一種噴墨高清瓷磚生產(chǎn)工藝的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及建筑陶瓷技術(shù)領(lǐng)域,特別是設(shè)及一種噴墨高清瓷磚生產(chǎn)工藝。
【背景技術(shù)】
[0002] 隨著生活水平的提高和生活方式的變化,消費(fèi)者對(duì)建筑裝飾材料的審美要求越來 越高,運(yùn)種需求有力地促進(jìn)了建筑裝飾材料行業(yè)的發(fā)展。近幾年,隨著噴墨打印技術(shù)的引 進(jìn),市場(chǎng)上又興起了噴墨滲花磚的潮流。其主要特點(diǎn)是在巧體上淋一層底釉層或采用二次 布料制巧,烘干后噴滲透墨水。由于墨水具有一定的滲透功能,其圖案滲透到底釉層或巧 中,因此燒成后可直接拋光。
[0003] 但是,在巧體上淋底釉層時(shí),不可避免地容易造成釉層相對(duì)含有較多的水分,而水 分的多少對(duì)噴墨的圖案清晰度造成了很大的影響,具體而言,噴墨墨水是一種油性液體,它 當(dāng)中的顏料是W超細(xì)粒子形式分散在墨水中的,當(dāng)墨量較大時(shí),由于表面張力的作用,它仍 然會(huì)在釉層的水膜上產(chǎn)生遷移,從而影響了噴墨墨滴的飽和度W及清晰度。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004] 針對(duì)上述問題,本發(fā)明的目的在于提供一種噴墨高清瓷磚生產(chǎn)工藝,W制得具有 高清晰度圖案的瓷磚。
[0005] 在此,本發(fā)明提供一種噴墨高清瓷磚生產(chǎn)工藝,包括如下步驟: (1) 在瓷磚素巧上淋釉形成釉層、W及 (2) 在所述釉層上噴墨打印圖案; 其中,所述釉層由下而上包括底釉層和面釉層; 所述底釉層的配方為:按重量計(jì),烙塊A : 10~30 %,烙塊B : 30~70% (優(yōu)選為30~ 60% ),高嶺± :2~10%,燒滑石:3~8%,鐘長(zhǎng)石:3~10%,白炭黑:2~10% (優(yōu)選為 大于2%且小于10% );優(yōu)選地,上述底釉層中的各組分的含量之和為100% ; 所述面釉的配方為:按重量計(jì),烙塊C :6~30%,烙塊D :10~30%,烙塊E :20~70% (優(yōu)選為30~70%),高嶺~10%,白炭黑:2~10% (優(yōu)選為大于2%且小于10%); 優(yōu)選地,上述面釉層中的各組分的含量之和為100% ; 烙塊A為不透水烙塊,優(yōu)選地,其膨脹系數(shù)為7. 7 X 10 V°C,烙塊B為不透水烙塊,優(yōu)選 地,其膨脹系數(shù)為6. 2 X 10 V°C,烙塊C為透明烙塊,優(yōu)選地,其膨脹系數(shù)為6. 5 X 10 V°C,烙 塊D為錯(cuò)白烙塊,優(yōu)選地,其膨脹系數(shù)為6. 3 X 10 V°C,烙塊E為錯(cuò)白烙塊,優(yōu)選地,其膨脹 系數(shù)為6. 5X10 VT。
[0006] 本發(fā)明中,為了更好地保持打印介質(zhì)(瓷磚表面)的平整,采用淋釉工藝來實(shí)現(xiàn), 但與此同時(shí)則不可避免地容易造成釉層相對(duì)含有較多的水分,而水分的多少對(duì)噴墨的圖案 清晰度造成了很大的影響(噴墨墨水是一種油性液體,它當(dāng)中的顏料是W超細(xì)粒子形式分 散在墨水中的,當(dāng)墨量較大時(shí),由于表面張力的作用,它仍然會(huì)在釉層的水膜上產(chǎn)生遷移, 從而影響了噴墨墨滴的飽和度W及清晰度)。對(duì)此,本發(fā)明通過調(diào)整釉料配方,在釉里添加 原料-納米級(jí)二氧化娃(白炭黑)。由于白炭黑比表面積大,吸附性能強(qiáng),而且具有極好的 分散作用,它能使釉中的水分迅速地通過釉層被打開的毛細(xì)孔下滲到素巧,從而減少了釉 層表面有過多的水分停留。
[0007] 較佳地,所述白炭黑的粒徑為7~40皿。
[0008] 較佳地,用于形成底釉層的底釉層漿料的固含量為65~80%,用于形成面釉層的 面釉層漿料的固含量為65~80%。
[0009] 較佳地,在步驟(1)和步驟(2)之間還包括通過加裝干燥害,使得釉層的含水率降 到較低范圍的烘干步驟。較佳地,在所述烘干步驟中,烘干溫度為150~300°C,烘干時(shí)間為 2~20分鐘,優(yōu)選為10~15分鐘。
