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      一種分段式石墨碳化硅涂層用氣相沉積爐的制作方法

      文檔序號:10241615閱讀:1156來源:國知局
      一種分段式石墨碳化硅涂層用氣相沉積爐的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實用新型屬于氣相沉積爐技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種分段式石墨碳化硅涂層用氣相沉積爐。
      【背景技術(shù)】
      [0002]多晶硅是制備單晶硅和光伏發(fā)電最主要的原材料,特別是隨著光伏產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,太陽能電池對多晶硅的需求量迅速增長,但多晶硅的生產(chǎn)確是高能耗的產(chǎn)業(yè)。因此,世界各國都在競相開發(fā)能耗低,產(chǎn)能大的高純度多晶硅的制備方法。
      [0003]目前,改良西門子法是制備高純多晶硅的主要方法,改良西門子法具有工藝成熟、經(jīng)驗豐富、產(chǎn)品質(zhì)量高等優(yōu)點,但其具有工藝流程長、投資大、三氯氫硅還原率低、生產(chǎn)成本高、技術(shù)操作難度大等缺點。由于鐘罩式反應(yīng)器只能采用間歇操作方式,在一定程度上限制了產(chǎn)能。而且多晶硅棒在拆裝和后續(xù)的破碎運(yùn)輸階段容易引入雜質(zhì)造成污染。
      [0004]為了解決改良西門子法存在的問題,引入了流化床反應(yīng)器生產(chǎn)多晶硅顆粒的方法。在流化床反應(yīng)器中,含硅氣體通過氫還原反應(yīng)生成單質(zhì)硅并沉積到多晶硅顆粒表面。由于流化床反應(yīng)器內(nèi)參與反應(yīng)的硅表面積大,使反應(yīng)速率大大增加,所以該方法的生產(chǎn)效率高、電耗小、成本低,比較適用于大規(guī)模生產(chǎn)太陽能級多晶硅。但是,流化床反應(yīng)器也存在一定的缺點,比如,化學(xué)氣相沉積高純度多晶硅的反應(yīng)對溫度極為敏感,因此造成了反應(yīng)生成的多晶硅會沉積到熱壁表面。
      [0005]石英和石墨是流化床反應(yīng)器的重要結(jié)構(gòu)材料,但石英構(gòu)件表面沉積了一定量的多晶硅后,傳熱效率大大降低給傳熱造成了困難。而且由于石英的熱膨脹系數(shù)較多晶硅相差一個數(shù)量級,當(dāng)多晶硅沉積在相應(yīng)壁面后,會造成該構(gòu)件的破損,給工業(yè)操作帶來安全隱串
      ■/Ql、O
      [0006]目前己有針對化學(xué)氣相沉積方法制備多晶硅的流化床反應(yīng)器的專利。建議采用石墨作為反應(yīng)器內(nèi)襯材料或?qū)Я魍膊牧希m熱膨脹系數(shù)與多晶硅相接近但強(qiáng)度低下經(jīng)不起多晶硅顆粒的摩擦?xí)霈F(xiàn)掉渣等現(xiàn)象,同時污染了多晶硅。需要在石墨表面沉積一層高硬度、高耐磨的碳化硅涂層。
      [0007]石墨表面沉積碳化硅的工藝方法目前已比較成熟,但由于多晶硅流化床尺寸巨大,需要大規(guī)格筒狀石墨材料做表面氣相沉積碳化硅處理。目前,工業(yè)上廣泛應(yīng)用的氣相沉積爐其爐膛型式基本都是圓筒狀,即在爐體內(nèi)設(shè)有一個圓筒形加熱區(qū),直徑不大,一般在500mm以下。無法適應(yīng)大型炭/石墨材料產(chǎn)品的生產(chǎn)需求,只能對小型炭/石墨制品作氣相沉積。
      [0008]即使?fàn)t膛尺寸能滿足大型炭/石墨材料產(chǎn)品的生產(chǎn)需求,但由于其爐膛尺寸太大,爐子升溫時間長,爐膛各部溫差也大直接影響了沉積質(zhì)量,從而造成爐膛空間浪費,從而增加了能耗。
