域常規(guī)技術人員閱讀上述描述后，這些所述實施方式的變體將變得顯而 易見。本發(fā)明人預期熟練的技術人員能適當?shù)夭捎眠@類變體，且本發(fā)明者意欲使得本發(fā)明 以與本文特定描述不同的方式應用。因此，可適用的法律允許，權利要求包括權利要求書中 所述的主體內容的所有修飾和等價物。另外，除非本文另有說明或與上下文明顯矛盾，在其 所有可能變化中，上述要素的任何組合可以被預期。
[0090] 最后，應理解本文公開的實施方式僅用于闡述權利要求的原則。其它可使用的修 飾也在權利要求的范圍內。因此，通過示例而非限制的方式，可根據(jù)本文的教導利用備選的 實施方式。因此，權利要求并不限于如實施方式中精確地所示和所述。
【主權項】
1. 形成經(jīng)氧化物涂覆的基材的方法，所述方法包括： 在基材存在下加熱預涂混合物以合成所述基材上的氧化物涂層； 其中所述預涂混合物包含可溶性還原添加劑、可溶性氧化添加劑和所述基材；且 其中，加熱在如下溫度下進行，所述溫度足夠高至使所述可溶性還原添加劑和所述可 溶性氧化添加劑放熱反應且足夠低至控制所述氧化物的相和組成。2. 權利要求1所述的方法，其中使所述經(jīng)氧化物涂覆的基材的表面產(chǎn)物退火。3. 權利要求1或2所述的方法，其中不使所述經(jīng)氧化物涂覆的基材的表面產(chǎn)物退火。4. 權利要求1、2或3所述的方法，其中所述可溶性還原添加劑包含金屬和/或非金屬 前體。5. 權利要求1、2、3或4所述的方法，其中所述可溶性氧化添加劑包含金屬和/或非金 屬前體。6. 權利要求1、2、3、4或5所述的方法，其中所述可溶性還原添加劑包含含金屬的前體。7. 權利要求6所述的方法，其中所述含金屬的前體包含二乳酸二氫氧化二銨合鈦 (IV)08. 權利要求1、2、3、4、5、6或7所述的方法，其中所述可溶性氧化前體包含高氯酸銨 (NH4ClO4)、硝酸銨、氯酸銨、過氧化銨、過氧化氫和/或有機過氧化物。9. 權利要求1、2、3、4、5、6、7或8所述的方法，其中所述可溶性氧化添加劑是硝酸銨。10. 權利要求1、2、3、4、5、6、7、8或9所述的方法，其中所述基材是多孔的。11. 權利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9或10所述的方法，其中所述基材是基本上無孔的。12. 權利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9、10或11所述的方法，其中所述有孔基材由莫來石、 浮石和/或混凝土組成。13. 權利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11或12所述的方法，其中在向所述預涂混合物 中加入所述基材之前，在約100°C至約200°C下一起預熱所述可溶性氧化添加劑和所述可 溶性還原添加劑持續(xù)約10分鐘至約30分鐘。14. 權利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12或13所述的方法，其中所述基材包含莫來 石陶瓷。15. 權利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13或14所述的方法，其中使所述基材浸 入所述預涂混合物中并在預熱爐中加熱至約350°C持續(xù)約40分鐘。16. 權利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14或15所述的方法，其中大氣和壓力 條件是環(huán)境大氣和環(huán)境壓力條件。17. 權利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15或16所述的方法，其中將所 述經(jīng)涂覆的基材從反應容器中移出，然后將經(jīng)所述經(jīng)涂覆的基材放置在預熱爐中并在約 400 °C下退火約20分鐘。18. 權利要求 1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16或17所述的方法，其中然后 將所述經(jīng)涂覆的基材沿著其最長軸旋轉以暴露第二表面，之后在約400°C下退火約額外的 20分鐘。 19?權利要求 1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17 或 18 所述的方法，其中 將所述預涂混合物與金屬或非金屬前體摻雜。20.權利要求19所述的方法，其中摻雜物包含鈦、鎢、鈰、錫、鋅、鋯、鉍、銅、銦、鐵、銀、 鍶、鋰、鈣、碳、氮、或其組合。21.權利要求19所述的方法，其中附著于所述基材的摻雜金屬氧化物包含TiSn(C，N， 0) 2 〇 22?權利要求 1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、21 或 21 所述的 方法，其中附著于所述基材的金屬氧化物包含Ti(C，N，0)2。23. 權利要求22所述的方法，其中附著于所述基材的摻雜金屬氧化物包含TiM(C，N， 〇)2,其中M是媽、鋪、錫、鋅、錯、祕、銅、銦、鐵、銀、鎖、鋰、媽、碳、或氮、或其組合。