1.一種高壓氫氣供給裝置,其特征在于,包括密閉的內(nèi)裝LaNi5材料的貯氫化學(xué)床,與貯氫化學(xué)床內(nèi)空間連接的輸出管道,均設(shè)置于輸出管道上的第一高壓閥和壓力傳感器,包裹該貯氫化學(xué)床設(shè)置的加熱器,以及與加熱器連接的溫控儀。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓氫氣供給裝置,其特征在于,所述輸出管道上還設(shè)有過(guò)濾器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓氫氣供給裝置,其特征在于,所述輸出管道上還連接有一供給支路和一真空支路,所述供給支路上設(shè)有第二高壓閥,所述真空支路上設(shè)有第三高壓閥。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高壓氫氣供給裝置,其特征在于,所述壓力傳感器連接于該輸出管道與共計(jì)支路和真空支路的連接處。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓氫氣供給裝置,其特征在于,所述加熱器為電阻絲加熱方式的電爐,加熱范圍為室溫~600℃。
6.如權(quán)利要求1~5任一項(xiàng)所述的高壓氫氣供給裝置的制作方法,其特征在于,包括如下步驟:
(10)將所述高壓氫氣供給裝置連接后進(jìn)行檢漏;
(11)關(guān)閉第三高壓閥,打開(kāi)第一高壓閥和第二高壓閥,由供給支路向貯氫化學(xué)床內(nèi)充氦氣,觀察所述壓力傳感器變化至30MPa時(shí),關(guān)閉第二高壓閥,停止充氦;
(12)采用氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)所述高壓氫氣供給裝置檢漏,當(dāng)整體漏率低于1×10-9 Pa?m3s-1時(shí)進(jìn)行下一步;
(20)對(duì)所述貯氫化學(xué)床內(nèi)的LaNi5材料進(jìn)行活化;
(21)將真空泵連接于真空支路,打開(kāi)第三高壓閥,用真空泵對(duì)貯氫化學(xué)床進(jìn)行冷抽,排出其內(nèi)空氣;
(22)調(diào)節(jié)所述溫控儀,使加熱器以5℃/min的升溫速率將貯氫化學(xué)床加熱至400℃,加熱同時(shí)用真空泵繼續(xù)抽真空至真空度低于5Pa;
(23)調(diào)節(jié)溫控儀,將貯氫化學(xué)床降至室溫,同時(shí)關(guān)閉第三高壓閥,在供給支路連接氫源,打開(kāi)第二高壓閥,向貯氫化學(xué)床內(nèi)充入氫氣,直至LaNi5材料吸氫達(dá)到飽和,其中,所述氫源的供給壓力為2MPa。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高壓氫氣供給裝置的制作方法,其特征在于,所述步驟(21)中,冷抽時(shí)間不小于3小時(shí),冷抽后貯氫化學(xué)床內(nèi)真空度低于5Pa。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的高壓氫氣供給裝置的制作方法,其特征在于,所述步驟(21)~(23)重復(fù)至少兩次。
9.如權(quán)利要求1~5任一項(xiàng)所述的高壓氫氣供給裝置的使用方法,其特征在于,包括如下步驟:
(A)按照權(quán)利要求6~8任一項(xiàng)所述的高壓氫氣供給裝置的制作方法將所述貯氫化學(xué)床內(nèi)的LaNi5材料充氫活化;
(B)在需要使用氫氣時(shí),關(guān)閉第一、第二、第三高壓閥,將供給支路與需要使用氫氣的容器或管道連通,調(diào)節(jié)溫控儀,使加熱器將貯氫化學(xué)床加熱至設(shè)定溫度,同時(shí)觀察壓力傳感器的壓力,當(dāng)壓力傳感器指示壓力大于所需壓力時(shí),緩慢打開(kāi)第一、第二高壓閥,將氫氣輸出。