本實(shí)用新型屬于玻璃技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種節(jié)能鍍膜的遮陽(yáng)玻璃。
背景技術(shù)：
上世紀(jì)80年代開(kāi)始，離線(xiàn)真空磁控濺射鍍制低輻射鍍膜玻璃技術(shù)得到迅猛的發(fā)展，從而使鍍膜玻璃的節(jié)能特性有了明顯的提升，隨著國(guó)家對(duì)建筑節(jié)能要求的提高，使得低輻射鍍膜節(jié)能玻璃在不斷的普及使用，各地區(qū)節(jié)能要求及標(biāo)準(zhǔn)也隨之在不斷地提高。國(guó)內(nèi)建筑節(jié)能受到國(guó)外被動(dòng)房理念的傳播與影響，對(duì)節(jié)能的理念有了更深一步的認(rèn)識(shí)，在國(guó)內(nèi)被動(dòng)式節(jié)能建筑中受到外窗遮陽(yáng)措施的改善，夏季打開(kāi)遮陽(yáng)措施阻擋太陽(yáng)能直接透過(guò)減少得熱，而在冬季關(guān)閉遮陽(yáng)措施最大限度的獲得太陽(yáng)能來(lái)增加得熱，利用這種理念進(jìn)行外窗能耗調(diào)節(jié)進(jìn)而達(dá)到建筑節(jié)能目的，所以提高鍍膜玻璃的遮陽(yáng)、降低紅外熱能傳導(dǎo)是鍍膜節(jié)能玻璃的未來(lái)發(fā)展方向，繼而高透光率、高遮陽(yáng)系數(shù)、低傳熱系數(shù)的鍍膜節(jié)能產(chǎn)品將受到青睞，尤其是北方地區(qū)環(huán)境將進(jìn)一步推動(dòng)這種產(chǎn)品的發(fā)展，對(duì)改變建筑節(jié)能狀態(tài)具有重大意義。
然而目前市面上常見(jiàn)的高透光率、高遮陽(yáng)系數(shù)、低傳熱系數(shù)的節(jié)能鍍膜玻璃少之又少。雖然雙銀、三銀節(jié)能鍍膜玻璃在低傳熱方面有了明顯的進(jìn)步，但是其缺點(diǎn)也較為明顯，即多層的結(jié)構(gòu)與更厚的膜層厚度決定了其無(wú)法做到高可見(jiàn)光透光率和高遮陽(yáng)系數(shù)，大部分產(chǎn)品其單片可見(jiàn)光透光率仍保持在80％以下，單中空遮陽(yáng)系數(shù)在0.5以下。而在線(xiàn)低輻射鍍膜玻璃雖然可以獲得較高的可見(jiàn)光透光率和較高的遮陽(yáng)系數(shù)，但是其傳熱性能較離線(xiàn)低輻射產(chǎn)品差且品種單一，限制了建筑玻璃發(fā)展的結(jié)構(gòu)多樣性，所以這些產(chǎn)品并不能完全滿(mǎn)足北方被動(dòng)式建筑節(jié)能需求，還有進(jìn)一步提升的空間。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本實(shí)用新型的目的在于提供一種節(jié)能鍍膜的遮陽(yáng)玻璃，旨在解決現(xiàn)有鍍膜玻璃功能單一，限制了建筑玻璃結(jié)構(gòu)多樣性發(fā)展的問(wèn)題。
本實(shí)用新型是這樣解決的：一種節(jié)能鍍膜的遮陽(yáng)玻璃，其特征在于：包括玻璃基板和離線(xiàn)真空磁控陰極濺射沉積在所述玻璃基板上的膜層組件，所述膜層組件包括依次疊加的第一電介質(zhì)干涉層、防輻射層、光吸收層、電介質(zhì)抗氧化層和第二電介質(zhì)干涉層，以及復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層，所述第一電介質(zhì)干涉層連接在所述玻璃基板上。
進(jìn)一步地，所述第一電介質(zhì)干涉層和所述第二電介質(zhì)干涉層均為多層，且多層所述第一電介質(zhì)干涉層疊加的厚度為35nm～45nm，多層所述第二電介質(zhì)干涉層疊加的厚度為5nm～15nm。
進(jìn)一步地，單層所述第一電介質(zhì)干涉層與所述第二電介質(zhì)干涉層一樣均為Si3N4層、SnO2層、ZnSnOx層、TiOx層、ZnAlOx層或AZO層中的一層或任意兩層以上的復(fù)合層。
進(jìn)一步地，所述防輻射層為金屬層，且為Ag層、Al層或AgCu合金層中的任意一種，且所述防輻射層厚度為2nm～8nm。
進(jìn)一步地，所述光吸收層為NiCr層、NiCrNx層、NiCrOx層、Nb層、NbNx層或NbOx層中的任意一種，且所述光吸收層的厚度為1nm～5nm。
進(jìn)一步地，所述電介質(zhì)抗氧化層為T(mén)i層，且所述電介質(zhì)抗氧化層厚度為1nm～8nm。
進(jìn)一步地，所述復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層為多層，且多層所述復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層疊加的厚度為20nm～40nm，且單一所述復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層為Si3N4層、SiZr層、SnO2層、TiOx層、TiZrOx層或ZrO2層中的一種或任意兩種以上的復(fù)合層。
