本實用新型涉及氧化鋯傳感器技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及用于氧化鋯基片生產(chǎn)的流延裝置。
背景技術(shù):
氧化鋯傳感器用于測量汽車燃燒過程中殘余氧量,它在減少環(huán)境污染、提高燃燒效率方面起著積極的作用。氧化鋯傳感器的關(guān)鍵部件是氧化鋯芯片,氧化鋯芯片最新采用多層氧化鋯基片上下疊壓工藝?,F(xiàn)有技術(shù)中,氧化鋯基片采用流延方式進行生產(chǎn),在流延生產(chǎn)的流延階段,目前通常采用單一刀頭的平刮刀來對漿料表面進行刮平來形成坯料,由于漿料的黏度和流變特性的控制比較困難,所以坯片表面在流延階段易生成表面條紋,而且厚度不均勻;另外,當通過多個供料管道對儲料槽進行連續(xù)供料時,漿料在混合時也會導致因為漿料在移動過程中無法保持均勻而趨于短程有序,使坯片表面產(chǎn)生條紋。上述因素都會導致不能滿足氧化鋯基片的高效高質(zhì)生產(chǎn)。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實用新型的目的是提供一種能夠保證坯片表面在流延過程中的平整,并且坯片厚度均勻以滿足氧化鋯基片高效高質(zhì)生產(chǎn)的流延裝置。
本實用新型是通過以下技術(shù)方案來實施的:
一種流延裝置,其特征在于:包括工作平臺和貼著工作平臺水平表面被牽引輸送的膜帶,膜帶的上方設(shè)有儲料槽,儲料槽由料槽側(cè)板和刮刀共同圍出,刮刀位于儲料槽后側(cè),料槽側(cè)板的底面與所述膜帶之間相互緊貼,刮刀的底部與所述膜帶之間留出流延間隙,所述刮刀具有圓弧底,圓弧底上開出前、后刀槽以形成刮刀的雙刀頭結(jié)構(gòu),前刀槽為三角形槽,后刀槽為平底形槽。
采用上述技術(shù)方案后,刮刀具有圓弧底設(shè)計,圓弧底可使?jié){料在進入刮刀底部前被柔性延展,在漿料表面形成平滑延展面,減小漿料經(jīng)過刮刀底部時的摩擦力,使?jié){料在膜帶表面更容易鋪展,再經(jīng)雙刀頭對漿料的兩次刮平,從而確保坯片表面在流延過程中的平整而不會生成表面條紋,并且坯片厚度均勻,以滿足氧化鋯基片高效高質(zhì)生產(chǎn)。
更進一步的,所述儲料槽的上方設(shè)有液位傳感器,所述儲料槽的前側(cè)設(shè)有調(diào)節(jié)料槽,調(diào)節(jié)料槽連接漿料供料管道,漿料供料管道上安裝控制閥門,控制閥門與液位傳感器電連接,所述料槽側(cè)板的前側(cè)板傾斜設(shè)置形成斜面,所述調(diào)節(jié)料槽內(nèi)的溢出漿料通過斜面進入儲料槽。
采用上述技術(shù)方案后,多供料管道送出的漿料首先進入到調(diào)節(jié)料槽內(nèi)進行混合,然后調(diào)節(jié)料槽內(nèi)的漿料以溢出方式并通過斜面緩和進入儲料槽,而且儲料槽上方設(shè)有液位傳感器來控制和保持儲料槽中的漿料在刮刀旁具有恒定的高度,這樣一來,不僅調(diào)節(jié)料槽內(nèi)的漿料混合不會對坯片的流延造成影響,而且漿料高度的恒定能夠使儲料槽內(nèi)的漿料壓力穩(wěn)定,進而使經(jīng)過刮刀底部的漿料具有穩(wěn)定均勻的流動性,因此確保坯片表面的平整,有效解決多供料管道在供給漿料時由于漿料混合而導致的坯片表面產(chǎn)生條紋現(xiàn)象,以滿足氧化鋯基片高效高質(zhì)生產(chǎn)。
附圖說明
本實用新型有以下附圖:
圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
如圖所示,本實用新型的流延裝置,包括工作平臺7和貼著工作平臺水平表面被牽引輸送的膜帶A,膜帶A的上方設(shè)有儲料槽5,儲料槽5由料槽側(cè)板(前側(cè)板51、左右邊板52)和刮刀6共同圍出,刮刀6位于儲料槽5后側(cè),刮刀6的左右側(cè)面與左右邊板52緊密相靠,前側(cè)板51、左右邊板52的底面與所述膜帶A之間相互緊貼,刮刀6的底部與所述膜帶A之間留出流延間隙,所述刮刀6具有圓弧底,圓弧底上開出前、后刀槽以形成刮刀的雙刀頭結(jié)構(gòu),前刀槽62為三角形槽,后刀槽61為平底形槽;所述儲料槽5的上方設(shè)有液位傳感器4,所述儲料槽5的前側(cè)設(shè)有調(diào)節(jié)料槽3,調(diào)節(jié)料槽3連接漿料供料管道1,漿料供料管道1上安裝控制閥門2,控制閥門2與液位傳感器4電連接,所述料槽側(cè)板的前側(cè)板51傾斜設(shè)置形成斜面,所述調(diào)節(jié)料槽3內(nèi)的溢出漿料通過斜面進入儲料槽5。
本實用新型的工作過程是:膜帶A貼著工作平臺7的水平表面被牽引輸送,在膜帶A移動的同時,儲料槽5內(nèi)的漿料經(jīng)圓弧底刮刀6底部的流延間隙在膜帶A上流延鋪展,于是漿料附著在膜帶A的表面形成厚度均勻而且平整的坯片B,然后坯片B隨膜帶A一起移動到干燥室內(nèi)進行下一步的干燥處理,以完成氧化鋯基片的高效高質(zhì)生產(chǎn)。