本發(fā)明涉及l(fā)ow-e玻璃領(lǐng)域，具體是涉及一種防火金銀藍(lán)low-e玻璃。
背景技術(shù)：
據(jù)統(tǒng)計(jì)，我國建筑物能耗已經(jīng)占到全國年能源消耗總量的27.8％，經(jīng)由門窗流失的熱量更是占到了建筑物總能耗的一半以上。近年來社會各界對可持續(xù)發(fā)展以及節(jié)能減排工作的愈發(fā)關(guān)注，建筑業(yè)對門窗玻璃的性能要求也大幅提高。LOW-E玻璃因?yàn)橛兄鴥?yōu)異的熱性能和良好的光學(xué)性能，在社會生活中的運(yùn)用越來越廣泛，品種也越來越多。
而在LOW-E玻璃發(fā)展近30年的歷程中，從最初的單銀LOW-E玻璃，發(fā)展成為雙銀LOW-E玻璃，近些年又開發(fā)出了三銀LOW-E玻璃產(chǎn)品，三銀LOW-E玻璃具有較高的可見光透射比，可保證室內(nèi)足夠的自然采光，有更低的太陽紅外線透射比和更低的傳熱系數(shù)，是目前世界建筑領(lǐng)域公認(rèn)的最節(jié)能、最符合人性需求的建筑玻璃。
在熱學(xué)方面，三銀LOW-E玻璃保持了較低的U值，夜晚通過限制對流傳導(dǎo)傳熱阻止室內(nèi)的遠(yuǎn)紅外輻射泄出室外，且具有較高的遮陽系數(shù)和G值，使三銀玻璃的節(jié)能效果大幅度提升，同比普通玻璃的節(jié)能水平提高80％。這一方面是現(xiàn)代建筑對能耗節(jié)約的需求驅(qū)動，更是人們節(jié)能、環(huán)保、低碳生活意識的提高所致。
在現(xiàn)有技術(shù)中，合理的膜層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)對Low-E玻璃的透過率、可加工性影響至關(guān)重要，膜層厚度和厚度均勻性是決定鍍膜玻璃顏色及其均勻性的關(guān)鍵因素，這些也都是目前Low-E玻璃設(shè)計(jì)和生產(chǎn)的瓶頸和難點(diǎn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的在于提供一種膜層結(jié)構(gòu)合理，耐磨耐腐蝕的防火金銀藍(lán)low-e玻璃。
本發(fā)明采用的技術(shù)方案為：一種防火金銀藍(lán)low-e玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有十六個膜層，第一膜層為SSTZrOx層，第二層為ZnAlOx層，第三層為SnO2層，第四層為Co-Ni-Cr-Al-Y層，第五層為ZnAlOx層，第六層為SiAlNx層，第七層為TiOx層，第八層為氧化不銹鋼層，第九層為ZnSnO2層，第十層為NiCrOx層，第十一層為AZO層,第十二層為Ag層，第十三層為CrNxOy層，第十四層為ZrNbOx層，第十五層為Si3N4層，第十六層為NiCr層。
作為優(yōu)選方案，所述第一膜層SSTZrOx層、第二層ZnAlOx層、第五層ZnAlOx層的厚度為均20-30nm。
作為優(yōu)選方案，所述第三層SnO2層的厚度為60nm。
作為優(yōu)選方案，所述第四層Co-Ni-Cr-Al-Y層的厚度為10-30nm。
作為優(yōu)選方案，所述第六層SiAlNx層、第九層ZnSnO2層的厚度為20-35nm。
作為優(yōu)選方案，所述第七層TiOx層、第十一層AZO層的厚度為10-20nm。
作為優(yōu)選方案，所述第八層氧化不銹鋼層、第十二層Ag層的厚度為20-30nm。
作為優(yōu)選方案，所述第十層NiCrOx層、第十三層CrNxOy層的厚度為5-10nm。
作為優(yōu)選方案，所述第十四層ZrNbOx層的厚度為10-35nm。
作為優(yōu)選方案，所述第十五層Si3N4層，第十六層NiCr層的厚度為20-40nm。
本發(fā)明的有益效果是：
1、本發(fā)明采用新型膜系結(jié)構(gòu)，提高了膜層的硬度及致密性。
2、色澤均勻鮮艷，更明顯呈現(xiàn)金銀藍(lán)色，具有較高透光率。