24. 權利要求1所述的方法，其中附著于所述基材的摻雜金屬氧化物包含M1MYC,N， 〇)2,其中M1和M2獨立地為媽、鋪、錫、鋅、錯、祕、銅、銦、鐵、銀、鎖、鋰、媽、碳、或氮。 25?權利要求 1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、21、21、22、23 或 24所述的方法，其中所述還原添加劑包含酰肼。26.權利要求25所述的方法，其中所述酰肼包含聯(lián)氨、碳酰肼、二甲酰肼、四甲?；?嗪、六亞甲基四胺、或其組合。 27?權利要求6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、21、21、22、23、24、25或26所 述的方法，其中有機金屬前體是金屬辛酸鹽。28. 形成光催化粉末的方法，所述方法包括： 加熱包含可溶性還原添加劑和可溶性氧化添加劑的混合物以形成氧化物； 其中，加熱在如下溫度下進行，所述溫度足夠高至使所述可溶性還原添加劑和所述可 溶性氧化添加劑放熱反應且足夠低至控制所述氧化物的相和組成。29. 權利要求1所述的方法，其中使所述經(jīng)氧化物涂覆的基材的表面產(chǎn)物退火。30. 權利要求1所述的方法，其中不使所述經(jīng)氧化物涂覆的基材的表面產(chǎn)物退火。31. 權利要求1所述的方法，其中所述可溶性還原添加劑包含金屬和/或非金屬前體。32. 權利要求1所述的方法，其中所述可溶性氧化添加劑包含金屬和/或非金屬前體。33. 權利要求1所述的方法，其中所述可溶性還原添加劑包含含金屬的前體。34. 權利要求33所述的方法，其中所述含金屬的前體包含二乳酸二氫氧化二銨合鈦 (IV)035. 權利要求1所述的方法，其中所述可溶性氧化前體包含高氯酸銨（NH4ClO4)、硝酸 銨、氯酸銨、過氧化銨、過氧化氫和/或有機過氧化物。36. 權利要求1所述的方法，其中所述可溶性氧化添加劑是硝酸銨。37. 權利要求1所述的方法，其中所述基材是多孔的。38. 權利要求1所述的方法，其中所述基材是基本上無孔的。39. 權利要求1所述的方法，其中所述有孔基材由莫來石、浮石和/或混凝土組成。40. 權利要求1所述的方法，其中在向所述預涂混合物中加入所述基材之前，在約 100°C至約200°C下一起預熱所述可溶性氧化添加劑和所述可溶性還原添加劑持續(xù)約10分 鐘至約30分鐘。41. 權利要求1所述的方法，其中所述基材包含莫來石陶瓷。42. 權利要求1所述的方法，其中將所述基材浸入所述預涂混合物中并在預熱爐中加 熱至約350°C持續(xù)約40分鐘。43. 權利要求1所述的方法，其中大氣和壓力條件是環(huán)境大氣和環(huán)境壓力條件。44. 權利要求1所述的方法，其中將所述經(jīng)涂覆的基材從反應容器中移出，然后將經(jīng)所 述經(jīng)涂覆的基材放置在預熱爐中并在約400°C下退火約20分鐘。45. 權利要求1所述的方法，其中然后將所述經(jīng)涂覆的基材沿著其最長軸旋轉以暴露 第二表面，之后在約400°C下退火約額外的20分鐘。46. 權利要求1所述的方法，其中將所述預涂混合物與金屬或非金屬前體摻雜。47. 權利要求46所述的方法，其中摻雜物包含鈦、鎢、鈰、錫、鋅、鋯、鉍、銅、銦、鐵、銀、 鍶、鋰、鈣、碳、氮、或其組合。48. 權利要求47所述的方法，其中附著于所述基材的摻雜金屬氧化物包含TiSn(C，N， 0) 2 〇49. 權利要求1所述的方法，其中附著于所述基材的金屬氧化物包含Ti(C，N，0) 2。50. 權利要求47所述的方法，其中附著于所述基材的摻雜金屬氧化物包含TiM(C，N， 〇)2,其巾M是媽、鋪、錫、鋅、錯、祕、銅、銦、鐵、銀、鎖、鋰、媽、碳、氮、或其組合。51. 權利要求1所述的方法，其中附著于所述基材的摻雜金屬氧化物包含M1MYC,N， 〇)2,其中M1和M2獨立地為媽、鋪、錫、鋅、錯、祕、銅、銦、鐵、銀、鎖、鋰、媽、碳、或氮。52. 權利要求1所述的方法，其中所述還原添加劑包含酰肼。53. 權利要求52的方法，其中所述酰肼包含聯(lián)氨、碳酰肼、二甲酰肼、四甲?；骸⒘?亞甲基四胺、或其組合。54. 權利要求33的方法，其中有機金屬前體是金屬辛酸鹽。
【專利摘要】形成經(jīng)氧化物涂覆的基材的方法，所述方法包括：在基材存在下加熱預涂混合物以合成所述基材上的氧化物涂層。預涂混合物包含可溶性還原添加劑、可溶性氧化添加劑和所述基材。加熱在如下溫度下進行，所述溫度足夠高至使所述可溶性還原添加劑和所述可溶性氧化添加劑放熱反應且足夠低至控制所述氧化物的相和組成。
【IPC分類】B01J35/00, B01J37/03, C01G23/053, C04B41/50, C02F1/72
【公開號】CN105026338
【申請?zhí)枴緾N201480004203
【發(fā)明人】伊坎巴拉姆·山姆班登, 拉杰什·慕克吉, 拓也福村, 望月周
【申請人】日東電工株式會社
【公開日】2015年11月4日
【申請日】2014年1月3日
【公告號】EP2941409A1, US20150343434, WO2014107591A1