一種防污柔光大理石瓷磚的制備工藝，屬于瓷磚制備技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

柔光瓷磚，又稱(chēng)柔光雅面瓷磚，現(xiàn)有的制造工藝主要有以下幾種：一是通過(guò)噴釉柜或甩釉柜以濕式方式把透明的水晶粒子均勻平鋪在陶瓷磚表面上，其優(yōu)點(diǎn)是與坯體的結(jié)合性好，缺點(diǎn)是干粒流動(dòng)性差，易堵噴槍眼，生產(chǎn)不好控制，平整度較差，硬度較低；二是通過(guò)淋釉柜以濕式方式把透明的水晶粒子均勻平鋪在陶瓷磚表面上，優(yōu)點(diǎn)是燒制成的瓷磚平整度較好，缺點(diǎn)是硬度較低，干粒流動(dòng)性差，易沉淀，生產(chǎn)不好控制；三是把干粒制成花釉通過(guò)絲網(wǎng)印花機(jī)以印花的方式印在磚面上，雖然，其優(yōu)點(diǎn)是干粒分布均勻，硬度高，平整度較好，但是，由于花釉是釉與水晶粒子混合而成的，受花釉自身的性質(zhì)所決定，而且網(wǎng)版破損率大，成本高?，F(xiàn)有的制造工藝普遍采用水晶粒子才能實(shí)現(xiàn)柔光效果，導(dǎo)致柔光瓷磚的成品率較低、生成成本高，或硬度較低、平整度較差。

另外大理石花紋的瓷磚由于其模仿大理石的圖案，裝修效果非常的美觀而越來(lái)越受到人們的喜愛(ài)。瓷磚表面的圖案可以通過(guò)噴墨網(wǎng)格打印的技術(shù)施加，形成圖案其花紋可以達(dá)到與大理石高度仿真的效果，但是這種瓷磚的由于表面粗糙度和反光效果與打磨大理石有較大的差異，導(dǎo)致實(shí)際視覺(jué)和觸覺(jué)效果與打磨大理石仍相差較大。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是：克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種防污性、耐磨性好，成本低、視覺(jué)和觸覺(jué)高度仿真的防污柔光大理石瓷磚的制備工藝。

本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：該防污柔光大理石瓷磚的制備工藝，其特征在于：包括以下步驟：1）制備坯體，2）施底釉，3）噴墨打印大理石圖案面釉，4）燒制，5）柔拋；

所述的制備坯體步驟中所用坯體料的重量份組成為：長(zhǎng)石30~35份，晶彩熔塊3~5份，葉臘石10~15份，白泥25~35份，高鋁石15~20份；

所述面釉所用釉料的重量份組成為：長(zhǎng)石25~30份，晶彩熔塊15~20份，剛玉3~5份，高嶺土7~10份，氧化鋅8~10份，硅灰石8~11份，氧化鋇1~3份，石英10~15份。

本發(fā)明所用的坯體料經(jīng)過(guò)燒制，部分物料之間會(huì)在燒制過(guò)程中自行的集聚，使得坯體截面具有不同的顏色，從而使燒制成的坯體出現(xiàn)通體大理石紋理，而且是由于燒制過(guò)程自發(fā)形成，坯體的強(qiáng)度較高，坯體與釉層結(jié)合緊密，不開(kāi)裂。本發(fā)明所用的釉料在燒制后不但比i凹面的硬度高，而且會(huì)自然呈現(xiàn)出柔光效果，其表面的粗糙度也會(huì)出現(xiàn)天然大理石的觸感，這種燒制后自然呈現(xiàn)的柔光效果和大理石觸感在柔拋后會(huì)出呈現(xiàn)高度仿真的打磨大理石的視覺(jué)和觸覺(jué)，并表現(xiàn)出更好的排污性。

優(yōu)選的，所述的坯體料的重量份組成為：長(zhǎng)石32~33份，晶彩熔塊4份，葉臘石12~13份，白泥28~32份，高鋁石17~19份。本發(fā)明優(yōu)選的坯體料燒制后呈現(xiàn)的通體大理石紋理更加自然，仿真度更高。