3、最外層采用Si3N4層和NiCr層，不僅能夠?qū)崿F(xiàn)降低輻射的效果，而且防火性能良好。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中：
玻璃基片-1 第一層SSTZrOx層-21，第二層ZnAlOx層-22，第三層SnO2層-23，第四層Co-Ni-Cr-Al-Y層-24，第五層為ZnAlOx層-25，第六層SiAlNx層-26，第七層TiOx層-27，第八層氧化不銹鋼層-28，第九層ZnSnO2層-29，第十層NiCrOx層-210，第十一層AZO層-211，第十二層Ag層-212，第十三層CrNxOy層-213，第十四層ZrNbOx層-214，第十五層Si3N4層-215，第十六層NiCr層-216。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖與實(shí)施例對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行說明。
參照圖1所示，一種防火金銀藍(lán)low-e玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片1的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有十六個膜層，第一膜層為SSTZrOx層21，第二層為ZnAlOx層22，第三層為SnO2層23，第四層為Co-Ni-Cr-Al-Y層24，第五層為ZnAlOx層25，第六層為SiAlNx層26，第七層為TiOx層27，第八層為氧化不銹鋼層28，第九層為ZnSnO2層29，第十層為NiCrOx層210，第十一層為AZO層211,第十二層為Ag層212，第十三層為CrNxOy層213，第十四層為ZrNbOx層214，第十五層為Si3N4層215，第十六層為NiCr層216。
第一膜層SSTZrOx層21，即摻鋯氧化不銹鋼層，在反應(yīng)濺射時提高膜層的折射率，從而提升膜系的通過率，色澤鮮艷，透光率高達(dá)80％以上。SSTZrOx層的厚度為20-30nm，優(yōu)選25nm。
第二層ZnAlOx層22減少膜層的光衰減，使得膜系產(chǎn)品有較高的透光率，其厚度為20-30nm，優(yōu)選25nm。
第三層SnO2層23即為氧化鋅層，為中間介質(zhì)層，保護(hù)層，其厚度為60nm。
第四層Co-Ni-Cr-Al-Y層24使得膜層具有低輻射節(jié)能環(huán)保性能，為銀藍(lán)色提供層，其厚度為10-30nm，優(yōu)選15nm。
第五層ZnAlOx層25減少膜層的光衰減，使得膜系產(chǎn)品有較高的透光率，其厚度為20-30nm，優(yōu)選25nm。
第六層為SiAlNx層26為復(fù)合電介質(zhì)層，起到玻璃與膜層的粘結(jié)過渡作用，其厚度為20-35nm，優(yōu)選28nm。
第七層TiOx層27即鈦的氧化物，采用高折射率n＝2.5的TiOx是為了提高玻璃的透光率，降低銀層的面電阻，減少銀的消耗，有可以減少Low-e熱處理后產(chǎn)生光散射，而且玻璃呈中性顏色，其厚度為10-20nm，優(yōu)選15nm。
第八層氧化不銹鋼層28作為調(diào)節(jié)金色顏色層，可得到較黃的金色效果，其厚度為20-30nm，優(yōu)選25nm。
第九層ZnSnO2層29即氧化鋅錫層，為中間介質(zhì)層，保護(hù)層，增加玻璃的透光率，其厚度為20-35nm，優(yōu)選27nm。
第十層NiCrOx層210即氧化鎳鉻層，為阻擋層，還能提高膜層耐磨性、透光率以及鋼化時抗高溫氧化性，其厚度為5-10nm，優(yōu)選7nm。
第十一層AZO層211即鋁摻雜的氧化鋅層，平整層，為AG層作鋪墊，降低輻射率，其厚度為10-20nm，優(yōu)選為15nm。
第十二層Ag層212即金屬銀層，為功能層，金屬銀層提供了較低的輻射率，起環(huán)保的作用，其厚度為20-30nm，優(yōu)選15nm。
