蒸鍍機(jī)的載臺(tái)及蒸鍍遮罩系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本申請(qǐng)涉及PVD(Physical Vapor Deposit1n)領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸鍍機(jī)的載臺(tái)O
【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)蒸發(fā)材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。
[0003]蒸發(fā)鍍膜是通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面的一種真空鍍膜技術(shù)。蒸發(fā)材料如金屬、化合物等置于坩禍內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源。待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩禍前方。待坩禍抽至高真空后，加熱坩禍?zhǔn)蛊渲械恼舭l(fā)材料進(jìn)而從噴嘴噴出。蒸發(fā)材料的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。
[0004]在蒸鍍過(guò)程中，對(duì)于基片的非蒸鍍的部位，則需要遮罩片將該非蒸鍍的部位遮擋?；蛘?，在對(duì)于基片的已蒸鍍部位，在后續(xù)對(duì)其他部位進(jìn)行蒸鍍的過(guò)程中，需要對(duì)該已蒸鍍部位使用遮罩片進(jìn)行遮擋，以防止在對(duì)其他部位進(jìn)行蒸鍍的過(guò)程中，對(duì)已蒸鍍部位產(chǎn)生不利影響。
[0005]遮罩片可以通過(guò)載臺(tái)進(jìn)行限位。具體的，載臺(tái)設(shè)有限位槽，遮罩片設(shè)有可插置入限位槽的定位銷，定位銷插入限位槽內(nèi)，可以固定遮罩片與載臺(tái)的相對(duì)位置。
[0006]在實(shí)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)過(guò)程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問(wèn)題:
[0007]由于遮罩片的定位銷與載臺(tái)的限位槽之間是一一對(duì)應(yīng)的關(guān)系，這就導(dǎo)致對(duì)于其他類型的遮罩片。例如，定位銷直徑不同的遮罩片，或者遮罩片的兩個(gè)定位銷之間的距離不同的遮罩片無(wú)法限位于載臺(tái)，以便后續(xù)進(jìn)行蒸鍍工藝流程。
[0008]因此，需要提供一種不同規(guī)格的遮罩片無(wú)法在載臺(tái)上通用的技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0009]本實(shí)用新型提供一種解決不同規(guī)格的遮罩片無(wú)法在載臺(tái)上通用的技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案。
[0010]具體的，用于對(duì)遮擋非蒸鍍區(qū)域的第一遮罩片、第二遮罩片進(jìn)行限位，包括:
[0011]載臺(tái)基體；
[0012]所述載臺(tái)基體設(shè)有中心定位孔，用以對(duì)第一遮罩片限位；
[0013]所述載臺(tái)基體還設(shè)有自中心定位孔沿載臺(tái)基體表面方向延展的擴(kuò)展槽，用以對(duì)與第一遮罩片規(guī)格不同的第二遮罩片限位。
[0014]優(yōu)選的，所述擴(kuò)展槽至少包括第一子槽和與第一子槽交叉的第二子槽，所述中心定位孔位于第一子槽與第二子槽交叉的部分。
[0015]優(yōu)選的，所述擴(kuò)展槽在載臺(tái)基體的投影呈十字型、一字型或王字型。
[0016]優(yōu)選的，所述擴(kuò)展槽用于與第一遮罩片的定位件、第二遮罩片的定位件配接，所述擴(kuò)展槽的槽寬與所述遮罩片的定位件寬度相當(dāng)。
[0017]本申請(qǐng)實(shí)施例還提供一種蒸鍍機(jī)的蒸鍍遮罩系統(tǒng)，包括:
[0018]載臺(tái)基體，用于對(duì)遮擋非蒸鍍區(qū)域的遮罩片進(jìn)行限位，所述載臺(tái)基體設(shè)有中心定位孔，用以對(duì)第一遮罩片限位;所述載臺(tái)基體還設(shè)有自中心定位孔沿載臺(tái)基體表面方向延展的擴(kuò)展槽，用以對(duì)與第一遮罩片規(guī)格不同的第二遮罩片限位；
[0019]遮罩片，包括第一遮罩片和第二遮罩片，所述第一遮罩片和第二遮罩片均設(shè)有可以插入中心定位孔并在擴(kuò)展槽內(nèi)滑動(dòng)的定位件；
[0020]推進(jìn)裝置，用于安裝第一遮罩片或第二遮罩片，推動(dòng)第一遮罩片或第二遮罩片至載臺(tái)基體的預(yù)設(shè)位置并鎖定第一遮罩片或第二遮罩片在載臺(tái)基體的所述預(yù)設(shè)位置。
[0021]優(yōu)選的，所述擴(kuò)展槽至少包括第一子槽和與第一子槽交叉的第二子槽，所述中心定位孔位于第一子槽與第二子槽交叉的部分。
[0022]優(yōu)選的，所述擴(kuò)展槽在載臺(tái)基體的投影呈十字型、一字型或王字型。