優(yōu)選的，所述的釉料的重量份組成為：長(zhǎng)石27~28份，晶彩熔塊17~18份，剛玉4份，高嶺土8份，氧化鋅9份，硅灰石9~10份，氧化鋇2份，石英12~14份。本發(fā)明優(yōu)選的釉料在燒制后能夠與大理石相似度更高的觸感。

優(yōu)選的，所述的晶彩熔塊的質(zhì)量百分比組成為：氧化硅50%~52%，氧化鋁19%~21%，氧化鉀1.5%~2.5%，氧化鈉0.5%~1.5%，氧化鈣12%~14%，氧化鎂3.5%~4.5%，氧化氟2.7%~3.3%，氧化磷0.8%~1.2%，氧化硼4%~6%。本發(fā)明給出晶彩熔塊的組成對(duì)本發(fā)明的配方適應(yīng)性最好，能夠使坯體和釉層的發(fā)色效果更好，兩者的大理石紋理更加匹配。更優(yōu)選的，所述的晶彩熔塊的質(zhì)量百分比組成為：氧化硅51%，氧化鋁20%，氧化鉀2%，氧化鈉1%，氧化鈣13%，氧化鎂4%，氧化氟3%，氧化磷1%，氧化硼5%。能夠達(dá)到本發(fā)明的最佳效果。

優(yōu)選的，所述的柔拋步驟依次采用柔拋工藝和靠形拋光工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為3000~5000目，切削厚度小于0.1mm。

本柔拋工藝能夠適當(dāng)?shù)慕档蜔坪螽a(chǎn)品的反光率，使得表面光線產(chǎn)生散射光效果，使產(chǎn)品的質(zhì)感更柔和、光感細(xì)膩潤(rùn)澤，達(dá)到人體舒適的視覺(jué)感受以及無(wú)光污染的空間裝飾效果。

優(yōu)選的，所述的磨料的細(xì)度為4000~4500目。

優(yōu)選的，所述的柔拋工藝的最大切削厚度為0.01mm~0.03mm。

優(yōu)選的柔拋工藝條件能夠達(dá)到本發(fā)明最合適的效果，產(chǎn)品的質(zhì)感更柔和、光感細(xì)膩潤(rùn)澤度更高。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的一種防污柔光大理石瓷磚的制備工藝所具有的有益效果是：本發(fā)明的通體大理石瓷磚磚底和磚的表面是一樣的紋理效果。無(wú)論拉槽、倒角、磨邊等，都運(yùn)用自如，色澤效果如天然大理石原貌，整體美觀，空間裝飾效果更逼真。這樣就解決了在裝修中轉(zhuǎn)角、拉槽不會(huì)像以前的大理石瓷磚露出白白的磚的底部，影響整體效果。

本發(fā)明的柔光瓷磚結(jié)合亮光類(lèi)瓷磚的高調(diào)明艷裝飾和啞光類(lèi)瓷磚的低調(diào)內(nèi)斂搭配效果，本發(fā)明通過(guò)動(dòng)態(tài)柔拋技術(shù)，降低產(chǎn)品反光率，從而達(dá)到人體舒適的視覺(jué)感受以及無(wú)光污染的空間裝飾效果。

通過(guò)磚面柔拋技術(shù)，使得表面光線產(chǎn)生散射光效果，降低產(chǎn)品反光率，使產(chǎn)品的質(zhì)感更柔和、光感細(xì)膩潤(rùn)澤，從而解決了亮光瓷磚產(chǎn)品的光污染問(wèn)題。從而營(yíng)造出視覺(jué)舒適且具有藝術(shù)情調(diào)的溫暖空間，以更適合人居環(huán)境的“柔和空間”理念。

