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      一種Al摻雜CsLiB6O10晶體生長(zhǎng)助熔劑及晶體生長(zhǎng)方法與流程

      文檔序號(hào):11507459閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

      技術(shù)特征:

      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明屬于光學(xué)材料領(lǐng)域,提出一種Al摻雜CsLiB6O10晶體生長(zhǎng)助熔劑,其特征在于,為Cs2O?Li2O?MoO3體系的助熔劑,體系中Cs2O,Li2O,MoO3的摩爾比為1:(0.8~1.2):(1.6~2.0)。本發(fā)明還提出利用所述助熔劑的Al摻雜CsLiB6O10晶體生長(zhǎng)方法。本發(fā)明提出的新助熔劑體系,可以有效降低晶體的生長(zhǎng)溫度,其溫度范圍在800~820℃之間,而且生長(zhǎng)溶液澄清透明易于實(shí)時(shí)觀察晶體生長(zhǎng)狀況。可明顯減少體系的揮發(fā)度,提高生長(zhǎng)體系的穩(wěn)定性,防止漂晶形成,提高晶體生長(zhǎng)成功率。顯著地降低溶液的粘度,利于溶質(zhì)傳輸,易于晶體生長(zhǎng)并且?guī)缀鯚o(wú)包裹體產(chǎn)生。

      技術(shù)研發(fā)人員:胡章貴;朱顯超;涂衡
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:中國(guó)科學(xué)院理化技術(shù)研究所
      技術(shù)研發(fā)日:2017.04.13
      技術(shù)公布日:2017.08.18
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