3.5厘米。
[0120]在該基管組件的另一實(shí)施例中，延長(zhǎng)管在重疊區(qū)域處的內(nèi)徑比中空基管在重疊區(qū)域處的外徑大了 0.5?5毫米、優(yōu)選為I?2毫米。
[0121]圖1公開(kāi)了根據(jù)本發(fā)明的基管組件I的第一示例。
[0122]在諸如等離子體氣相沉積工藝等的內(nèi)部氣相沉積工藝中要使用基管組件1，其中在中空基管8的內(nèi)部上沉積玻璃層7。在這種工藝期間，經(jīng)由中空基管8供給玻璃形成前體，并且同時(shí)使用施加器來(lái)生成向著在基管8的內(nèi)部所生成的等離子體的電磁輻射。
[0123]圖1公開(kāi)了中空基管8的排出側(cè)、即玻璃形成前體從中空基管8離開(kāi)的一側(cè)。
[0124]根據(jù)本發(fā)明，在中空基管8的排出側(cè)，延長(zhǎng)管3套裝在中空基管8上，其中，中空基管8延伸至延長(zhǎng)管3的內(nèi)部。此外，延長(zhǎng)管在重疊區(qū)域2處的內(nèi)徑5比中空基管8在重疊區(qū)域2處的外徑4大了至少0.5毫米。
[0125]在當(dāng)前情形下，中空基管8延伸至內(nèi)部的長(zhǎng)度2約為3.5厘米。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，中空基管8延伸至延長(zhǎng)管3內(nèi)的長(zhǎng)度應(yīng)在0.5?10厘米的范圍內(nèi)。這樣避免了在連接點(diǎn)、即中空基管8和延長(zhǎng)管3之間的連接處積累機(jī)械應(yīng)力。
[0126]此外，延長(zhǎng)管的內(nèi)徑5至少在重疊區(qū)域2處大于中空基管8的外徑4。這樣提供了延長(zhǎng)管3的內(nèi)部所沉積的玻璃(未示出)與中空基管8的內(nèi)部的所沉積玻璃7沒(méi)有接觸的優(yōu)點(diǎn)。如此，在延長(zhǎng)管3的內(nèi)部所沉積的玻璃中發(fā)生的任何缺陷均不會(huì)傳播至中空基管8中的所沉積玻璃7內(nèi)。
[0127]應(yīng)選擇直徑4、5的差，以使得中空基管8和延長(zhǎng)管3之間的間距6為0.25毫米?2.5毫米、優(yōu)選為0.5?I毫米之間的某個(gè)值。
[0128]圖2公開(kāi)了根據(jù)本發(fā)明的基管組件11的第二示例。
[0129]圖2和3中的具有與圖1相同的附圖標(biāo)記的部分或方面表示相同或相似的部分或方面。
[0130]根據(jù)圖2所示的示例，將插入管16放置、即安裝在延長(zhǎng)管15內(nèi)，其中該插入管是以與中空基管8成直線的方式安裝的。這意味著中空基管8的縱軸與插入管16的縱軸在一條直線上。由于插入管16的內(nèi)部所沉積的玻璃與中空基管8的內(nèi)部中的所沉積玻璃7沒(méi)有接觸，因此根據(jù)本發(fā)明，中空基管8和插入管16之間的距離12是有利的。如此，插入管16中的所沉積玻璃的任何缺陷均不會(huì)橫向移動(dòng)到中空基管8的內(nèi)部中的所沉積玻璃。
[0131]為了防止玻璃形成前體在從中空基管向插入管16過(guò)渡期間發(fā)生任何湍流，插入管16的內(nèi)徑14應(yīng)至少等于中空基管的內(nèi)徑13。在本發(fā)明的所有實(shí)施例而不僅僅是圖2的該實(shí)施例中，這些直徑之間的約5%的小的公差是可接受的。在插入管的內(nèi)徑14小于中空基管8的內(nèi)徑13的情況下，有可能在基管8和插入管15之間的過(guò)渡區(qū)域中發(fā)生湍流，這導(dǎo)致質(zhì)量較差的玻璃7沉積在中空基管8的排出端。
[0132]圖3公開(kāi)了根據(jù)本發(fā)明的基管組件21的第三示例。
[0133]圖3的基管組件21與圖2的基管組件11之間的不同之處在于:中空基管8還延伸至插入管23的內(nèi)部。只要插入管23的內(nèi)徑23大于中空基管的內(nèi)徑13，在基管8和插入管23之間將產(chǎn)生間距22。間距22確保了在插入管中所沉積的玻璃(即，殘余粉塵)和基管8的內(nèi)部上所沉積的玻璃7之間沒(méi)有發(fā)生物理接觸。