進(jìn)一步地，所述玻璃基板為可熱彎和鋼化的玻璃件。
進(jìn)一步地，連接有所述膜層組件的所述玻璃基板為可見(jiàn)光透光率高于82％的遮陽(yáng)玻璃。
進(jìn)一步地，連接有所述膜層組件的所述玻璃基板為單中空遮陽(yáng)系數(shù)高于0.73的遮陽(yáng)玻璃。
本實(shí)用新型提供的節(jié)能鍍膜的遮陽(yáng)玻璃相對(duì)于現(xiàn)有的技術(shù)具有的技術(shù)效果為：在玻璃基板上按照一定順序利用離線(xiàn)真空磁控陰極濺射沉積工藝連接第一電介質(zhì)干涉層、防輻射層、光吸收層、電介質(zhì)抗氧化層和第二電介質(zhì)干涉層，以及復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層，進(jìn)而可以通過(guò)多個(gè)膜層相互配合實(shí)現(xiàn)防輻射、透光和遮陽(yáng)控制，從而增加了玻璃產(chǎn)品的多元性和適應(yīng)性。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的節(jié)能鍍膜的遮陽(yáng)玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
需要說(shuō)明的是，當(dāng)元件被稱(chēng)為“固定于”或“設(shè)置于”另一個(gè)元件，它可以直接在另一個(gè)元件上或者間接在該另一個(gè)元件上。當(dāng)一個(gè)元件被稱(chēng)為是“連接于”另一個(gè)元件，它可以是直接連接到另一個(gè)元件或間接連接至該另一個(gè)元件上。
還需要說(shuō)明的是，本實(shí)用新型實(shí)施例中的左、右、上、下等方位用語(yǔ)，僅是互為相對(duì)概念或是以產(chǎn)品的正常使用狀態(tài)為參考的，而不應(yīng)該認(rèn)為是具有限制性的。
請(qǐng)參照附圖1所示，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，提供一種節(jié)能鍍膜的遮陽(yáng)玻璃，其特征在于：包括玻璃基板10和利用離線(xiàn)真空磁控陰極濺射沉積的方式在該玻璃基板10上沉積的膜層組件20，當(dāng)然可以是用其他現(xiàn)有技術(shù)方式濺射沉積在玻璃基板10上，該膜層組件20包括依次疊加的第一電介質(zhì)干涉層201、防輻射層202、光吸收層203、電介質(zhì)抗氧化層204和第二電介質(zhì)干涉層205，以及復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層206，該第一電介質(zhì)干涉層201連接在該玻璃基板10上；該第一電介質(zhì)干涉層201用于加強(qiáng)該玻璃基板10與防輻射層202的結(jié)合強(qiáng)度；該防輻射層202的設(shè)置用于調(diào)節(jié)并增強(qiáng)太陽(yáng)能紅外輻射的阻擋能力，降低紅外線(xiàn)熱輻射的透過(guò)率，起到降低輻射及室內(nèi)節(jié)能的作用；該光吸收層203的設(shè)置用于調(diào)節(jié)降低可見(jiàn)光的透過(guò)率，從而降低光線(xiàn)從玻璃基板10射向防輻射層202的強(qiáng)度，起到調(diào)節(jié)透光率及光線(xiàn)舒適度的作用；該電介質(zhì)抗氧化層204的設(shè)置用于調(diào)節(jié)能有效地阻止防輻射層202與空氣的接觸發(fā)生的氧化現(xiàn)象，保證了防輻射層202的低輻射節(jié)能性；該第二電介質(zhì)干涉層205的設(shè)置用于有效地使光線(xiàn)在其界面上發(fā)生折射與干涉，使不同波長(zhǎng)下的可見(jiàn)光選擇性的透過(guò)和反射，決定了玻璃基板10外表面呈現(xiàn)的不同顏色；該復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層206的設(shè)置用于對(duì)其前面的所有膜層起到保護(hù)并起到耐熱、抗劃傷作用，使該鍍膜玻璃膜層更耐加工，不易損壞，同時(shí)還可以通過(guò)調(diào)整該復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層206的顏色，從而改變產(chǎn)品的外觀(guān)。
在本實(shí)施例中，該玻璃基板10為普通玻璃或是本領(lǐng)域常用的其他類(lèi)型的玻璃，該膜層組件20設(shè)置在該玻璃基板10的外表面，該外表面是指玻璃基板10安裝在建筑物上后朝向室外的那個(gè)表面。
