本實(shí)用新型涉及電石生產(chǎn)，特別涉及一種電石下料裝置。

背景技術(shù)：

電石是一種用來(lái)制備乙炔的常用原料，其基本組成為碳化鈣，是一種白色晶體，遇水發(fā)生激烈的反應(yīng)生成乙炔，并放出大量的熱。在乙炔生產(chǎn)過程中，將電石經(jīng)由電石下料裝置送進(jìn)乙炔發(fā)生器內(nèi)，在反應(yīng)過程中進(jìn)行快速的攪拌，以破壞反應(yīng)過程中生成的氫氧化鈣對(duì)電石的包圍，實(shí)現(xiàn)乙炔的制備。

在乙炔的制備過程中，電石粒度是非常重要的因素，粒度愈小，與水的接觸面積愈大，則水解速率愈快，但是如果電石粒度過小，則會(huì)引起局部過熱而發(fā)生分解爆炸；當(dāng)電石粒度過大，則會(huì)導(dǎo)致水解速率緩慢，容易造成電石水解不完全。通常，比較好的電石粒度控制在50mm左右。

目前，現(xiàn)有技術(shù)中授權(quán)公告號(hào)為CN205048986U的中國(guó)專利公開了一種電石下料箱，包括箱體、進(jìn)料口與出料口，進(jìn)料口設(shè)置在箱體的頂部，出料口設(shè)置在箱體的底面，該電石下料箱能夠容納較多的電石原料，對(duì)箱體內(nèi)的電石具有優(yōu)異的支撐效果。

但是，上述電石下料箱所起到的作用僅僅是將電石集中在箱體內(nèi)，利用重力作用，將箱體內(nèi)的電石傳輸至乙炔發(fā)生器中，功能比較單一，具有較大的使用局限性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的是提供一種具有多樣化功能的電石下料裝置。

本實(shí)用新型的上述技術(shù)目的是通過以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)的：

一種電石下料裝置，包括箱體，所述箱體的頂部設(shè)有進(jìn)料口，所述箱體的底部設(shè)有出料口，所述箱體內(nèi)在靠近進(jìn)料口的方向上設(shè)有儲(chǔ)物板，所述儲(chǔ)物板在偏心的方向上沿儲(chǔ)物板的上表面向下凹陷設(shè)有研磨槽，所述研磨槽的槽底面設(shè)有能夠篩選出粒度適中的電石的通孔，所述箱體內(nèi)設(shè)有用于在研磨槽內(nèi)環(huán)繞通孔的方向進(jìn)行研磨的研磨件，所述箱體上設(shè)有用于控制研磨件進(jìn)行研磨的驅(qū)動(dòng)件。

通過采用上述技術(shù)方案，大量的電石從進(jìn)料口內(nèi)進(jìn)入，箱體的頂部與儲(chǔ)物板之間形成了容納腔，電石填充在容納腔內(nèi)，驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)研磨件在研磨槽內(nèi)進(jìn)行滑移，以實(shí)現(xiàn)對(duì)電石進(jìn)行研磨，從而使符合粒徑要求的電石從通孔內(nèi)掉落，有助于對(duì)電石進(jìn)行有效的篩選，本申請(qǐng)的電石下料裝置具有對(duì)電石進(jìn)行研磨的功能，經(jīng)篩選的電石具有適中的粒徑，有助于在乙炔發(fā)生器內(nèi)進(jìn)行充分、徹底的反應(yīng)，顯著提高反應(yīng)效率以及增加乙炔純度。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述研磨件包括研磨棒，所述研磨棒朝向研磨槽的一端設(shè)有用于增大與電石接觸面積的凸出部。

通過采用上述技術(shù)方案，設(shè)置凸出部有助于增大研磨棒與電石的接觸面積，對(duì)電石的研磨更加充分、徹底，具有良好的使用性能。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述凸出部上燒結(jié)設(shè)有金剛石層。

