本發(fā)明涉及玻璃工藝技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種導(dǎo)電玻璃的制造方法。

背景技術(shù)：

玻璃是由二氧化硅和其他化學(xué)物質(zhì)熔融在一起形成的(主要生產(chǎn)原料為：純堿、石灰石、石英)。在熔融時形成連續(xù)網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)，冷卻過程中粘度逐漸增大并硬化致使其結(jié)晶的硅酸鹽類非金屬材料，現(xiàn)在廣泛應(yīng)用在建筑、科技和電子產(chǎn)品之中，然而普通玻璃為一種絕緣體，對產(chǎn)品的適用性不是很高，極大的限制了玻璃制品在社會之中的適用范圍。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種可以進(jìn)行電傳導(dǎo)的導(dǎo)電玻璃的制造方法，以解決背景技術(shù)中提出的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種導(dǎo)電玻璃的制造方法，包括玻璃基層制造方法和導(dǎo)電膜層，所述玻璃基層制造方法包括配料、溶制、成型和退火，所述導(dǎo)電膜層的組成材料包括氧化銦、氧化鋅和氧化錫，所述氧化銦的體積百分比為20％-60％，所述氧化鋅的體積百分比為20％-60％，所述氧化錫的體積百分比為20％-60％。

優(yōu)選的，所述玻璃基層制造方法包括以下步驟：

(1)配料：按照設(shè)計好的料方單，將各種原料稱量后按照一定比例在混料機(jī)內(nèi)混合均勻；

(2)溶制：將混合好的配料投入池窯內(nèi)，所述池窯內(nèi)部溫度設(shè)置為1300℃-1600℃，將配好的原料經(jīng)過高溫加熱，形成均勻無氣泡的玻璃液；

(3)成型：將溶制完成后的玻璃液放入模具之中形成需要的一種形態(tài)，所述玻璃成型過程中溫度大約在900℃-1250℃之間，熱膨脹系數(shù)5.0X10-7；

(4)退火：將已經(jīng)成型的玻璃基層由退火爐的入口放入，由退火爐出口取出，所述退火過程持續(xù)進(jìn)行3-5min，所述退火爐溫度控制在550℃-570℃之間。

優(yōu)選的，所述導(dǎo)電膜層通過平面磁控濺射的方式將導(dǎo)電膜層混合物質(zhì)噴灑在玻璃基層的表面形成導(dǎo)電膜層，所述導(dǎo)電膜層的厚度應(yīng)小于10納米。

本發(fā)明采用完整的玻璃生產(chǎn)機(jī)制保證了玻璃基層的完整，不同的成型模具適應(yīng)各種不同的技術(shù)領(lǐng)域，而多種混合的導(dǎo)電膜層混合成分保證了導(dǎo)電的持續(xù)性和穩(wěn)定性。

具體實施方式

對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

實施例一：

一種導(dǎo)電玻璃的制造方法，包括玻璃基層制造方法和導(dǎo)電膜層，玻璃基層制造方法包括配料、溶制、成型和退火，導(dǎo)電膜層的組成材料包括氧化銦、氧化鋅和氧化錫，氧化銦的體積百分比為30％，氧化鋅的體積百分比為25％，氧化錫的體積百分比為45％。

玻璃基層制造方法包括以下步驟：

(1)配料：按照設(shè)計好的料方單，將各種原料稱量后按照一定比例在混料機(jī)內(nèi)混合均勻；

(2)溶制：將混合好的配料投入池窯內(nèi)，池窯內(nèi)部溫度設(shè)置為1500℃，將配好的原料經(jīng)過高溫加熱，形成均勻無氣泡的玻璃液；

(3)成型：將溶制完成后的玻璃液放入模具之中形成需要的一種形態(tài)，玻璃成型過程中溫度設(shè)置為1100℃，熱膨脹系數(shù)5.0X10-7；

(4)退火：將已經(jīng)成型的玻璃基層由退火爐的入口放入，由退火爐出口取出，退火過程持續(xù)進(jìn)行4min，退火爐溫度控制在560℃。

導(dǎo)電膜層通過平面磁控濺射的方式將導(dǎo)電膜層混合物質(zhì)噴灑在玻璃基層的表面形成導(dǎo)電膜層，導(dǎo)電膜層的厚度為8納米。

將加工好的導(dǎo)電玻璃的制造方法用莫氏硬度進(jìn)行測試，測試結(jié)果為6-6.5，導(dǎo)電玻璃的電阻為5-10歐姆，符合標(biāo)準(zhǔn)。

實施例二：

一種導(dǎo)電玻璃的制造方法，包括玻璃基層制造方法和導(dǎo)電膜層，玻璃基層制造方法包括配料、溶制、成型和退火，導(dǎo)電膜層的組成材料包括氧化銦、氧化鋅和氧化錫，氧化銦的體積百分比為25％，氧化鋅的體積百分比為20％，氧化錫的體積百分比為55％。

玻璃基層制造方法包括以下步驟：

(1)配料：按照設(shè)計好的料方單，將各種原料稱量后按照一定比例在混料機(jī)內(nèi)混合均勻；

(2)溶制：將混合好的配料投入池窯內(nèi)，池窯內(nèi)部溫度設(shè)置為1550℃，將配好的原料經(jīng)過高溫加熱，形成均勻無氣泡的玻璃液；

(3)成型：將溶制完成后的玻璃液放入模具之中形成需要的一種形態(tài)，玻璃成型過程中溫度設(shè)置為1050℃，熱膨脹系數(shù)5.0X10-7；

(4)退火：將已經(jīng)成型的玻璃基層由退火爐的入口放入，由退火爐出口取出，退火過程持續(xù)進(jìn)行3.5min，退火爐溫度控制在550℃。

導(dǎo)電膜層通過平面磁控濺射的方式將導(dǎo)電膜層混合物質(zhì)噴灑在玻璃基層的表面形成導(dǎo)電膜層，導(dǎo)電膜層的厚度為9納米。

將加工好的導(dǎo)電玻璃的制造方法用莫氏硬度進(jìn)行測試，測試結(jié)果為6.8-7.5，導(dǎo)電玻璃的電阻為3-7歐姆，符合標(biāo)準(zhǔn)。

盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實施例，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以理解在不脫離本發(fā)明的原理和精神的情況下可以對這些實施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。