本柔光瓷磚耐磨且不易刮花，同時(shí)也解決了仿古磚容易藏污的問(wèn)題，清潔打理更輕松。相對(duì)于全拋釉、微晶石出現(xiàn)劃痕很容易顯現(xiàn)出來(lái)，本柔光磚的劃痕不容易看出。

總之本發(fā)明柔光釉+通體大理石坯體，能達(dá)到目測(cè)、觸感與天然打磨大理石完全一致，即使存在切斜面、開(kāi)槽等露出坯體的情況，目測(cè)、觸感與天然大理石也完全一致，并且防污性、耐磨性、發(fā)色效果、防開(kāi)裂等均優(yōu)于天然大理石。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說(shuō)明，其中實(shí)施例1為最佳實(shí)施例。

實(shí)施例1

本實(shí)施例中所用晶彩熔塊的組成均為氧化硅51%，氧化鋁20%，氧化鉀2%，氧化鈉1%，氧化鈣13%，氧化鎂4%，氧化氟3%，氧化磷1%，氧化硼5%；

按重量份組成長(zhǎng)石32份，晶彩熔塊4份，葉臘石12.5份，白泥30份，高鋁石18份將坯體原料混合均勻，然后送入球磨機(jī)中進(jìn)行球磨，然后過(guò)篩除鐵，細(xì)度達(dá)到250目；隨后經(jīng)過(guò)噴霧制粉工序形成粉料，之后經(jīng)過(guò)壓力為300bar的壓機(jī)進(jìn)行壓制成型；

成型后放在大生產(chǎn)輸送線上，先淋底釉；面釉噴墨打印為大理石圖案，釉料的重量份組成為：長(zhǎng)石27份，晶彩熔塊17份，剛玉4份，高嶺土8份，氧化鋅9份，硅灰石10份，氧化鋇2份，石英13份；

之后進(jìn)行燒成，最高溫度為1120℃，燒成時(shí)間為60min；

釉燒后進(jìn)行柔拋即得，柔拋的前半程采用柔拋工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為4200目，最大切削厚度為0.02mm；柔拋的后半程采用靠形拋光工藝；

通過(guò)檢測(cè)，該實(shí)施例制備的柔光釉面磚的坯體出現(xiàn)通體大理石紋理，釉面光澤度為60°，表面粗糙度ra值為0.44μm，具有較好的柔光效果。

實(shí)施例2

本實(shí)施例中所用晶彩熔塊的組成均為氧化硅51%，氧化鋁20%，氧化鉀2%，氧化鈉1%，氧化鈣13%，氧化鎂3.5%，氧化氟3.3%，氧化磷1.2%，氧化硼5%；

按重量份組成長(zhǎng)石32份，晶彩熔塊4份，葉臘石13份，白泥28份，高鋁石19份將坯體原料混合均勻，然后送入球磨機(jī)中進(jìn)行球磨，然后過(guò)篩除鐵，細(xì)度達(dá)到250目；隨后經(jīng)過(guò)噴霧制粉工序形成粉料，之后經(jīng)過(guò)壓力為300bar的壓機(jī)進(jìn)行壓制成型；

成型后放在大生產(chǎn)輸送線上，先淋底釉；面釉噴墨打印為大理石圖案，釉料的重量份組成為：長(zhǎng)石27份，晶彩熔塊18份，剛玉4份，高嶺土8份，氧化鋅9份，硅灰石10份，氧化鋇2份，石英12份；

之后進(jìn)行燒成，最高溫度為1120℃，燒成時(shí)間為60min；

釉燒后進(jìn)行柔拋即得，柔拋的前半程采用柔拋工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為4000目，最大切削厚度為0.01mm；柔拋的后半程采用靠形拋光工藝；

通過(guò)檢測(cè)，該實(shí)施例制備的柔光釉面磚的坯體出現(xiàn)通體大理石紋理，釉面光澤度為58°，表面粗糙度ra值為0.42μm，具有較好的柔光效果。