[0134]除非另外說(shuō)明，否則以上針對(duì)本發(fā)明的任一方面所論述的實(shí)施例還可適用于本發(fā)明的其它方面。
[0135]本發(fā)明不限于以上所公開(kāi)的實(shí)施例，并且本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不必應(yīng)用發(fā)明性技術(shù)的情況下，在如所附權(quán)利要求書(shū)所公開(kāi)的本發(fā)明的范圍內(nèi)對(duì)本發(fā)明進(jìn)行修改和改進(jìn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于通過(guò)內(nèi)部氣相沉積工藝來(lái)制造光學(xué)預(yù)制件的裝置，所述裝置包括能量源和中空基管，所述中空基管具有供給側(cè)和排出側(cè)，所述能量源能夠沿著所述中空基管的長(zhǎng)度移動(dòng)，所述裝置還包括以大致氣密的方式連接至所述中空基管的所述排出側(cè)的延長(zhǎng)管，其特征在于， 所述中空基管延伸至所述延長(zhǎng)管的內(nèi)部，由此定義所述中空基管和所述延長(zhǎng)管之間的重疊區(qū)域，以及 所述延長(zhǎng)管在所述重疊區(qū)域處的內(nèi)徑比所述中空基管在所述重疊區(qū)域處的外徑大了至少0.5毫米。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述延長(zhǎng)管熔融至所述中空基管。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述中空基管延伸至所述延長(zhǎng)管的內(nèi)部的長(zhǎng)度為0.5厘米?10厘米、優(yōu)選為2厘米?5厘米、甚至更優(yōu)選為2.5厘米?3.5厘米。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述延長(zhǎng)管在所述重疊區(qū)域處的內(nèi)徑比所述中空基管在所述重疊區(qū)域處的外徑大了 0.5毫米?5毫米、優(yōu)選為I毫米?2毫米。5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述延長(zhǎng)管包括中空插入管，其特征在于，所述中空插入管的內(nèi)徑大于或等于所述中空基管的內(nèi)徑。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，所述中空插入管的端面位于所述中空基管的外徑和所述延長(zhǎng)管的內(nèi)徑之間的重疊區(qū)域中。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，所述中空插入管是以與所述中空基管成直線的方式定向和安裝的，以使得所述中空插入管的一端和所述中空基管的延伸至所述延長(zhǎng)管的內(nèi)部的一端之間的距離至少為0.5毫米、優(yōu)選至少為2毫米。8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述延長(zhǎng)管在所述延長(zhǎng)管的一個(gè)端面處連接至所述中空基管的外表面。9.一種用于通過(guò)內(nèi)部氣相沉積工藝來(lái)制造初級(jí)預(yù)制件所用的前體的方法，其中:向中空基管的供給側(cè)供給玻璃形成前體，所述中空基管還具有排出側(cè)；使能量源沿著所述中空基管的長(zhǎng)度移動(dòng)，以在所述中空基管中產(chǎn)生沉積條件；以及在所述中空基管的內(nèi)表面上沉積多個(gè)玻璃層以形成初級(jí)預(yù)制件所用的所述前體，其特征在于， 將延長(zhǎng)管套裝在所述中空基管的所述排出側(cè)并以大致氣密的方式連接至所述中空基管的所述排出側(cè)，以使得所述中空基管延伸至所述延長(zhǎng)管的內(nèi)部，由此定義所述中空基管和所述延長(zhǎng)管之間的重疊區(qū)域，以及 所述延長(zhǎng)管在所述重疊區(qū)域處的內(nèi)徑比所述中空基管在所述重疊區(qū)域處的外徑大了至少0.5毫米。