本實用新型涉及碳化硅生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種帶有熱反射屏的坩堝。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的液相法生長碳化硅晶體技術(shù)，都是通過加熱的方式將硅在高純石墨坩堝中融化，形成碳在硅中的溶液，再將頭部貼付有籽晶的石墨軸伸入到溶液中進(jìn)行生長；

為了使上述反應(yīng)有一個穩(wěn)定的溫度條件，可以在坩堝內(nèi)設(shè)置熱反射屏，這樣可以將向外輻射的熱量反射回熔融體系中，降低反應(yīng)的能耗，但是現(xiàn)有技術(shù)中的熱反射屏需要在坩堝內(nèi)設(shè)置對應(yīng)的支架才能實現(xiàn)，但是該支架必須在制備時與坩堝置為一體，這樣就無法實現(xiàn)位置的可調(diào)，這就導(dǎo)致了在不同的晶體生長調(diào)節(jié)下，熱反射屏的位置是固定的，不利于熱量的反射，無法起到更好的節(jié)能和穩(wěn)定反應(yīng)溫度的作用，因此如何解決這一問題成為現(xiàn)有技術(shù)中的難題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種帶有熱反射屏的坩堝，該坩堝包括坩堝體和坩堝蓋，所述坩堝體內(nèi)壁圓周方向上均勻設(shè)置有4個插孔，垂直方向上設(shè)置有3組，且每組間距相同；通過插孔連接有支撐架，所述支撐架包括基座和與基座連接的伸縮桿，所述伸縮桿前端通過石墨托連接有支撐盤，所述支撐盤上設(shè)置有熱反射屏，所述熱反射屏中心設(shè)置通孔；采用這種結(jié)構(gòu)的坩堝，使用時可以根據(jù)不同晶體生長的需要確定熱反射屏在坩堝體內(nèi)的高度，然后將支撐架插入對應(yīng)水平位置的插孔內(nèi)，調(diào)節(jié)伸縮桿位置使反射屏更加穩(wěn)定，之后將熱反射屏放置在上述四個支撐架上即可，改變了現(xiàn)有技術(shù)中熱反射屏位置不可調(diào)，無法適應(yīng)生產(chǎn)需求的弊端，實現(xiàn)了坩堝用途的多樣化。

本實用新型的具體技術(shù)方案是：

一種帶有熱反射屏的坩堝，該坩堝包括坩堝體和坩堝蓋，所述坩堝體內(nèi)壁圓周方向上均勻設(shè)置有4個插孔，垂直方向上設(shè)置有3組，且每組間距相同；通過插孔連接有支撐架，所述支撐架包括基座和與基座連接的伸縮桿，所述伸縮桿前端通過石墨托連接有支撐盤，所述支撐盤上設(shè)置有熱反射屏，所述熱反射屏中心設(shè)置通孔；

所述的基座與插孔的孔徑配合，方便基座可以穩(wěn)固的插入插孔中，確保使用過程中不發(fā)生位移；由于采用了伸縮桿的設(shè)計，使得支撐盤的位置可以隨之調(diào)節(jié)，這樣當(dāng)熱反射屏放置在支撐盤上時，可以調(diào)節(jié)其接觸位置使熱反射屏更加穩(wěn)定；所述的支撐架由石墨材質(zhì)制備而成；

為了避免對坩堝的過度侵蝕，所述的最底層插孔高于坩堝內(nèi)的最高承載液面位置；這樣即使達(dá)到坩堝的最大承載液位，熔融液體也不會進(jìn)入插孔內(nèi)腐蝕插孔，從而減少其使用壽命，進(jìn)而減少坩堝的使用壽命；

采用這種結(jié)構(gòu)的坩堝，使用時可以根據(jù)不同晶體生長的需要確定熱反射屏在坩堝體內(nèi)的高度，然后將支撐架插入對應(yīng)水平位置的插孔內(nèi)，這樣共4個支撐架彼此之間呈90度分布，之后調(diào)節(jié)伸縮桿位置使反射屏放置到上面后會更加穩(wěn)定，之后將熱反射屏放置在上述四個支撐架上即可，然后將上蓋扣好后即可開始晶體的生長；采用這種模式，可以方便的實現(xiàn)熱反射屏在坩堝內(nèi)位置的垂直調(diào)整，較之現(xiàn)有固定式的熱反射屏效果更好，可以適應(yīng)不同晶體生長的需要。

所述熱反射屏中心設(shè)置有通孔，其直徑大于籽晶軸直徑，這樣可以方便籽晶軸的進(jìn)出；

綜上所述，采用這種結(jié)構(gòu)的坩堝，使用時可以根據(jù)不同晶體生長的需要確定熱反射屏在坩堝體內(nèi)的高度，然后將支撐架插入對應(yīng)水平位置的插孔內(nèi)，調(diào)節(jié)伸縮桿位置使反射屏更加穩(wěn)定，之后將熱反射屏放置在上述四個支撐架上即可，改變了現(xiàn)有技術(shù)中熱反射屏位置不可調(diào)，無法適應(yīng)生產(chǎn)需求的弊端，實現(xiàn)了坩堝用途的多樣化。

附圖說明

圖1為本實用新型所述坩堝使用時的結(jié)構(gòu)剖視圖；

圖2為本實用新型所述坩堝的結(jié)構(gòu)剖視圖；

圖3為圖2中A-A剖視圖；

圖4為本實用新型所述支撐架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本實用新型所述熱反射屏的俯視圖；

圖中1為坩堝體，2為插孔，3為基座，4為支撐盤，5為石墨托，6為伸縮桿，7為坩堝蓋，8為支撐架，9為熱反射屏，10為通孔。

具體實施方式

一種帶有熱反射屏的坩堝，該坩堝包括坩堝體1和坩堝蓋7，所述坩堝體1內(nèi)壁圓周方向上均勻設(shè)置有4個插孔2，垂直方向上設(shè)置有3組，且每組間距相同；通過插孔2連接有支撐架8，所述支撐架8包括基座3和與基座3連接的伸縮桿6，所述伸縮桿6前端通過石墨托5連接有支撐盤4，所述支撐盤4上設(shè)置有熱反射屏9，所述熱反射屏9中心設(shè)置通孔10；

為了避免對坩堝的過度侵蝕，所述的最底層插孔高于坩堝內(nèi)的最高承載液面位置；

所述支撐架8采用石墨材料制成。