第十三層CrNxOy層213即氮氧化鉻層，提高膜層耐磨性和透光率，其厚度為5-10nm，優(yōu)選7nm。
第十四層ZrNbOx層214為電介質(zhì)層，起到保護(hù)膜層的作用，提高膜層的加工性能，其厚度為10-35nm，優(yōu)選23nm。
第十五層Si3N4層215即為氮化硅層，是一種非常堅(jiān)硬的材料，提高膜層的物理性能和抗氧化性能，它確保整個鍍層具有良好的機(jī)械耐久性，其厚度為20-40nm，優(yōu)選為30nm。
第十六層NiCr層216即鎳鉻金屬層，平整層，提高耐氧化性能，其厚度為20-40nm，優(yōu)選為30nm。
本發(fā)明的制備方法包括如下步驟：
(1)磁控濺射SSTZrOx層21，用交流中頻電源，氧氣作反應(yīng)氣體濺射摻鋯的不銹鋼靶Fe:Zr＝80:20，氬氧比為400SCCM-420SCCM:450SCCM-500SCCM,本步驟中氬氧比決定成膜的質(zhì)量。
(2)磁控濺射ZnAlOx層22層，用交流中頻電源，功率為18KW-25KW,純氮?dú)狻⒓冄鯕饣蛘叩獨(dú)夂脱鯕饣旌蠚怏w濺射的合金圓靶。
(3)磁控濺射SnO2層23，用交流中頻電源，用氧氣作為反應(yīng)氣體濺射Sn靶,氬氧比為400SCCM-420SCCM:450SCCM-500SCCM,本步驟中氬氧比決定成膜的質(zhì)量。
(4)磁控濺射Co-Ni-Cr-Al-Y層24，用交流中頻電源，純氮?dú)饣蛘呒冄鯕庾鳛榉磻?yīng)氣體。
(5)磁控濺射ZnAlOx層25，用交流中頻電源，功率為18KW-25KW,純氮?dú)狻⒓冄鯕饣蛘叩獨(dú)夂脱鯕饣旌蠚怏w濺射的合金圓靶。
(6)磁控濺射SiAlNx層26，用交流中頻電源，純氮?dú)?、純氧氣或者氮?dú)夂脱鯕饣旌蠚怏w濺射的合金圓靶。
(7)磁控濺射TiOx層27，用中頻交流電源濺射陶瓷鈦靶，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量O2，氬氧比為400SCCM-420SCCM:20SCCM-40SCCM。
(8)磁控濺射氧化不銹鋼層28，用直流電源，氧氣作為主要反應(yīng)氣體。
(9)磁控濺射ZnSnO2層29，用中頻交流電源，氧氣作為反應(yīng)氣體濺射Sn靶，氬氧比為400SCCM-420SCCM:450SCCM-500SCCM,本步驟中氬氧比決定成膜的質(zhì)量。
(10)磁控濺射NiCrOx層210，用直流電源濺射，用氬氣作為反應(yīng)氣體，摻入少量O2，氬氧比為400SCCM-420SCCM:20SCCM-40SCCM。
(11)磁控濺射AZO層211，直流電源濺射，用氬氣作為工藝氣體，氣體流量500SCCM-550SCCM。
(12)磁控濺射Ag層212，直流電源濺射，用氬氣作為工藝氣體，氣體流量500SCCM-550SCCM。
(13)磁控濺射CrNxOy層213，直流電源濺射，用氮?dú)庾鳛楣に嚉怏w，摻入少量O2。
(14)磁控濺射ZrNbOx層214，用中頻交流電源，純氧氣、純氮?dú)饣蛘叩獨(dú)夂脱鯕饣旌蠚怏w作為反應(yīng)氣體濺射合金圓靶。
(15)磁控濺射Si3N4層215，用中頻交流電源，氮?dú)庾鳛榉磻?yīng)氣體。
(16)磁控濺射NiCr層216，用直流電源，氬氣作為反應(yīng)氣體的金屬濺射。
上述實(shí)施例僅是顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征和優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本發(fā)明不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說明書中描述的只是說明本發(fā)明的原理，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下，本發(fā)明還會有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本發(fā)明范圍內(nèi)。