本申請(qǐng)涉及低輻射玻璃制備技術(shù)領(lǐng)域，更具體的說，涉及一種新型low-e玻璃及其制備方法。

背景技術(shù)：

low-e(lowemissivity)玻璃，又稱低輻射玻璃，是指在玻璃表面鍍上多層金屬或其他化合物組成的膜系產(chǎn)品。其鍍膜層具有對(duì)可見光高透過及對(duì)中遠(yuǎn)紅外線高反射的特性，使其與普通玻璃及傳統(tǒng)的建筑用鍍膜玻璃相比，具有優(yōu)異的隔熱效果和良好的透光性。

對(duì)于low-e玻璃而言，其輻射參數(shù)是衡量其低輻射特性優(yōu)劣的重要參數(shù)，具有越低輻射參數(shù)的low-e玻璃，其隔熱效果和透光性越好。因此，如何降低low-e玻璃的輻射參數(shù)成為相關(guān)領(lǐng)域研究人員努力的方向。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種low-e玻璃及其制備方法，以實(shí)現(xiàn)制備輻射參數(shù)較低的low-e玻璃的目的。

為實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的，本發(fā)明實(shí)施例提供了如下技術(shù)方案：

一種新型low-e玻璃的制備方法，包括：

提供玻璃基板；

在所述玻璃基板上形成低輻射膜層；

利用預(yù)設(shè)波長的激光光源對(duì)所述低輻射膜層中的功能膜進(jìn)行表面改性處理，以提升所述功能膜的低輻射性能。

可選的，所述在所述玻璃基板上形成低輻射膜層包括：

利用磁控濺射法在所述玻璃基板表面依次形成第一介質(zhì)膜、功能膜和第二介質(zhì)膜。

可選的，所述在所述玻璃基板上形成低輻射膜層包括：

利用化學(xué)氣相沉積法在所述玻璃基板表面依次形成內(nèi)層介質(zhì)膜、過度膜和功能膜。

可選的，所述預(yù)設(shè)波長為976nm±50nm，包括端點(diǎn)值。

可選的，所述激光光源出射的激光光斑為線形激光光斑。

可選的，所述線形激光光斑的長度的取值范圍為150mm±50mm，包括端點(diǎn)值。

可選的，所述線形激光光斑的寬度的取值范圍為1mm±1mm，包括端點(diǎn)值。

一種新型low-e玻璃，利用上述任一項(xiàng)所述的low-e玻璃的制備方法制備，所述low-e玻璃包括：

玻璃基板；

位于所述玻璃基板表面的低輻射膜層；

所述低輻射膜層中的功能膜為經(jīng)過預(yù)設(shè)波長的激光光源表面改性處理后的功能膜。

可選的，所述玻璃基板為浮法玻璃。

從上述技術(shù)方案可以看出，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種新型low-e玻璃及其制備方法，其中，所述新型low-e玻璃制備方法利用預(yù)設(shè)波長的激光光源對(duì)所述低輻射膜層中的功能膜進(jìn)行表面改性處理，以利用激光光源使所述功能膜產(chǎn)生激光相變硬化現(xiàn)象，從而降低制備的low-e玻璃的輻射參數(shù)，提升low-e玻璃的低輻射特性，進(jìn)而使得制備的low-e玻璃具有更加優(yōu)異的隔熱效果和良好的透光性。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1為本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例提供的一種low-e玻璃的制備方法的流程示意圖；

圖2為本申請(qǐng)的另一個(gè)實(shí)施例提供的一種low-e玻璃的制備方法的流程示意圖；

圖3為本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例提供的一種low-e玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本申請(qǐng)的又一個(gè)實(shí)施例提供的一種low-e玻璃的制備方法的流程示意圖；

圖5為本申請(qǐng)的另一個(gè)實(shí)施例提供的一種low-e玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種新型low-e玻璃的制備方法，如圖1所示，包括：

s101：提供玻璃基板；

所述玻璃基板可以是普通玻璃，也可以是鋼化玻璃，還可以是浮法玻璃，本申請(qǐng)對(duì)所述玻璃基板的具體種類并不做限定，具體視實(shí)際情況而定。

s102：在所述玻璃基板上形成低輻射膜層；

s103：利用預(yù)設(shè)波長的激光光源對(duì)所述低輻射膜層中的功能膜進(jìn)行表面改性處理，以提升所述功能膜的低輻射性能。

在本實(shí)施例中，在low-e玻璃的基本結(jié)構(gòu)形成后，利用預(yù)設(shè)波長的激光光源對(duì)所述低輻射膜層中的功能膜進(jìn)行表面改性處理，以利用激光光源使所述功能膜產(chǎn)生激光相變硬化現(xiàn)象，從而降低制備的low-e玻璃的輻射參數(shù)，提升low-e玻璃的低輻射特性，進(jìn)而使得制備的low-e玻璃具有更加優(yōu)異的隔熱效果和良好的透光性。