實(shí)施例3

本實(shí)施例中所用晶彩熔塊的組成均為氧化硅51%，氧化鋁20%，氧化鉀2%，氧化鈉1%，氧化鈣13%，氧化鎂4.5%，氧化氟2.7%，氧化磷0.8，氧化硼5%；

按重量份組成長(zhǎng)石33份，晶彩熔塊4份，葉臘石12份，白泥32份，高鋁石17份將坯體原料混合均勻，然后送入球磨機(jī)中進(jìn)行球磨，然后過(guò)篩除鐵，細(xì)度達(dá)到250目；隨后經(jīng)過(guò)噴霧制粉工序形成粉料，之后經(jīng)過(guò)壓力為300bar的壓機(jī)進(jìn)行壓制成型；

成型后放在大生產(chǎn)輸送線上，先淋底釉；面釉噴墨打印為大理石圖案，釉料的重量份組成為：長(zhǎng)石28份，晶彩熔塊17份，剛玉4份，高嶺土8份，氧化鋅9份，硅灰石9份，氧化鋇2份，石英14份；

之后進(jìn)行燒成，最高溫度為1120℃，燒成時(shí)間為60min；

釉燒后進(jìn)行柔拋即得，柔拋的前半程采用柔拋工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為4500目，細(xì)度為4000~4500目最大切削厚度為0.03mm；柔拋的后半程采用靠形拋光工藝；

通過(guò)檢測(cè)，該實(shí)施例制備的柔光釉面磚的坯體出現(xiàn)通體大理石紋理，釉面光澤度為55°，表面粗糙度ra值為0.38μm，具有較好的柔光效果。

實(shí)施例4

本實(shí)施例中所用晶彩熔塊的組成均為氧化硅50%，氧化鋁21%，氧化鉀1.5%，氧化鈉1.5%，氧化鈣12%，氧化鎂4.5%，氧化氟2.7%，氧化磷0.8%，氧化硼6%；

按重量份組成長(zhǎng)石30份，晶彩熔塊5份，葉臘石10份，白泥35份，高鋁石15份將坯體原料混合均勻，然后送入球磨機(jī)中進(jìn)行球磨，然后過(guò)篩除鐵，細(xì)度達(dá)到250目；隨后經(jīng)過(guò)噴霧制粉工序形成粉料，之后經(jīng)過(guò)壓力為300bar的壓機(jī)進(jìn)行壓制成型；

成型后放在大生產(chǎn)輸送線上，先淋底釉；面釉噴墨打印為大理石圖案，釉料的重量份組成為：長(zhǎng)石30份，晶彩熔塊15份，剛玉5份，高嶺土7份，氧化鋅10份，硅灰石8份，氧化鋇3份，石英10份；

釉燒后進(jìn)行柔拋即得，柔拋的前半程采用柔拋工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為3000目，最大切削厚度為0.1mm；柔拋的后半程采用靠形拋光工藝；

通過(guò)檢測(cè)，該實(shí)施例制備的柔光釉面磚的坯體出現(xiàn)通體大理石紋理，釉面光澤度為67°，表面粗糙度ra值為0.32μm，具有較好的柔光效果。

實(shí)施例5

本實(shí)施例中所用晶彩熔塊的組成均為氧化硅52%，氧化鋁19%，氧化鉀2.5%，氧化鈉0.5%，氧化鈣14%，氧化鎂3.5%，氧化氟3.3%，氧化磷1.2%，氧化硼4%；

按重量份組成長(zhǎng)石35份，晶彩熔塊3份，葉臘石15份，白泥25份，高鋁石20份將坯體原料混合均勻，然后送入球磨機(jī)中進(jìn)行球磨，然后過(guò)篩除鐵，細(xì)度達(dá)到250目；隨后經(jīng)過(guò)噴霧制粉工序形成粉料，之后經(jīng)過(guò)壓力為300bar的壓機(jī)進(jìn)行壓制成型；