      [0009]針對該問題,申請?zhí)枮?01320671039. 7的實用新型專利公開了一種大型石墨套碳化硅涂層用氣相沉積爐,包括爐體、爐蓋及爐底,在爐體從外到內(nèi)里依次有爐殼、外層保溫屏、外層發(fā)熱體、沉積腔、內(nèi)層發(fā)熱體及內(nèi)層保溫屏;的沉積腔為環(huán)狀,由沉積腔外壁、沉積腔內(nèi)壁、沉積腔頂蓋及沉積腔底板組成;沉積腔底板上有進(jìn)氣孔;沉積腔外壁的外側(cè)配置有外層發(fā)熱體,的沉積腔內(nèi)壁的外側(cè)配置有內(nèi)層發(fā)熱體;的內(nèi)層發(fā)熱體的內(nèi)側(cè)有內(nèi)層保溫屏;的爐底配置有支承件砌體;內(nèi)、外層保溫屏的頂部設(shè)有保溫蓋,下部設(shè)有保溫墊層;由外層保溫屏、內(nèi)層保溫屏、保溫蓋及保溫墊層構(gòu)成了一個封閉的環(huán)狀保溫腔。
      [0010]雖然該裝置大尺寸的環(huán)狀石墨件可以實現(xiàn)有效的氣相沉積,但是存在著效率低以及熱能浪費嚴(yán)重的問題。
      【實用新型內(nèi)容】
      [0011]本實用新型為了解決現(xiàn)有裝置存在生產(chǎn)效率低、熱能浪費嚴(yán)重的問題,而提供一種分段式石墨碳化硅涂層用氣相沉積爐,采用分段式結(jié)構(gòu),能夠提高生產(chǎn)的效率,便于規(guī)模生產(chǎn);同時能夠合理的利用熱源,減少熱能的浪費。
      [0012]為解決上述技術(shù)問題,本實用新型所采用的技術(shù)方案是:
      [0013]—種分段式石墨碳化硅涂層用氣相沉積爐,包括圓通狀的爐體,所述爐體的兩端分別配設(shè)有爐蓋,其特征在于,所述爐體內(nèi)部的底部設(shè)有滑軌,所述滑軌上設(shè)置有能夠在滑軌上移動并且用于放置石墨的滑座,所述爐體內(nèi)經(jīng)可開閉的密封門分為反應(yīng)段和預(yù)冷段,所述反應(yīng)段的爐體由外至內(nèi)依次為爐殼、保溫層和發(fā)熱體,所述反應(yīng)段的爐體底部設(shè)有進(jìn)氣管,反應(yīng)段的爐體頂部設(shè)置有排氣管,所述預(yù)冷段的爐體由爐殼制成。
      [0014]所述反應(yīng)段的爐殼和預(yù)冷段的爐殼的配設(shè)有冷卻水腔,所述冷卻水腔配設(shè)有冷卻水進(jìn)口和冷卻水出口。
      [0015]所述進(jìn)氣管配設(shè)有氣體分布盤。
      [0016]所述滑座由驅(qū)動電機(jī)帶動在滑軌上運(yùn)動。
      [0017]所述反應(yīng)段均配有溫度傳感器。
      [0018]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型具有以下有益效果:
      [0019]本實用新型的分段式石墨碳化硅涂層用氣相沉積爐,包括圓通狀的爐體,所述爐體的兩端分別配設(shè)有爐蓋,所述爐體內(nèi)部的底部設(shè)有滑軌,所述滑軌上設(shè)置有能夠在滑軌上移動并且用于放置石墨的滑座,所述爐體內(nèi)經(jīng)可開閉的密封門分為反應(yīng)段和預(yù)冷段,所述反應(yīng)段的爐體由外至內(nèi)依次為爐殼、保溫層和發(fā)熱體,所述反應(yīng)段的爐體底部設(shè)有進(jìn)氣管,反應(yīng)段的爐體頂部設(shè)置有排氣管,所述預(yù)冷段的爐體由爐殼制成。本實用新型的大型石墨在反應(yīng)段反應(yīng)完成后將打開密封門輸送至預(yù)冷段進(jìn)行預(yù)冷處理。本實用新型在加工的過程中,可以一直保持反應(yīng)段內(nèi)的熱能,直接將反應(yīng)后的石墨輸送走,從而進(jìn)行下一石墨的反應(yīng),既提高了生產(chǎn)效率,同時也減少了熱能的浪費。
      【附圖說明】
      [0020]圖I是本實用新型一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0021 ] 圖中標(biāo)記:I、爐蓋,2、爐體,3、爐殼,4、冷卻水腔,5、保溫層,6、發(fā)熱體,7、密封門,8、排氣管,9、進(jìn)氣管,10、滑軌,11、滑座,12、反應(yīng)段,13、預(yù)冷段。
      【具體實施方式】
      [0022]下面結(jié)合實施例對本實用新型作進(jìn)一步的描述,所描述
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