本發(fā)明涉及硅外延片,即一種超薄層低阻外延片的制造方法。
背景技術(shù):
以SiHCl3為硅源的單片常壓外延設(shè)備,其生長速率往往大于2μm/min,而針對外延層厚度小于2μm的8英寸超薄層外延,其較快的生長速率導(dǎo)致外延層厚度均勻性差,外延層和襯底的過渡區(qū)較寬,減少了外延層的有效厚度,無法滿足器件端的需求(器件端需求的理論縱向電阻率分布圖如圖2所示)。目前針對8英寸硅外延產(chǎn)品小于2μm的薄層外延常采用減壓外延或更換其它硅源如硅烷(SiH4),這些都需要額外增加生產(chǎn)成本,同時降低了常壓外延設(shè)備的兼容性。
綜上所述,有必要設(shè)計一種針對微型液壓驅(qū)動系統(tǒng)的快速高精度的控制方法。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,依據(jù)外延工藝自摻雜效應(yīng)的產(chǎn)生機理、抑制方法以及固態(tài)擴散理論,本發(fā)明提出了一種新型的外延片的制造方法,與常規(guī)外延方法相比較,能夠優(yōu)化外延層厚度和電阻率均勻性,優(yōu)化襯底和外延層的過渡區(qū)寬度。
為達到上述目的,本發(fā)明可采用如下技術(shù)方案:
一種硅外延片的制造方法,包括以下步驟:
(1)、對基座進行HC1高溫處理,去除基座上殘余的反應(yīng)物,并淀積一層本征多晶硅;
(2)、冷卻基座后載入襯底硅片
(3)、進行硅片烘烤
(4)、第一層外延生長:在襯底表面生長一層本征層,對襯底表面進行包封;
(5)、第二層外延生長:第二層外延生長時將HCl和TCS同時通入,其中通入0.5-1slm流量的HCl、2-5g流量的TCS和120-180slm流量的H2。
有益效果:本發(fā)明的外延片的制造方法,與常規(guī)外延方法相比較,能夠優(yōu)化8英寸超薄外延層厚度和電阻率均勻性,優(yōu)化襯底和外延層的過渡區(qū)寬度。尤其是在二層外延生長時將HCl和TCS同時通入,目的是為了降低外延層的生長厚度和抑制硅片的自摻雜效應(yīng),對達到上述技術(shù)效果起到了關(guān)鍵的作用。
優(yōu)選的,步驟(2)中,冷卻基座至850℃。
優(yōu)選的,步驟(3)中,烘烤溫度1150-1180℃,烘烤的時間40秒,烘烤H2流量120-180slm。
優(yōu)選的,其特征在于第一層外延生長時選擇合適的外延條件是:烘烤溫度1150-1180℃,烘烤主H2流量為120-180slm;第一層外延,生長溫度1100-1130℃,淀積速率在0.8-1.0μm/min;第二層外延生長時,溫度為1100-1130℃,淀積速率在0.4-0.6μm/min。
優(yōu)選的,第一層外延生長時不加摻雜,第二層摻雜外延生長時H2流量為120-180slm。
優(yōu)選的,淀積選擇為:生長溫度1100-1130℃,生長硅源流量2-5g,生長時HCl流量0.5-1slm,生長主H2流量120-180slm。
優(yōu)選的,襯底片的選擇:使用8英寸重摻磷硅拋光片,電阻率≤0.001Ω·cm,該襯底片局部平整度≤l.5m(10mm×10mm);二氧化硅背封層(LTO)+多晶硅背封層(Poly)背封。
附圖說明
圖1為8寸薄層外延的工藝流程圖;
圖2為8寸薄層外延層縱向結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為ASM E2000反應(yīng)室結(jié)構(gòu)圖;
圖4為8寸薄層外延層實測縱向載流子分布圖。
具體實施方式
本發(fā)明公開了一種外延片的制造方法,優(yōu)選的適用于8英寸超薄層低阻外延片的制造。
實施例一:
本實施例的一種8英寸超薄層低阻外延片的制造方法包括如下步驟:
本發(fā)明采用設(shè)備為美國ASM E2000硅外延生長系統(tǒng),如圖3所示,高純石墨基座作為紅外加熱體,主要載氣H2純度為99.9999%以上。
反應(yīng)室清洗:石英鐘罩以及反應(yīng)室中使用的石英零件在進行外延前必須仔細清洗,徹底清除石英鐘罩內(nèi)壁和石英件上的淀積殘留物。
第一步:反應(yīng)室高溫處理:每次外延生長之前,石墨基座必須進行HC1高溫處理,去除基座上殘余的反應(yīng)物,并淀積一層本征多晶硅。
第二步:冷卻反應(yīng)腔至低溫(850℃),載入襯底硅片。
第三步:升溫至1150℃,H2流量100slm,并保持30秒進行硅片烘烤,減少外延層缺陷。
第四步:第一層本征外延層,1100℃,硅源2g,主H2為120slm,淀積速率在0.8μm/min,生長時間7秒。
第五步:溫度設(shè)定1100℃,H2為120slm,保持10秒進行吹除。
第六步:第二層生長溫度1100℃,HCl流量為0.5slm,硅源2g,此時將HCl和硅源同時通入進行生長,主H2為120slm,淀積速率在0.4-0.6μm/min,生長時間82秒。
實施例二
前三步同實施例一所述。
第四步:第一層本征外延層,1120℃,硅源3g,主H2為150slm,淀積速率在0.8μm/min,生長時間7秒。
第五步:溫度設(shè)定1130℃,H2為150slm,保持90秒進行吹除。
第六步:第二層生長溫度1120℃,HCl流量為0.8slm,硅源3g,此時將HCl和硅源同時通入進行生長,主H2為150slm,淀積速率在0.4-0.6μm/min,生長時間82秒。
實施例三
前三步同實施例一所述。
第四步:第一層本征外延層,1130℃,硅源5g,主H2為180slm,淀積速率在0.8μm/min,生長時間7秒。
第五步:溫度設(shè)定1150℃,H2為120slm,保持120秒進行吹除。
第六步:第二層生長溫度1130℃,HCl流量為1slm,硅源5g,此時將HCl和硅源同時通入進行生長,主H2為180slm,淀積速率在0.4-0.6μm/min,生長時間82秒。
以上的操作步驟見附圖1。
經(jīng)過對通過實施例一、二、三的方法制造的硅外延片進行測試可得,所制作的硅外延片晶格結(jié)構(gòu)完好,表面光亮無細亮點,無翹邊和邊緣結(jié)晶現(xiàn)象,同時進入氣相的雜質(zhì)少,減小了自摻雜效應(yīng),位錯<100/cm2,層錯<10/cm2,在外延厚度小于0.7μm時,外延過渡區(qū)小于0.2μm,縱向電阻率分布圖如圖4所示,完全滿足器件制作的要求。
本發(fā)明具體實現(xiàn)該技術(shù)方案的方法和途徑很多,以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式。應(yīng)當(dāng)指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以做出若干改進和潤飾,這些改進和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護范圍。本實施例中未明確的各組成部分均可用現(xiàn)有技術(shù)加以實現(xiàn)。