通過采用上述技術(shù)方案，金剛石層具有優(yōu)異的硬度，凸出部是與電石直接接觸的部位，容易造成凸出部的磨損甚至損壞，設(shè)置金剛石層有助于提高凸出部的硬度，顯著提高了凸出部對(duì)電石的研磨效率。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述驅(qū)動(dòng)件包括電機(jī)，所述電機(jī)上連接有L型的旋轉(zhuǎn)桿，所述旋轉(zhuǎn)桿包括水平端與豎直端，所述電機(jī)的電機(jī)軸插設(shè)在水平端上，所述研磨棒在遠(yuǎn)離凸出部的一端設(shè)有插孔，所述豎直端插進(jìn)插孔內(nèi)。

通過采用上述技術(shù)方案，電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)桿進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)桿上的豎直端插進(jìn)研磨棒上，有助于帶動(dòng)研磨棒進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而實(shí)現(xiàn)了研磨棒在研磨槽內(nèi)做圓周旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，以對(duì)電石進(jìn)行更好地研磨。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述研磨槽的底部設(shè)有用于對(duì)研磨后的電石進(jìn)行下料的通孔，所述箱體的頂部設(shè)有能夠插進(jìn)通孔內(nèi)以對(duì)通孔進(jìn)行疏通的清理?xiàng)U。

通過采用上述技術(shù)方案，清理?xiàng)U設(shè)置在箱體上相對(duì)通孔的方向上，當(dāng)通孔內(nèi)發(fā)生堵塞時(shí)，利用清理?xiàng)U插向通孔內(nèi)以對(duì)通孔內(nèi)堵塞的電石進(jìn)行疏通，從而防止通孔內(nèi)堵塞電石。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述清理?xiàng)U在靠近通孔的一端設(shè)有向清理?xiàng)U的側(cè)壁方向延伸的剝離片。

通過采用上述技術(shù)方案，利用剝離片將卡在通孔內(nèi)的較大的電石剝離至研磨槽附近，有助于研磨棒對(duì)較大的電石研磨成能夠從通孔內(nèi)滑落的電石，有效防止較大的電石卡嵌在通孔的入口處，顯著提高了研磨過程的流暢性與便捷性。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述通孔的孔徑在48~52mm之間。

通過采用上述技術(shù)方案，將通孔的孔徑設(shè)置在48~52mm之間，有助于使50mm左右粒徑的電石從通孔內(nèi)掉落下來(lái)，進(jìn)而篩選出50mm左右粒徑的電石，粒徑為5 0mm左右的電石在乙炔反應(yīng)器中具有更好的反應(yīng)性能。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述箱體的底部延伸設(shè)有方便出料的錐形部，所述出料口開設(shè)在錐形部的底部。

通過采用上述技術(shù)方案，出料口設(shè)置在錐形部的底部，電石從錐形部的側(cè)壁緩慢滑落下來(lái)，從出料口處排至乙炔反應(yīng)器內(nèi)，有助于提高電石的排出速度，防止電石堆積在箱體內(nèi)不易排出的情況。

綜上所述，本實(shí)用新型具有以下有益效果：

1、從進(jìn)料口內(nèi)進(jìn)入的電石流向研磨槽內(nèi)，粒徑較大的電石會(huì)殘留在研磨槽內(nèi)，利用研磨棒對(duì)這部分電石進(jìn)行研磨，使其變?yōu)榱捷^小的電石，方便從通孔內(nèi)下料；

2、箱體在出料口附近設(shè)置有錐形部，經(jīng)通孔篩選過的電石從錐形部的側(cè)壁上滑落下來(lái)，防止電石堆積在箱體內(nèi)不易排出的缺陷；

3、研磨棒在驅(qū)動(dòng)件的驅(qū)動(dòng)作用下，L型的旋轉(zhuǎn)桿對(duì)研磨棒進(jìn)行導(dǎo)向，有助于研磨棒研磨電石，具有良好的研磨效果；

4、在箱體的頂部插設(shè)有用于疏通通孔的清理?xiàng)U以及剝離片，有助于及時(shí)將堵塞在通孔內(nèi)的電石進(jìn)行清理，從而提高下料效率。