需要說明的是，所述功能膜的電阻值越低，代表low-e玻璃的低輻射特性越好，通過測試功能膜的電阻值可以發(fā)現(xiàn)，在利用預(yù)設(shè)波長的激光光源對(duì)所述低輻射膜層中的功能膜進(jìn)行表面改性處理后，其功能膜的電阻值明顯降低，這意味著激光光斑可以使功能膜產(chǎn)生明顯的相變硬化現(xiàn)象。

在實(shí)際的生產(chǎn)過程中，利用預(yù)設(shè)波長的激光光源直接照射low-e玻璃表面即可，預(yù)設(shè)波長的選擇特性會(huì)穿過所述低輻射膜層，從而實(shí)現(xiàn)選擇性地對(duì)所述功能膜進(jìn)行表面改性處理的目的，這種方法整體操作簡便，對(duì)原有l(wèi)ow-e玻璃的生產(chǎn)流程改動(dòng)較小。

在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中，如圖2所示，所述在所述玻璃基板上形成低輻射膜層包括：

s1021：利用磁控濺射法在所述玻璃基板表面依次形成第一介質(zhì)膜、功能膜和第二介質(zhì)膜。

在本實(shí)施例中，制備low-e玻璃的流程成為離線生產(chǎn)過程，具體地，在玻璃基板經(jīng)過切割、清洗、干燥等預(yù)處理后，輸送進(jìn)入真空濺射室中，真空濺射室中設(shè)有濺射靶。在對(duì)真空濺射室進(jìn)行抽氣使其內(nèi)部處于真空環(huán)境后，陰極接通負(fù)電壓，陽極接通正電壓，并向真空濺射室內(nèi)充入工作氣體(一般采用惰性氣體，例如氬氣)。當(dāng)真空濺射室真空度降低到工作壓強(qiáng)時(shí)，遵循陰極磁控濺射的原理，在玻璃基板表面上沉積大量的中性靶原子(或分子)而形成所述低輻射膜層。或在真空濺射室工作條件下，分階段向真空濺射室充入反應(yīng)氣體(一般采用氧氣、氮?dú)?、硫化氫、甲?，同純金屬靶材濺射出來的原子進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，繼而在玻璃基板表面上形成氧化物、氮化物、硫化物和碳化物膜層。

還可以選擇連續(xù)設(shè)置多個(gè)真空濺射室，以實(shí)現(xiàn)復(fù)合型多功能的低輻射膜層的low-e玻璃的生產(chǎn)。

利用該方法制備的low-e玻璃的結(jié)構(gòu)如圖3所示，包括：玻璃基板100、第一介質(zhì)膜210、功能膜220和第二介質(zhì)膜230，其中，第一介質(zhì)膜210、功能膜220和第二介質(zhì)膜230構(gòu)成所述低輻射膜層200。

在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本申請(qǐng)的另一個(gè)實(shí)施例中，如圖4所示，所述在所述玻璃基板上形成低輻射膜層包括：

s1022：利用化學(xué)氣相沉積法在所述玻璃基板表面依次形成內(nèi)層介質(zhì)膜、過度膜和功能膜。

需要說明的是，化學(xué)氣相沉積法(chemicalvapordeposition簡稱cvd)是指利用流經(jīng)襯底表面的氣態(tài)物料的化學(xué)反應(yīng)，生成固態(tài)物質(zhì)，在襯底表面形成薄膜的方法。在線cvd法生產(chǎn)low-e玻璃是制備在線low-e的主要方法，在線高溫?zé)峤獬练e法，具體是在玻璃基板(浮法玻璃)冷卻過程中完成的。液體金屬或金屬粉末直接噴射到熱玻璃基板表面上，隨著玻璃基板的冷卻，金屬膜層成為low-e玻璃的一部分。

