歸一化Na2O表 面濃度而得到的差的平方[AN-Na2CK頂面-底面）] 2,并對與△翹曲量的相關關系進行了 研宄。
[0398] 將其結果示于表8和圖16。表8中例如"5.9. E-04"是指5. 9ΧΚΓ4。圖16是以 供于化學強化的頂面的歸一化Na2O表面濃度減去底面的歸一化Na 2O表面濃度而得到的差 的平方[AN-Na2CK頂面-底面）]2為橫軸、以△翹曲量為縱軸而繪制的圖。
[0399] 由圖16所示的圖可知，化學強化前的鈉鈣玻璃板的頂面和底面的歸一化Na2O表 面濃度之差的平方（AN-Na 2O)2與Λ翹曲量存在下述式（7-1)所示的相關關系。
[0400] Δ 翹曲量=18000Χ (AN_Na20)2+51 …式（7-1)
[0401] 在式（7-1)中，（AN-Na2O)2是利用熒光X射線分析對供于化學強化的玻璃的頂面 和底面的歸一化Na2O表面濃度進行測定而得到的值之差的平方，由下述式（7-2)求出。
[0402] ( Δ N-Na2O)2=[(化學強化前的頂面的歸一化Na 20表面濃度）-(化學強化前的底 面的歸一化Na2O表面濃度）]2···式（7-2)
[0403] 由表8和圖16所示的結果可知，在式（7-1)中，通過使（AN-Na2O) 2為5. OXKT4 以下，可以使Δ翹曲量為58 ym以下。
[0404] [表 8]
[0405]
[0406] [玻璃組成例]
[0407] 將本發(fā)明的化學強化用浮法玻璃的以質(zhì)量百分率計的組成例Gl~G16以及對它 們進行化學強化時的壓應力CS (單位：MPa)和壓應力深度DOL (單位：μ m)示于表9、表10。
[0408] 表中的Na2CVAl2O3是Na 20與Al2O3的含量之比、RO為MgO、CaO、SrO和BaO的含量 的合計、CaO+SrO+BaO為Ca0、Sr0和BaO的含量的合計、強化溫度（單位：°C )和強化時間 (單位：小時）為上述化學強化的強化溫度和強化時間、KNO3為用于化學強化的熔鹽中的 KNO3的濃度（單位：質(zhì)量％ )、dol為上述dol。需要說明的是，熔鹽中的KNO3的濃度不是 100 %時的其余成分為NaNO3。
[0409] [表 9]


[0413] 一使用特定的方式對本發(fā)明進行了詳細說明，但可以在不脫離本發(fā)明的意圖和范圍 的前提下進行各種變更和變形對于本領域技術人員而言是顯而易見的。另外，本申請基于 在2012年12月27日申請的日本專利申請（日本特愿2012-285511)，其全部內(nèi)容通過引用 援引于此。
[0414] 附圖標記
[0415] 1熔融玻璃
[0416] 5熔融金屬浴
[0417] 10顯示裝置
[0418] 15 殼體
[0419] 20顯示面板
[0420] 30保護玻璃
【主權項】
1. 一種化學強化用浮法玻璃，其具有在成形時與熔融金屬接觸的底面和與該底面相對 的頂面，其中，頂面的歸一化Na 2O表面濃度的平方減去底面的歸一化Na2O表面濃度的平方 而得到的差A (N-Na2O2)為0. 040以下，所述頂面的歸一化Na2O表面濃度是該頂面的Na2O 濃度除以其深度100 U m位置的Na2O濃度而得到的值，所述底面的歸一化Na2O表面濃度是 該底面的Na 2O濃度除以其深度100 y m位置的Na2O濃度而得到的值， 在此，各自的Na2O濃度是通過使用Na-K a射線的熒光X射線分析而測定的值。2. -種化學強化用浮法玻璃，其具有在成形時與熔融金屬接觸的底面和與該底面相對 的頂面，其中，作為該頂面的離子交換量1減去該底面的離子交換量1而得到的值的A離 子交換量1為〇. 32以下， 在此，離子交換量1是由下述式（2-1)求出的值， 離子交換量1 = 5. 51 X (歸一化Na2O表面濃度）-0? 038 X (Sn濃度）…式（2-1) 式（2-1)中，歸一化Na2O表面濃度是表面的Na2O濃度除以其深度100 ym位置的Na2O 濃度而得到的值，在此，Na2O濃度是通過使用Na-Ka射線的熒光X射線分析而得到的測定 值， 另外，Sn濃度為頂面和底面每單位面積的Sn附著量（單位：y g/cm2)，每單位面積的 Sn附著量是當設定Sn以SnOj^形式存在時每Icm 2的按SnO2換算的附著質(zhì)量。3. -種化學強化用浮法玻璃，其具有在成形時與熔融金屬接觸的底面和與該底面相對 的頂面，其中，由下述式（3-1)求出的Wl為56以下， Wl = -16 X ( A H/Si) -6. 47 X (Sn 濃度差）-43. 