附圖說明

圖1是實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是實(shí)施例的爆炸示意圖；

圖3是圖2中A處的放大圖。

圖中：1、箱體；11、進(jìn)料口；12、錐形部；121、出料口；13、圓形孔；2、儲(chǔ)物板；21、研磨槽；211、通孔；3、研磨件；31、研磨棒；311、凸出部；312、金剛石層；313、插孔；4、驅(qū)動(dòng)件；41、電機(jī)軸；42、旋轉(zhuǎn)桿；421、水平端；422、豎直端；5、清理?xiàng)U；51、剝離片；52、固定座；6、容納腔。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。

實(shí)施例：

一種電石下料裝置，如圖1所示，包括長(zhǎng)方體形的箱體1，箱體1的頂部位于中部區(qū)域開設(shè)有進(jìn)料口11，箱體1的底部向地面的方向延伸具有錐形部12，錐形部12上開設(shè)有出料口121，電石從進(jìn)料口11處進(jìn)入，錐形部12的側(cè)壁有助于電石從出料口121方向排至乙炔反應(yīng)器內(nèi)。

如圖2和圖3所示，箱體1內(nèi)在靠近進(jìn)料口11的方向上固定有儲(chǔ)物板2，儲(chǔ)物板2與箱體1的頂部之間形成了容納腔6，電石填充在容納腔6內(nèi)，儲(chǔ)物板2具有一定的厚度，儲(chǔ)物板2在偏心的方向上（圖示中部偏左側(cè)）沿儲(chǔ)物板2的上表面向豎直下方凹陷有研磨槽21，研磨槽21的槽底面為平面結(jié)構(gòu)，在該槽底面上開設(shè)有通孔211，通孔211的孔徑在48~52mm之間，優(yōu)選為50mm,箱體1內(nèi)具有能夠在研磨槽21內(nèi)環(huán)繞通孔211的方向上進(jìn)行研磨的研磨件3，研磨件3包括研磨棒31，研磨棒31為圓柱狀，研磨棒31朝向研磨槽21的一端具有凸出部311，也就是說，研磨棒31的橫截面積沿豎直上方至下方是逐漸增大的，凸出部311與電石之間的接觸面積較大，對(duì)電石具有良好的研磨作用；同時(shí)，在凸出部311上燒結(jié)形成有金剛石層312，有效提高了凸出部311的硬度，進(jìn)而提高對(duì)電石的研磨性能。

如圖2和圖3所示，箱體1的頂部開設(shè)有圓形孔13，驅(qū)動(dòng)件4包括電機(jī)，電機(jī)的電機(jī)軸41插進(jìn)圓形孔13內(nèi)，從圓形孔13穿出的電機(jī)軸41連接有旋轉(zhuǎn)桿42，形狀呈L型，包括水平端421與豎直端422，電機(jī)軸41插進(jìn)水平端421上，研磨棒31在遠(yuǎn)離凸出部311的一端開設(shè)有插孔313，豎直端422插進(jìn)插孔313內(nèi)，驅(qū)動(dòng)件4驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)桿42進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，水平端421帶動(dòng)豎直端422沿圓周進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，豎直端422帶動(dòng)研磨棒31在研磨槽21內(nèi)進(jìn)行研磨。

如圖2所示，箱體1的頂部放置有清理?xiàng)U5以及固定清理?xiàng)U的固定座52，清理?xiàng)U5的形狀為圓柱狀，清理?xiàng)U5對(duì)堵塞在通孔211內(nèi)的電石進(jìn)行快速地疏通；在清理?xiàng)U5靠近通孔211的一端的側(cè)壁上具有向側(cè)壁方向延伸的剝離片51，形狀為長(zhǎng)方狀，剝離片51對(duì)卡在通孔211的入口處的較大粒徑的電石掃至研磨槽21附近，有助于快速地對(duì)通孔211附近的電石進(jìn)行清理，從而提高通孔211處的下料速度。

本具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本實(shí)用新型的解釋，其并不是對(duì)本實(shí)用新型的限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀完本說明書后可以根據(jù)需要對(duì)本實(shí)施例做出沒有創(chuàng)造性貢獻(xiàn)的修改，但只要在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍內(nèi)都受到專利法的保護(hù)。