具體的，如圖1所示，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，該第一電介質(zhì)干涉層201和該第二電介質(zhì)干涉層205均為多層，例如兩層、三層、四層或四層以上，本實(shí)施例中優(yōu)選為兩層，并且多層該第一電介質(zhì)干涉層201疊加的厚度為35nm～45nm，例如37nm、39nm、41nm和43nm，多層該第二電介質(zhì)干涉層205疊加的厚度為5nm～15nm，例如7nm、9nm、11nm和13nm；此處第一電介質(zhì)干涉層201除了用于固定該防輻射層202與玻璃基板10外，可以對(duì)入射光線(xiàn)進(jìn)行折射和干涉不同波長(zhǎng)下的可見(jiàn)光選擇性的透過(guò)和反射，進(jìn)而協(xié)同第二電介質(zhì)干涉層205決定遮陽(yáng)玻璃呈現(xiàn)的顏色，例如，淺藍(lán)色、淺黃色或者其他中性色；同樣第二電介質(zhì)干涉層205也可以增強(qiáng)與之相鄰的電介質(zhì)抗氧化層204和復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層206的連接強(qiáng)度。
具體的，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，單層該第一電介質(zhì)干涉層201與該第二電介質(zhì)干涉層205一樣均為Si3N4層、SnO2層、ZnSnOx層、TiOx層、ZnAlOx層或AZO(鋁摻雜的氧化鋅)層中的一層或任意兩層以上的復(fù)合層；也即每一層的第一電介質(zhì)干涉層201和第二電介質(zhì)干涉層205均可以是Si3N4層、SnO2層、ZnSnOx層、TiOx層、ZnAlOx層或AZO層中的任意一種成分組成的電介質(zhì)干涉層，也可以是任意兩種、三種或者更多種成分組成的電介質(zhì)干涉層。
在本實(shí)施例中，上述組分中，其中ZnSnOx和ZnAlOx分子式中的x為1～2，TiOx分子式中的x為1.76-1.98。
具體的，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，該防輻射層202為金屬層，且為Ag層、Al層或AgCu合金層中的任意一種，并且該防輻射層202厚度為2nm～8nm，例如3nm、5nm和7nm。
具體的，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，該光吸收層203為NiCr層、NiCrNx層、NiCrOx層、Nb層、NbNx層或NbOx層中的任意一種，并且該光吸收層203的厚度為1nm～5nm，例如2nm、3nm和4nm。
在本實(shí)施例中，該NiCrOx和NbNx分子式中的x為0.9～1.33，NbOx分子式中的x為0.5～2.5。
具體的，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，該電介質(zhì)抗氧化層204為T(mén)i層，并且該電介質(zhì)抗氧化層204厚度為1nm～8nm，例如3nm、5nm和7nm。
具體的，如圖1所示，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，該復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層206為多層，例如兩層、三層、四層或者四層以上，本實(shí)施例中優(yōu)選為兩側(cè)，并且多層該復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層206疊加的厚度為20nm～40nm，例如22nm、26nm、30nm、32nm和36nm，并且單一該復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層206為Si3N4層、SiZr層、SnO2層、TiOx層、TiZrOx層或ZrO2層中的一種或任意兩種或任意兩種以上的復(fù)合層。
在本實(shí)施例中，TiOx分子式中的x為1.76-1.98，TiZrOx分子式中的x為1.89。
具體的，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，該玻璃基板10為可熱彎和鋼化的玻璃件；這樣設(shè)計(jì)可以增大產(chǎn)品的可塑性和附加值，利于規(guī)模化、批量化生產(chǎn)及異地加工，提高了生產(chǎn)效率，為建筑及門(mén)窗結(jié)構(gòu)多樣化提供更多的選擇。