8 X ( A 離子交換量 1)…式（3-1) 式（3-1)中，AH/Si是頂面的歸一化氫濃度減去底面的歸一化氫濃度而得到的值，歸 一化氫濃度是指深度0~IOum處的平均氫濃度除以深度105~IlOym處的平均氫濃度 而得到的值，深度0~10 ym處的平均氫濃度和深度105~110 ym處的平均氫濃度是在如 下分析條件下測定的值， (分析條件） 測定裝置：具有四極桿型質(zhì)譜分析器的二次離子質(zhì)譜分析裝置 一次離子種類：Cs+ 一次加速電壓：5. OkV 一次離子電流：1 UA 一次離子入射角（與垂直于試樣面的方向的角度）：60° 光柵尺寸：200X200 ym2 檢測區(qū)域：40 X 40 Um2 二次離子極性：負 使用中和用的電子槍 式（3-1)中，Sn濃度差是底面每單位面積的Sn附著量（單位：yg/cm2)減去頂面每單 位面積的Sn附著量（單位：y g/cm2)而得到的差，每單位面積的Sn附著量是當設定Sn以 311〇2的形式存在時每Icm 2的按SnO2換算的附著質(zhì)量， 式（3-1)中，△離子交換量1是頂面的離子交換量1減去該底面的離子交換量1而得 到的值，離子交換量1由下述式求出， 離子交換量1 = 5. 51 X (歸一化Na2O表面濃度）-0? 038 X (Sn濃度） 上述式中，歸一化Na2O表面濃度是表面的Na2O濃度除以其深度100 y m位置的Na2O濃 度而得到的值，在此，Na2O濃度是通過使用Na-K a射線的熒光X射線分析而得到的測定值。4. 一種化學強化用浮法玻璃，其具有在成形時與熔融金屬接觸的底面和與該底面相對 的頂面，其中，由下述式（4-1)求出的W2的絕對值為56以下， W2 = 9. 18 X A [(離子交換量 I) AH/Si) ] +49…式（4-1) 式（4-1)中，A [(離子交換量IV(H/Si)]是如下得到的值：頂面的離子交換量1除以 該頂面的歸一化氫濃度H/Si而得到的值減去底面的離子交換量1除以該底面的歸一化氫 濃度H/Si而得到的值， 在此，離子交換量1由下述式求出， 離子交換量1 = 5. 51 X (歸一化Na2O表面濃度）-0? 038 X (Sn濃度） 上述式中，歸一化Na2O表面濃度是表面的Na2O濃度除以其深度100 y m位置的Na2O濃 度而得到的值，在此，Na2O濃度是通過使用Na-K a射線的熒光X射線分析而得到的測定值， 另外，Sn濃度是頂面和底面每單位面積的Sn附著量（單位：y g/cm2)，每單位面積的Sn附 著量是當設定Sn以SnOJ^形式存在時每Icm2的按SnO 2換算的附著質(zhì)量， 歸一化氫濃度是指深度1~IOum處的平均氫濃度除以深度105~IlOym處的平均 氫濃度而得到的值，深度1~10 ym處的平均氫濃度和深度105~110 ym處的平均氫濃度 是在如下分析條件下測定的值， (分析條件） 測定裝置：具有四極桿型質(zhì)譜分析器的二次離子質(zhì)譜分析裝置 一次離子種類：Cs+ 一次加速電壓：5. OkV 一次離子電流：1 UA 一次離子入射角（與垂直于試樣面的方向的角度）：60° 光柵尺寸：200X200 ym2 檢測區(qū)域：40 X 40 Um2 二次離子極性：負 使用中和用的電子槍。5. -種化學強化用浮法玻璃，其具有在成形時與熔融金屬接觸的底面和與該底面相對 的頂面，其中，由下述式（5-1)求出的W3為58以下， W3 = 744X [(AN-Na20)+0.0 lX (Sn 濃度差）]…式（5-1) 式（5-1)中，A N-Na2O是頂面的歸一化Na2O表面濃度減去底面的歸一化Na2O表面濃度 而得到的值，所述頂面的歸一化Na2O表面濃度是頂面的表面Na2O濃度除以其深度100 ym 位置的Na2O濃度而得到的值，所述底面的歸一化Na2O表面濃度是底面的表面Na 2O濃度除 以其深度1〇〇 U m位置的Na2O濃度而得到的值，在此，各自的Na2O濃度是通過使用Na-K a 射線的熒光X射線分析而得到的測定值， 式（5-1)中，Sn濃度差是底面每單位面積的Sn附著量（單位：yg/cm2)減去頂面每單 位面積的Sn附著量（單位：y g/cm2)而得到的差，每單位面積的Sn附著量是當設定Sn以 311〇2的形式存在時每Icm 2的按SnO2換算的附著質(zhì)量。6. -種化學強化用浮法玻璃，其具有在成形時與熔融金屬接觸的底面和與該底面相對 的頂面，其中， 作為該頂面的離子交換量2減去該底面的離子交換量2而得到的值的△離子交換量 2為0.33以下， 在此，離子交換量2是由下述式（6-1)求出的值， 離子交換量 2 = -0.02 X (H/Si)+5. 