成型后放在大生產(chǎn)輸送線上，先淋底釉；面釉噴墨打印為大理石圖案，釉料的重量份組成為：長(zhǎng)石25份，晶彩熔塊20份，剛玉3份，高嶺土10份，氧化鋅8份，硅灰石11份，氧化鋇1份，石英15份；

釉燒后進(jìn)行柔拋即得，柔拋的前半程采用柔拋工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為5000目，最大切削厚度為0.005mm；柔拋步驟的后半程采用靠形拋光工藝；

通過(guò)檢測(cè)，該實(shí)施例制備的柔光釉面磚的坯體出現(xiàn)通體大理石紋理，釉面光澤度為53°，表面粗糙度ra值為48μm，具有較好的柔光效果。

對(duì)比例1

本實(shí)施例中所用晶彩熔塊的組成均為氧化硅51%，氧化鋁20%，氧化鉀2%，氧化鈉1%，氧化鈣13%，氧化鎂4%，氧化氟3%，氧化磷1%，氧化硼5%；

按重量份組成長(zhǎng)石40份，晶彩熔塊4份，葉臘石7份，白泥20份，高鋁石13份將坯體原料混合均勻，然后送入球磨機(jī)中進(jìn)行球磨，然后過(guò)篩除鐵，細(xì)度達(dá)到250目；隨后經(jīng)過(guò)噴霧制粉工序形成粉料，之后經(jīng)過(guò)壓力為300bar的壓機(jī)進(jìn)行壓制成型；

成型后放在大生產(chǎn)輸送線上，先淋底釉；面釉噴墨打印為大理石圖案，釉料的重量份組成為：長(zhǎng)石27份，晶彩熔塊17份，剛玉4份，高嶺土8份，氧化鋅9份，硅灰石10份，氧化鋇2份，石英13份；

之后進(jìn)行燒成，最高溫度為1120℃，燒成時(shí)間為60min；

釉燒后進(jìn)行柔拋即得，柔拋的前半程采用柔拋工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為4200目，最大切削厚度為0.02mm；柔拋的后半程采用靠形拋光工藝；

通過(guò)檢測(cè)，該對(duì)比例制備的柔光釉面磚的坯體沒(méi)有出現(xiàn)通體大理石紋理。

對(duì)比例2

本實(shí)施例中所用晶彩熔塊的組成均為氧化硅51%，氧化鋁20%，氧化鉀2%，氧化鈉1%，氧化鈣13%，氧化鎂4%，氧化氟3%，氧化磷1%，氧化硼5%；

按重量份組成長(zhǎng)石32份，晶彩熔塊4份，葉臘石12.5份，白泥30份，高鋁石18份將坯體原料混合均勻，然后送入球磨機(jī)中進(jìn)行球磨，然后過(guò)篩除鐵，細(xì)度達(dá)到250目；隨后經(jīng)過(guò)噴霧制粉工序形成粉料，之后經(jīng)過(guò)壓力為300bar的壓機(jī)進(jìn)行壓制成型；

成型后放在大生產(chǎn)輸送線上，先淋底釉；面釉噴墨打印為大理石圖案，釉料的重量份組成為：石英27份，晶彩熔塊20份，剛玉8份，高嶺土4份，氧化鋅12份，硅灰石7份，氧化鋇2份，長(zhǎng)石13份；

之后進(jìn)行燒成，最高溫度為1120℃，燒成時(shí)間為60min；

釉燒后進(jìn)行柔拋即得，柔拋的前半程采用柔拋工藝，柔拋工藝所用的磨料的細(xì)度為4200目，最大切削厚度為0.02mm；柔拋的后半程采用靠形拋光工藝；

通過(guò)檢測(cè)，該對(duì)比例制備的柔光釉面磚的釉面光澤度為87°，表面粗糙度ra值為0.12μm，具有較強(qiáng)的亮光效果。

以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非是對(duì)本發(fā)明作其它形式的限制，任何熟悉本專(zhuān)業(yè)的技術(shù)人員可能利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容加以變更或改型為等同變化的等效實(shí)施例。但是凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與改型，仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的保護(hù)范圍。