具體的，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，連接有該膜層組件20的該玻璃基板10為可見(jiàn)光透光率高于82％的遮陽(yáng)玻璃；同時(shí)連接有該膜層組件20的該玻璃基板10為單中空遮陽(yáng)系數(shù)高于0.73的遮陽(yáng)玻璃。
進(jìn)而，本實(shí)用新型實(shí)施例可以至少是如下幾種結(jié)構(gòu)的優(yōu)選實(shí)施例，當(dāng)然不僅僅限于下述結(jié)構(gòu)：
實(shí)施例一：本實(shí)施例中玻璃基板10上濺射沉積的膜層組件20依次為疊加厚度為40nm的Si3N4層和ZnAlOx層(第一電介質(zhì)干涉層201)，厚度為4nm的Ag層(防輻射層202)，厚度為3nm的NiCrNx層(光吸收層203)，厚度為3nm為T(mén)i層(電介質(zhì)抗氧化層204)，疊加厚度為12nm的ZnSnOx層和ZnAlOx層(第二電介質(zhì)干涉層205)，疊加厚度為32nm的Si3N4層和TiOx層(復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層206)。
其制備方法為：利用平板玻璃真空磁控濺射鍍膜機(jī)，采用下表列出的工藝參數(shù)，使用9個(gè)陰極進(jìn)行生產(chǎn)，制備出本實(shí)用新型遮陽(yáng)玻璃，其具體工藝參數(shù)見(jiàn)下表：
按照上表的工藝參數(shù)制備出來(lái)的遮陽(yáng)玻璃進(jìn)行光學(xué)性能測(cè)試后，其可見(jiàn)光透過(guò)率：83.6％，同時(shí)單中空遮陽(yáng)系數(shù)為：0.74，而現(xiàn)有的建筑用遮陽(yáng)玻璃的可見(jiàn)光透光率仍保持在80％以下，單中空遮陽(yáng)系數(shù)在0.5以下；進(jìn)而本實(shí)用新型提供的這樣玻璃相對(duì)于現(xiàn)有的技術(shù)有實(shí)質(zhì)性的提高。
實(shí)施例二：本實(shí)施例中玻璃基板10上濺射沉積的膜層組件20依次為疊加厚度為42nm的SnO2層和AZO層(第一電介質(zhì)干涉層201)，厚度為5nm的AgCu層(防輻射層202)，厚度為1nm的NiCrOx層(光吸收層203)，厚度為2nm為T(mén)i層(電介質(zhì)抗氧化層204)，疊加厚度為15nm的ZnAlOx層和SnO2層(第二電介質(zhì)干涉層205)，疊加厚度為30nm的SiZr層和TiZrOx層(復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層206)。
其制備方法為：利用平板玻璃真空磁控濺射鍍膜機(jī)，采用下表列出的工藝參數(shù)，使用9個(gè)陰極進(jìn)行生產(chǎn)，制備出本實(shí)用新型遮陽(yáng)玻璃，其具體工藝參數(shù)見(jiàn)下表：
按照上表的工藝參數(shù)制備出來(lái)的遮陽(yáng)玻璃進(jìn)行光學(xué)性能測(cè)試后，其可見(jiàn)光透過(guò)率：89.2％，同時(shí)單中空遮陽(yáng)系數(shù)為：0.74；上述結(jié)構(gòu)組合可以同時(shí)滿(mǎn)足遮陽(yáng)系數(shù)和可見(jiàn)光透光率。
以上的設(shè)計(jì)的節(jié)能鍍膜的遮陽(yáng)玻璃相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在于：
本實(shí)用新型產(chǎn)品材料及工藝成熟可靠，可操作性強(qiáng)，應(yīng)用范圍廣。同時(shí)由于結(jié)構(gòu)及材料較市場(chǎng)上常見(jiàn)的普通單銀低輻射鍍膜玻璃更為獨(dú)特，所以產(chǎn)品被他人復(fù)制與模仿的難度極高，保證了產(chǎn)品的獨(dú)創(chuàng)性。
本實(shí)用新型產(chǎn)品單片可見(jiàn)光透光率高于82％，單中空遮陽(yáng)系數(shù)高于0.73，輻射率低于在線(xiàn)低輻射鍍膜玻璃30％，打破了傳統(tǒng)的玻璃節(jié)能理念，為被動(dòng)式建筑及遮陽(yáng)窗節(jié)能提供更好的選擇。
本實(shí)用新型產(chǎn)品可以進(jìn)行后工序的鋼化和熱彎加工，增大了產(chǎn)品的可塑性和附加值，利于規(guī)?；?、批量化生產(chǎn)及異地加工，提高了生產(chǎn)效率，為建筑及門(mén)窗結(jié)構(gòu)多樣化提供更多的選擇。
本實(shí)用新型產(chǎn)品外觀(guān)顏色可以為淺藍(lán)色、淺黃色、中性色可調(diào)，降低了市場(chǎng)上產(chǎn)品的單一性，引導(dǎo)市場(chǎng)高效節(jié)能產(chǎn)品的多元化發(fā)展。
以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。