利用該方法制備的low-e玻璃的結(jié)構(gòu)如圖5所示，包括：玻璃基板100、內(nèi)層介質(zhì)膜240、過度膜250和功能膜220，其中，內(nèi)層介質(zhì)膜240、過度膜250和功能膜220構(gòu)成所述低輻射膜層200。

在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本申請(qǐng)的又一個(gè)實(shí)施例中，所述預(yù)設(shè)波長為976nm±50nm，包括端點(diǎn)值。

所述預(yù)設(shè)波長可以實(shí)現(xiàn)選擇性處理，即預(yù)設(shè)波長的激光源斑可以實(shí)現(xiàn)透過介質(zhì)膜或過度膜對(duì)功能膜進(jìn)行表面改性處理，以提升所述功能膜的低輻射性能。在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中，所述預(yù)設(shè)波長優(yōu)選為976nm。

優(yōu)選的，所述激光光源出射的激光光斑為線形激光光斑。所述線形激光光斑的長度的取值范圍為150mm±50mm，包括端點(diǎn)值。所述線形激光光斑的寬度的取值范圍為1mm±1mm，包括端點(diǎn)值。

在本申請(qǐng)的其他實(shí)施例中，利用激光光斑對(duì)功能膜進(jìn)行表面改性處理的其他條件可以為：功率為1100w(cw)、光斑大小為150mm×1mm、功率密度880w/cm²，工作距離200mm。

相應(yīng)的，本申請(qǐng)實(shí)施例還提供了一種新型low-e玻璃，如圖3和圖5所示，所述low-e玻璃利用上述任一實(shí)施例所述的新型low-e玻璃的制備方法制備，包括：

玻璃基板100；

位于所述玻璃基板100表面的低輻射膜層200；

所述低輻射膜層200中的功能膜220為經(jīng)過預(yù)設(shè)波長的激光光源處理后的功能膜220。

所述玻璃基板100可以是普通玻璃，也可以是鋼化玻璃，還可以是浮法玻璃，本申請(qǐng)對(duì)所述玻璃基板100的具體種類并不做限定，具體視實(shí)際情況而定。

在圖3中，所述low-e玻璃為離線low-e玻璃，在該種類low-e玻璃中，所述低輻射膜層200包括：第一介質(zhì)膜210、功能膜220和第二介質(zhì)膜230；

在圖5中，所述low-e玻璃為在線low-e玻璃，在該種類low-e玻璃中，所述低輻射膜層200包括：內(nèi)層介質(zhì)膜240、過度膜250和功能膜220。

在本實(shí)施例中，在low-e玻璃的基本結(jié)構(gòu)形成后，利用預(yù)設(shè)波長的激光光源對(duì)所述低輻射膜層200中的功能膜220進(jìn)行表面改性處理，以利用激光光斑使所述功能膜220產(chǎn)生激光相變硬化現(xiàn)象，從而降低制備的low-e玻璃的輻射參數(shù)，提升low-e玻璃的低輻射特性，進(jìn)而使得制備的low-e玻璃具有更加優(yōu)異的隔熱效果和良好的透光性。

需要說明的是，所述功能膜220的電阻值越低，代表low-e玻璃的低輻射特性越好，通過測試功能膜220的電阻值可以發(fā)現(xiàn)，在利用預(yù)設(shè)波長的激光光源對(duì)所述低輻射膜層200中的功能膜220進(jìn)行表面改性處理后，其功能膜220的電阻值明顯降低，這意味著激光光源可以使功能膜220產(chǎn)生明顯的相變硬化現(xiàn)象。

綜上所述，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種新型low-e玻璃及其制備方法，其中，所述新型low-e玻璃制備方法利用預(yù)設(shè)波長的激光光源對(duì)所述低輻射膜層中的功能膜進(jìn)行表面改性處理，以利用激光光源使所述功能膜產(chǎn)生激光相變硬化現(xiàn)象，從而降低制備的low-e玻璃的輻射參數(shù)，提升low-e玻璃的低輻射特性，進(jìn)而使得制備的low-e玻璃具有更加優(yōu)異的隔熱效果和良好的透光性。

本說明書中各個(gè)實(shí)施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說明的都是與其他實(shí)施例的不同之處，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似部分互相參見即可。

對(duì)所公開的實(shí)施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。