[0023]優(yōu)選的，所述擴(kuò)展槽用于與第一遮罩片的定位件、第二遮罩片的定位件配接，所述擴(kuò)展槽的槽寬與遮罩片的定位件寬度相當(dāng)。
[0024]本申請(qǐng)實(shí)施例提供的蒸鍍機(jī)的載臺(tái)和蒸鍍機(jī)的蒸鍍遮罩系統(tǒng)，至少具有如下有益效果:
[0025]所述載臺(tái)基體設(shè)有中心定位孔，用以對(duì)第一遮罩片限位；
[0026]載臺(tái)基體設(shè)有的中心定位孔可以供專用的第一遮罩片的定位件插入，而與專用的第一遮罩片的定位件規(guī)格不同的其他第二遮罩片的定位件可以在擴(kuò)展槽允許的范圍內(nèi)調(diào)整插入位置，從而，蒸鍍機(jī)的載臺(tái)可以加載不同的遮罩片進(jìn)行生產(chǎn)，提高了載臺(tái)對(duì)不同規(guī)格遮罩片的通用性。
【附圖說(shuō)明】
[0027]此處所說(shuō)明的附圖用來(lái)提供對(duì)本申請(qǐng)的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分，本申請(qǐng)的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本申請(qǐng)，并不構(gòu)成對(duì)本申請(qǐng)的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0028]圖1為本實(shí)用新型提供的噴嘴系統(tǒng)示意圖。
[0029]圖2為圖1的剖視圖。
[0030]圖3為本實(shí)用新型提供的載臺(tái)的示意圖。
[0031 ]圖4為本實(shí)用新型提供的遮罩片的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0032]為使本申請(qǐng)的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本申請(qǐng)具體實(shí)施例及相應(yīng)的附圖對(duì)本申請(qǐng)技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例僅是本申請(qǐng)一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒旧暾?qǐng)中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本申請(qǐng)保護(hù)的范圍。
[0033]蒸鍍工藝是一種通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)，使其沉積在作為基片的固體表面的一種真空鍍膜技術(shù)。
[0034]蒸鍍機(jī)是一種執(zhí)行該蒸鍍工藝的專用設(shè)備。蒸鍍機(jī)在執(zhí)行該蒸鍍工藝時(shí)，抽取真空，然后加熱蒸發(fā)材料使蒸發(fā)材料升華或汽化，升華或汽化蒸發(fā)材料的從噴嘴內(nèi)噴出到待鍍工件即基片的表面。
[0035]在生產(chǎn)過(guò)程中，待鍍工件置于噴嘴正對(duì)的位置。在執(zhí)行蒸鍍工藝的過(guò)程中，蒸鍍的部分與非蒸鍍的部分通常涇渭分明的，為了解決這種問(wèn)題，可以設(shè)置遮罩片將該非蒸鍍的部位遮擋，從噴嘴噴出的蒸發(fā)材料從遮罩片的開口部分噴涂到待鍍工件。
[0036]請(qǐng)參照?qǐng)D1和圖2，線源21作為蒸發(fā)材料收納于坩禍12內(nèi)。待坩禍12抽至高真空后，加熱器13加熱坩禍12使線源21蒸發(fā)進(jìn)而從噴嘴11噴出，線源21的原子或分子以冷凝的方式沉積在待鍍工件表面。
[0037]在生產(chǎn)的蒸鍍過(guò)程中，對(duì)于待鍍工件的非蒸鍍的部位，需要用遮罩片將該非蒸鍍的部位遮擋?；蛘?，在對(duì)于基片的已蒸鍍部位，在后續(xù)對(duì)其他部位進(jìn)行蒸鍍的過(guò)程中，需要對(duì)該已蒸鍍部位使用遮罩片進(jìn)行遮擋，以防止在對(duì)其他部位進(jìn)行蒸鍍的過(guò)程中，對(duì)已蒸鍍部位產(chǎn)生不利影響。
[0038]由于蒸鍍機(jī)的載臺(tái)與遮罩片的規(guī)格是定制的，也就是說(shuō)，載臺(tái)與遮罩片的位置是預(yù)先固定的，然而，生產(chǎn)過(guò)程中隨著工藝要求的變更，遮罩片的位置等規(guī)格需要改變。
[0039]因此，需要設(shè)計(jì)一種能夠適應(yīng)變更后的遮罩片的蒸鍍機(jī)載臺(tái)。
[0040]請(qǐng)參見圖3，圖3揭示了一種蒸鍍機(jī)的載臺(tái)14。請(qǐng)參見圖4，圖4揭示了第一遮罩片15。該載臺(tái)14用于對(duì)遮擋非蒸鍍區(qū)域的第一遮罩片15、第一遮罩片15進(jìn)行限位。載臺(tái)14包括載臺(tái)基體140。載臺(tái)基體140設(shè)有中心定位孔141，用以對(duì)第一遮罩片15限位。載臺(tái)基體140還設(shè)有自中心定位孔141沿載臺(tái)基體140表面方向延展的擴(kuò)展槽142，用以對(duì)與第一遮罩片15規(guī)格不同的第二遮罩片限位。載臺(tái)基體140設(shè)有的中心定位孔141可以供專用的第一遮罩片15的定位件插入，而與專用的第一遮罩