本發(fā)明涉及鉭酸鋰基片黑化領(lǐng)域，具體涉及一種鉭酸鋰基片黑化方法。

背景技術(shù)：

鉭酸鋰晶體是一種典型的多功能材料，具有良好的壓電、鐵電、熱釋電、聲光、電光、光折變及非線性等物理特性，在聲表面波器件、光通訊、激光及光電子領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用。鉭酸鋰晶體的壓電系數(shù)較大，因此適合制造低插入損耗聲表面波濾波器的基片。

鉭酸鋰晶體具有高的熱釋電系數(shù)，因此溫度變化會導(dǎo)致晶片表面產(chǎn)生大量靜電荷，這些靜電荷會在晶片間，尤其是叉指電極間自動釋放，達到一定程度會出現(xiàn)鉭酸鋰晶片開裂和叉指電極燒毀等問題。因為鉭酸鋰晶體是無色透明的，進行光刻工藝時，會產(chǎn)生漫反射導(dǎo)致電極線條精度降低。鉭酸鋰晶片經(jīng)過還原處理，可以有效的避免靜電荷在晶片表面的積累，熱釋電效應(yīng)明顯降低。這種還原處理后的鉭酸鋰晶片呈現(xiàn)褐色甚至黑色，因此稱為黑化，同時提高了光刻工藝的精度。

鉭酸鋰的黑化技術(shù)目前分為幾種。一種是將鉭酸鋰晶片放在和的還原氣氛中，進行高溫?zé)崽幚怼＿@種工藝效率較高，但容易產(chǎn)生爆炸的危險，對設(shè)備要求較高同時容易出現(xiàn)退極化現(xiàn)象。另外一種是將鉭酸鋰晶片埋在還原劑構(gòu)成的粉末中，低溫?zé)崽幚?。還原劑為c、si、mg、al、fe、碳酸鋰、碳酸鎂、碳酸鈣等，配比不同，熱處理溫度不同，黑化的效果和退極化情況有顯著差異。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種鉭酸鋰基片黑化方法，降低熱釋電效應(yīng)，同時保持鉭酸鋰晶片的壓電性能。

本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的：

一種鉭酸鋰基片黑化方法，其特征在于包括以下步驟：

s01：鉭酸鋰基片通過c粉或石墨粉埋覆在石英槽或耐高溫金屬槽中；

s02：在低真空度還原爐內(nèi)，通入帶水蒸氣的，還原反應(yīng)爐溫度控制在450-500℃，恒溫3~10h；

s03：與c粉發(fā)生反應(yīng)生成、co與鉭酸鋰基片進行還原反應(yīng)，尾氣處理后排放；

s04：還原反應(yīng)結(jié)束后取出鉭酸鋰基片。

進一步的，所述的步驟s02中的水蒸氣的比例是30%~60%。

優(yōu)選的，所述的的水蒸氣的比例是53%。

優(yōu)選地，所述的的水蒸氣的比例是43%。

進一步的，所述的步驟s02中是流量為（0.5-1.5）l/min。

優(yōu)選的，所述的是流量為1l/min。

進一步的，所述的步驟s01中c粉或石墨粉將鉭酸鋰基片完全覆蓋。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明提出的鉭酸鋰晶片黑化工藝方法，原材料c價格便宜成本低，通過反應(yīng)生成的h2、co大部分與鉭酸鋰發(fā)生還原反應(yīng)，效率高且生產(chǎn)安全。

具體實施方式

下面進一步詳細描述本發(fā)明的技術(shù)方案，但本發(fā)明的保護范圍不局限于以下所述。

【實施例1】

將鉭酸鋰基片放置于合適尺寸的石英槽中，埋覆在c粉中，完全覆蓋晶片。在低真空度還原爐內(nèi)，通入帶h20氣氛n2，流量為0.5l/min，還原反應(yīng)爐升溫到500℃，恒溫10h。h20與c粉發(fā)生反應(yīng)生成h2、co與鉭酸鋰基片進行還原反應(yīng)，尾氣處理后排放。還原反應(yīng)結(jié)束后取出鉭酸鋰基片。

【實施例2】

將鉭酸鋰基片放置于合適尺寸的石英槽中，埋覆在c粉中，完全覆蓋晶片。在低真空度還原爐內(nèi)，通入帶h20氣氛n2，流量為1l/min，還原反應(yīng)爐升溫到500℃，恒溫5h。h20與c粉發(fā)生反應(yīng)生成h2、co與鉭酸鋰基片進行還原反應(yīng)，尾氣處理后排放。還原反應(yīng)結(jié)束后取出鉭酸鋰基片。

【實施例3】

將鉭酸鋰基片放置于合適尺寸的石英槽中，埋覆在c粉中，完全覆蓋晶片。在低真空度還原爐內(nèi)，通入帶h20氣氛n2，流量為1.5l/min，還原反應(yīng)爐升溫到500℃，恒溫3h。h20與c粉發(fā)生反應(yīng)生成h2、co與鉭酸鋰基片進行還原反應(yīng)，尾氣處理后排放。還原反應(yīng)結(jié)束后取出鉭酸鋰基片。

以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明并非局限于本文所披露的形式，不應(yīng)看作是對其他實施例的排除，而可用于各種其他組合、修改和環(huán)境，并能夠在本文所述構(gòu)想范圍內(nèi)，通過上述教導(dǎo)或相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)或知識進行改動。而本領(lǐng)域人員所進行的改動和變化不脫離本發(fā)明的精神和范圍，則都應(yīng)在本發(fā)明所附權(quán)利要求的保護范圍內(nèi)。