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，使所述延長(zhǎng)管熔融至所述中空基管。11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的方法，其特征在于，所述中空基管延伸至所述延長(zhǎng)管的內(nèi)部的長(zhǎng)度為0.5厘米?10厘米、優(yōu)選為2厘米?5厘米、甚至更優(yōu)選為2.5厘米?3.5厘米。12.根據(jù)權(quán)利要求9至11中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述延長(zhǎng)管在所述重疊區(qū)域處的內(nèi)徑比所述中空基管在所述重疊區(qū)域處的外徑大了 0.5毫米?5毫米、優(yōu)選為I毫米?2毫米。13.根據(jù)權(quán)利要求9至12中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述延長(zhǎng)管包括中空插入管，其特征在于，所述中空插入管的內(nèi)徑大于或等于所述中空基管的內(nèi)徑。14.一種基管組件，其在內(nèi)部氣相沉積工藝中使用，所述基管組件包括具有供給側(cè)和排出側(cè)的中空基管，其中，所述基管組件還包括延長(zhǎng)管，所述延長(zhǎng)管套裝在所述中空基管的所述排出側(cè)并以大致氣密的方式連接至所述中空基管的所述排出側(cè)，其特征在于， 所述中空基管延伸至所述延長(zhǎng)管的內(nèi)部，由此定義所述中空基管和所述延長(zhǎng)管之間的重疊區(qū)域，以及 所述延長(zhǎng)管在所述重疊區(qū)域處的內(nèi)徑比所述中空基管在所述重疊區(qū)域處的外徑大了至少0.5毫米。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的基管組件，其特征在于，所述中空基管延伸至所述延長(zhǎng)管的內(nèi)部的長(zhǎng)度為0.5厘米?10厘米、優(yōu)選為2厘米?5厘米、甚至更優(yōu)選為2.5厘米?3.5厘米。16.根據(jù)權(quán)利要求14或15所述的基管組件，其特征在于，所述延長(zhǎng)管在所述重疊區(qū)域處的內(nèi)徑比所述中空基管在所述重疊區(qū)域處的外徑大了 0.5毫米?5毫米、優(yōu)選為I毫米?2毫米。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及通過(guò)內(nèi)部氣相沉積工藝制造光學(xué)預(yù)制件的方法和裝置及基管組件。用于通過(guò)內(nèi)部氣相沉積工藝來(lái)制造光學(xué)預(yù)制件的該裝置包括能量源和中空基管，該中空基管具有供給側(cè)和排出側(cè)，該能量源能夠沿著中空基管的長(zhǎng)度移動(dòng)，該裝置還包括連接至中空基管的排出側(cè)的延長(zhǎng)管，中空基管延伸至延長(zhǎng)管的內(nèi)部，以及延長(zhǎng)管的內(nèi)徑比中空基管的外徑大了至少0.5毫米。
【IPC分類(lèi)】C03B8/04
【公開(kāi)號(hào)】CN105084714
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510268260
【發(fā)明人】I·米莉瑟維克, J·A·哈特蘇克, M·J·N·范·斯特勞倫, G·克拉比希斯, E·A·庫(kù)伊佩斯
【申請(qǐng)人】德拉克通信科技公司
【公開(kāi)日】2015年11月25日
【申請(qǐng)日】2015年5月22日
【公告號(hào)】EP2947056A1, US20150336838