便于堆放礦石；為保持進溶浸液濃度平衡，布液管22的出液口均勻設置在流動浸鈾池內底部。
[0028]流動浸鈾池2的翻堆也可采用人工翻堆，需要時還可設有專門的翻堆裝置，翻堆裝置設置在流動浸鈾池上方或流動浸鈾池池內，翻堆裝置包括翻堆鏟、翻堆斗和翻堆槳。同時可能采用行車系統(tǒng)控制翻堆裝置。
[0029]壓氣栗9用于給氧化槽栗氣，硫酸罐10用于給配液池I和培養(yǎng)液配液槽12提供硫酸配液，儲液罐11暫儲。
[0030]氧化槽6底部設有曝氣管61，曝氣管61上設有曝氣眼62，氧化槽6內還設有填料，氧化槽可以單個批式培養(yǎng)菌液，也可以串聯(lián)流動培養(yǎng)菌液。串聯(lián)流動培養(yǎng)菌液時，氧化槽6內分級設有四級連通的氧化室，相鄰的氧化室之間通過三通管63和閥門64連接。
[0031 ]配液池1、流動浸鈾池2、原液槽3、吸附塔4、尾液槽5、培養(yǎng)液配液槽12、氧化槽6和儲液罐11分別設有各自的在線控制設備及檢測設備或儀器。
[0032]配液池1、流動浸鈾池2、原液槽3、吸附塔4、尾液槽5、培養(yǎng)液配液槽12、氧化槽6和儲液罐11相鄰之間通過連通管道連通，連通管道上設有閥門64、流量計8和/或設有液栗7。一般當連通管道需要向高位輸液時就可配用液栗7，當連通管道輸液需要計量時就可配用流量計8，通過液栗7和流量計8控制調節(jié)，計量更加準確。
[0033]流動浸鈾系統(tǒng)使用時，在配液池I中配好溶浸液，溶浸液流入流動浸鈾池2中對鈾礦石進行流動浸鈾，浸鈾后的原液，進入原液槽3中，再進入吸附塔4中吸附洗礦，尾液進入尾液槽5中，再經過培養(yǎng)液配液槽12進入氧化槽6氧化，通過液栗7回流至配液池I中參與溶浸液再一次配液，形成循環(huán)流動。
【主權項】
1.一種流動浸鈾池，其特征在于，流動浸鈾池底部設有進液系統(tǒng)，流動浸鈾池池體上部設有出液口(23)，進液系統(tǒng)包括溶浸液進口(24)、布液管(22)和卵石層，溶浸液進口(24)設置在池體底部，溶浸液進口( 24)外接進液管(21)，內接布液管(22 )，布液管(22 )和卵石層設置在流動浸鈾池內底部，布液管(22)上覆蓋卵石層、布液管(22)設置在卵石層的卵石中間或布液管(22)的一部分上覆蓋卵石層一部分設置在卵石層的卵石中間。2.根據(jù)權利要求1所述的一種流動浸鈾池，其特征在于，流動浸鈾池池內高度:卵石層在流動浸鈾池內底部的厚度:出液口(23)在流動浸鈾池的設置高度為360: 30: 330。3.根據(jù)權利要求1所述的一種流動浸鈾池，其特征在于，溶浸液進口(24)均勻設置在池體底部，布液管(22 )的出液口均勻設置在流動浸鈾池內底部。4.根據(jù)權利要求1所述的一種流動浸鈾池，其特征在于，還包括翻堆裝置，翻堆裝置設置在流動浸鈾池上方或流動浸鈾池池內，翻堆裝置包括翻堆鏟、翻堆斗和翻堆槳。5.一種流動浸鈾系統(tǒng)，包括配液池(I )、流動浸鈾池(2)、原液槽(3)、吸附塔(4)、尾液槽(5)、氧化槽(6)和連通管道，其特征在于，所述配液池(I)的出口與流動浸鈾池(2)底部的溶浸液進口(24)連通，流動浸鈾池(2)的池體上部設有的出液口(23)與原液槽(3)連通，原液槽(3 )與吸附塔(4 )的進口連通，吸附塔(4)的出口與尾液槽(5 )和配液池(I)連通，尾液槽(5)與培養(yǎng)液配液槽(12)連通，培養(yǎng)液配液槽(12)的出口一路通過氧化槽(6)與配液池(I)連接，另一路與配液池(I)連通。6.根據(jù)權利要求5所述的一種流動浸鈾系統(tǒng)，其特征在于，所述流動浸鈾池(2)底部設有進液系統(tǒng)，進液系統(tǒng)包括溶浸液進口(24)、布液管(22)和卵石層，溶浸液進口(24)設置在池體底部，外接進液管(21)，內接布液管(22),布液管(22)和卵石層設置在流動浸鈾池內底部，布液管(22)上覆蓋卵石層、布液管(22)設置在卵石層的卵石中間或布液管(22)的一部分上覆蓋卵石層一部分設置在卵石層的卵石中間；配液池(I)的出口與進液管(21)連通。7.根據(jù)權利要求5所述的一種流動浸鈾系統(tǒng)，其特征在于，所述培養(yǎng)液配液槽(12)的出口 一路通過氧化槽(6)與儲液罐(11)連接，另一路與儲液罐(11)直接連通，儲液罐(11)與配液池(I)連通。8.根據(jù)權利要求7所述的一種流動浸鈾系統(tǒng)，其特征在于，配液池(1)、流動浸鈾池(2)、原液槽(3 )、吸附塔(4)、尾液槽(5 )、培養(yǎng)液配液槽(12)、氧化槽(6 )和儲液罐(11)相鄰之間通過連通管道連通，連通管道上設有閥門(64)、流量計(8)和/或設有液栗(7)。9.根據(jù)權利要求5所述的一種流動浸鈾系統(tǒng)，其特征在于，所述氧化槽(6)底部設有曝氣管(61)，曝氣管(61)上設有曝氣眼(62)，氧化槽(6)內還設有填料，氧化槽(6)內分級設有四級連通的氧化室，相鄰的氧化室之間通過三通管(63)和閥門(64)連接。10.根據(jù)權利要求5所述的一種流動浸鈾系統(tǒng)，其特征在于，配液池(I)、流動浸鈾池(2)、原液槽(3)、吸附塔(4)、尾液槽(5)、培養(yǎng)液配液槽(12)、氧化槽(6)和儲液罐(11)分別設有各自的在線控制設備及檢測設備或儀器。
【專利摘要】本實用新型公開了一種流動浸鈾池及流動浸鈾系統(tǒng)，流動浸鈾池底部設有進液系統(tǒng)，流動浸鈾池池體上部設有出液口，進液系統(tǒng)包括溶浸液進口、布液管和卵石層，溶浸液進口設置在池體底部，外接進液管，內接布液管，布液管和卵石層設置在流動浸鈾池內底部，布液管上覆蓋卵石層或布液管設置在卵石層的卵石中間。本實用新型采用流動浸鈾系統(tǒng)取代傳統(tǒng)的使用強酸、加強氧化劑和延長浸泡時間以提高浸鈾效率，將傳統(tǒng)的批式池、堆式浸鈾工藝改變?yōu)檫B續(xù)的不間斷的流動浸鈾，達到了良好效果。
【IPC分類】C22B3/04, C22B3/02, C22B60/02
【公開號】CN205205202
【申請?zhí)枴緾N201521038698
【發(fā)明人】史維浚, 孫占學, 朱建偉, 衛(wèi)忠元, 宋金茹
【申請人】東華理工大學
【公開日】2016年5月4日
【申請日】2015年12月15日