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。
[0003]蒸發(fā)鍍膜是通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面的一種真空鍍膜技術(shù)。蒸發(fā)材料如金屬、化合物等置于坩禍內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源。待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩禍前方。待坩禍抽至高真空后，加熱坩禍?zhǔn)蛊渲械恼舭l(fā)材料進(jìn)而從噴嘴噴出。蒸發(fā)材料的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。
[0004]如圖1和圖2所述為一種蒸鍍機(jī)的噴嘴系統(tǒng)的示意圖。
[0005]線源21作為蒸發(fā)材料收納于坩禍12內(nèi)。待坩禍12抽至高真空后，加熱器13加熱坩禍12使線源21蒸發(fā)進(jìn)而從噴嘴11噴出，線源21的原子或分子以冷凝的方式沉積在待鍍工件表面。
[0006]在實(shí)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問題:
[0007]坩禍12局部加熱不均勻時，或者，由于噴嘴11設(shè)置的傾斜角度不合理時，導(dǎo)致噴嘴11內(nèi)蒸發(fā)材料分布不均勻，容易導(dǎo)致噴嘴11堵塞。當(dāng)碰嘴11堵塞時，需要先降低坩禍12的溫度以免燙傷操作人員。接著，需要破除坩禍12內(nèi)的真空，否則由于坩禍12內(nèi)外氣壓差，不易除去噴嘴11內(nèi)的堵塞。破除真空時，有大量保持真空的氮?dú)庖莩?，因此，需要等待氮?dú)馔耆莩龊?，才能采取去除堵塞的動作，否則容易導(dǎo)致操作人員窒息。去除堵塞后，需要抽取坩禍12內(nèi)空氣，保持坩禍12內(nèi)真空環(huán)境，然后，加熱使得坩禍12升溫以便蒸發(fā)材料蒸發(fā)從而開始工作。從坩禍12降溫、破除真空、去除堵塞、抽真空、坩禍12升溫完成整個堵塞去除的時間較長。
[0008]因此，需要提供一種解決噴嘴11堵塞處理時間長的技術(shù)問題的技術(shù)方案。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0009]本申請實(shí)施例提供一種解決噴嘴堵塞處理時間長的技術(shù)問題的蒸鍍機(jī)的噴嘴系統(tǒng)。
[0010]具體的，一種蒸鍍機(jī)的噴嘴系統(tǒng)，包括:
[0011 ]具有用于收容蒸鍍材料的容納腔的載具；
[0012]布設(shè)于載具周圍的用于加熱蒸鍍材料的蒸鍍加熱器；
[0013]安裝于載具并用于供蒸鍍材料從載具中噴出的噴嘴；
[0014]用于推出噴嘴內(nèi)堵塞的推出裝置。
[0015]優(yōu)選的，所述推出裝置包括:
[0016]用于在噴嘴內(nèi)滑動的頂針；
[0017]用于帶動頂針往復(fù)的推桿；
[0018]用于為推桿提供動力的動力機(jī)構(gòu)。
[0019]優(yōu)選的，所述動力機(jī)構(gòu)包括與推桿固定連接的活塞、供活塞運(yùn)動的氣缸。
[0020]優(yōu)選的，所述動力機(jī)構(gòu)經(jīng)過一個周期推動推桿往復(fù)運(yùn)動；
[0021 ]推桿帶動頂針在噴嘴內(nèi)滑動。
[0022]優(yōu)選的，所述載具為坩禍；
[0023]所述樹禍包括樹禍主體和樹禍蓋；
[0024]所述噴嘴系統(tǒng)還包括氣壓傳感器；
[0025]氣壓傳感器安裝于坩禍蓋，用于當(dāng)坩禍主體內(nèi)的氣壓超過閾值時發(fā)出偵測信號。
[0026]優(yōu)選的，所述噴嘴系統(tǒng)還包括邏輯控制器；
[0027]所述邏輯控制器用于接收坩禍主體內(nèi)的氣壓超過閾值的偵測信號，并向推出裝置發(fā)出運(yùn)動的控制信號。
[0028]優(yōu)選的，所述氣壓傳感器的耐高溫指標(biāo)高于400°C。
[0029]本申請實(shí)施例提供的蒸鍍機(jī)的噴嘴系統(tǒng)，至少具有如下有益效果:
[0030]當(dāng)噴嘴發(fā)生堵塞時，推出裝置將噴嘴內(nèi)堵塞推出，從而可以解決噴嘴堵塞處理時間長的技術(shù)問題。
【附圖說明】
[0031]此處所說明的附圖用來提供對本申請的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請的一部分，本申請的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本申請，并不構(gòu)成對本申請的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0032]圖1為本申請實(shí)施例改進(jìn)前的噴嘴系統(tǒng)示意圖。
[0033]圖2為圖1的剖視圖。
[0034]圖3為本申請實(shí)施例提供的嗔嘴系統(tǒng)的嗔嘴的不意圖。
[0035]圖4為本申請實(shí)施例提供的噴嘴系統(tǒng)的整體示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0036]為使本申請的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本申請具體實(shí)施例及相應(yīng)的附圖對本申請技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例僅是本申請一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒旧暾堉械膶?shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本申請保護(hù)的范圍。
[0037]蒸鍍工藝是一種通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面的一種真空鍍膜技術(shù)。
[0038]蒸鍍機(jī)是一種執(zhí)行該蒸鍍工藝的專用設(shè)備。蒸鍍機(jī)在執(zhí)行該蒸鍍工藝時，抽取真空，然后加熱蒸發(fā)材料使蒸發(fā)材料升華或汽化從噴嘴內(nèi)噴出到待鍍工件表面。
[0039]在生成過程中待鍍工件置于噴嘴正對的位置。蒸發(fā)材料從噴嘴內(nèi)連續(xù)噴出對待鍍工件的加工質(zhì)量有重大影響。
[0040]請參照圖1和圖2，正如【背景技術(shù)】中所指出的，線源21作為蒸發(fā)材料收納于坩禍12內(nèi)。待坩禍12抽至高真空后，加熱器13加熱坩禍12使線源21蒸發(fā)進(jìn)而從噴嘴11噴出，線源21的原子或分子以冷凝的方式沉積在待鍍工件表面。
[0041]在本申請實(shí)施例中，為了解決噴嘴堵塞的問題，發(fā)明人對原有的噴嘴系統(tǒng)進(jìn)行了改進(jìn)。
[0042]請參見圖3和圖4，噴嘴系統(tǒng)100包括具有用于收容蒸鍍材料的容納腔的載具1、布設(shè)于載具1周圍的用于加熱蒸鍍材料的蒸鍍加熱器2、安裝于載具1并用于供蒸鍍材料從載具1中噴出的噴嘴3、用于推出噴嘴3內(nèi)堵塞的推出裝置4。
[0043]載具1具有用于收容蒸鍍材料的容納腔10。蒸鍍材料作為蒸發(fā)源在載具1的容納腔