54X (N-Na2O 濃度）-0.037 X (Sn 濃度）…式（6-1) 式（6-1)中，H/Si為歸一化氫濃度，歸一化氫濃度是指深度0~10 ym處的平均氫濃 度除以深度105~110 ym處的平均氫濃度而得到的值，深度0~10 ym處的平均氫濃度和 深度105~IlOym處的平均氫濃度是在以下的分析條件下測定的值， (分析條件） 測定裝置：具有四極桿型質(zhì)譜分析器的二次離子質(zhì)譜分析裝置 一次離子種類：Cs+ 一次加速電壓：5. OkV 一次離子電流：1 UA 一次離子入射角（與垂直于試樣面的方向的角度）：60° 光柵尺寸：200X200 ym2 檢測區(qū)域：40 X 40 Um2 二次離子極性：負 使用中和用的電子槍 式（6-1)中，N-Na2O濃度為歸一化Na2O表面濃度，所述歸一化Na 2O表面濃度為表面Na2O 濃度除以深度1〇〇 U m位置的Na2O濃度而得到的值，在此，Na2O濃度是通過使用Na-K a射 線的熒光X射線分析而得到的測定值， Sn濃度是每單位面積的Sn附著量（單位：y g/cm2)，Sn附著量是當設定Sn以SnO^ 形式存在時按SnO2換算的附著質(zhì)量。7. -種化學強化用浮法玻璃，其具有在成形時與熔融金屬接觸的底面和與該底面相對 的頂面，其中， 頂面的歸一化Na2O表面濃度減去底面的歸一化Na2O表面濃度而得到的差A N-Na2O的 平方（A N-Na2O)2為5. 0 X KT4以下，所述頂面的歸一化Na 20表面濃度是該頂面的Na2O濃度 除以其深度100 U m位置的Na2O濃度而得到的值，所述底面的歸一化Na2O表面濃度是該底 面的Na 2O濃度除以其深度100 y m位置的Na2O濃度而得到的值，各自的Na2O濃度是通過使 用Na-K a射線的熒光X射線分析而測定的值。8. 如權利要求1~7中任一項所述的化學強化用浮法玻璃，其用于化學強化溫度為 T (單位：K)、化學強化時間為t (單位：小時）的化學強化，并且含有SiO2，使用Si02、A120 3、 MgO、CaO、Sr0、BaO、ZrO2、Na2O和K 2O各自的以質(zhì)量百分率計的含量由下式求出的do 1為20 以下， dol = -0. 13XA1203-1. 88XMg〇-2. 41XCa〇-l. 85XSr〇-l. 35XBa〇-l. 59XZr02+l. 50 XNa20+2. 42XK20-129359/T+9. 28Xta5+182. 88。9. 如權利要求1~8中任一項所述的化學強化用浮法玻璃，其中， 以質(zhì)量百分率計，含有60~80%的Si02、0~8%的Al20 3、8~22%的Na20、0~7%的 K20、0 ~17%的 Mg0、0 ~22%的 Ca0、0 ~8%的 Sr0、0 ~8%的 Ba0、0 ~5%的 Zr02。10. 如權利要求1~9中任一項所述的化學強化用浮法玻璃，其中，以質(zhì)量百分率計，含 有 60 ~80% 的 Si02、0. 01 ~8% 的 Al203、8 ~22% 的 Na20、0 ~7%的1(20、0 ~5% 的 Zr02， 在含有MgO、CaO、SrO或BaO的情況下，MgO、CaO、SrO和BaO的含量的合計為5~25%，Na 20 和Al2O3的含量之比Na 20/Al203為1. 5以上。11. 如權利要求10所述的化學強化用浮法玻璃，其中，Na2OAl2O3為6以下。12. 如權利要求9、10或11所述的化學強化用浮法玻璃，其中，含有Ca0、Sr0或BaO,且 CaO、SrO和BaO的含量的合計為1~7 %。13. -種化學強化玻璃的制造方法，其為制造壓應力深度為20 y m以下的化學強化玻 璃的方法，其特征在于，對權利要求1~12中任一項所述的化學強化用玻璃進行化學強化。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種化學強化用浮法玻璃，其具有在成形時與熔融金屬接觸的底面和與該底面相對的頂面，其中，頂面的歸一化Na2O表面濃度的平方減去底面的歸一化Na2O表面濃度的平方而得到的差Δ(N-Na2O2)為0.040以下，所述頂面的歸一化Na2O表面濃度是該頂面的Na2O濃度除以其深度100μm位置的Na2O濃度而得到的值，所述底面的歸一化Na2O表面濃度是該底面的Na2O濃度除以其深度100μm位置的Na2O濃度而得到的值。
【IPC分類】C03B18/20, C03B25/08, C03C21/00, C03C3/087
【公開號】CN104884398
【申請?zhí)枴緾N201380068393
【發(fā)明人】鈴木祐一, 中島哲也, 笹井淳
【申請人】旭硝子株式會社
【公開日】2015年9月2日
【申請日】2013年12月27日
【公告號】WO2014104302A1