[0010] 較佳地,步驟(2)中,所述釉層的含水率小于5%。
[001 ^ 較佳地,所述底釉層的厚度為0. 1~0. 16mm,所述面釉層的厚度為0. 25~ 0. 3 2rnm O
[0012] 較佳地,步驟(2)中,待打印的圖案是通過對(duì)具有特殊紋理的圖案進(jìn)行高精度掃 描,之后經(jīng)過藝術(shù)加工處理,轉(zhuǎn)化為高清晰度的電腦打印文件而形成。
[0013]較佳地,在步驟(2)后,還包括燒成步驟,其中燒成溫度為1120~1135°C,燒成時(shí) 間38~45分鐘。
[0014] 根據(jù)本發(fā)明,噴墨的圖案基本能真實(shí)地還原電腦高分辨率打印文件的清晰度,從 而為家居設(shè)計(jì)W及實(shí)際應(yīng)用提供了更好的瓷磚產(chǎn)品。
【附圖說明】
[0015] 圖1示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示例的放大200倍的局部墨點(diǎn)圖; 圖2示出對(duì)比例的放大200倍的局部墨點(diǎn)圖; 圖3示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示例制得的噴墨高清瓷磚的照片; 圖4示出對(duì)比例制得的噴墨高清瓷磚的照片; 圖5示出實(shí)施例2制得的噴墨高清瓷磚的照片。
【具體實(shí)施方式】
[0016] W下結(jié)合附圖和下述實(shí)施方式進(jìn)一步說明本發(fā)明,應(yīng)理解,附圖及下述實(shí)施方式 僅用于說明本發(fā)明,而非限制本發(fā)明。
[0017] 本發(fā)明提供一種噴墨高清瓷磚的制備技術(shù)。首先通過對(duì)圖案進(jìn)行高精度的掃描制 作,并對(duì)紋理進(jìn)行精屯、的提煉和處理,轉(zhuǎn)化為高清晰度的電腦打印文件,然后通過調(diào)整釉料 配方W及改進(jìn)工藝路線,能在瓷磚表面最大限度地還原圖案的清晰度W及立體感。W下,作 為示例,說明本發(fā)明的具體生產(chǎn)工藝。本發(fā)明中,如無特別說明,所述及的配方中各成分的 含量均為重量百分含量。
[001引 1、噴墨圖案設(shè)計(jì)的研究 將具有特殊紋理的圖案(例如浮雕石紋理、3D幾何紋理)進(jìn)行高精度掃描,之后經(jīng)過藝 術(shù)加工處理和提煉,使圖案設(shè)計(jì)層次鮮明自然,具有一定的立體感。
[0019] 2、釉料配方的調(diào)整 為了更好地保持打印介質(zhì)(瓷磚表面)的平整,本發(fā)明采用淋釉工藝來實(shí)現(xiàn),但與此同 時(shí)則不可避免地容易造成釉層相對(duì)含有較多的水分,而水分的多少對(duì)噴墨的圖案清晰度造 成了很大的影響(噴墨墨水是一種油性乳濁液體,它當(dāng)中的顏料是W超細(xì)粒子形式分散在 墨水中的,當(dāng)墨量較大時(shí),由于表面張力的作用,它仍然會(huì)在釉層的水膜上產(chǎn)生遷移,從而 影響了噴墨墨滴的飽和度W及清晰度)。本發(fā)明通過調(diào)整釉料配方,在釉里添加原料-納米 級(jí)二氧化娃(白炭黑)。由于白炭黑比表面積大,吸附性能強(qiáng),而且具有極好的分散作用,它 能使釉中的水分迅速地通過釉層被打開的毛細(xì)孔下滲到素巧,從而減少了釉層表面有過多 的水分停留。通過加入納米級(jí)"白炭黑",使得釉層的毛細(xì)孔被打開,從而有利于墨滴的向下 滲透,減少了橫向遷移,保證了噴打圖案的清晰度W及飽和度。本發(fā)明中,釉層由下而上可 包括底釉層和面釉層。底釉層和面釉層的配方分別調(diào)整如下。
[0021] 在一個(gè)更優(yōu)選的示例中,調(diào)整底釉配方如下: 調(diào)整前: 烙塊A 烙塊B 高嶺± 燒滑石 鐘長(zhǎng)石 石英 到 雜 5 6 6 4 調(diào)整后: 煉塊A 鱗姨爲(wèi) 爵略出 燒滑石 鐘長(zhǎng)石 白炭黑 20 51 5 掙 看 6 .
[0022] 本發(fā)明將一般底釉配方中二氧化娃粒徑較大的石英替換為納米級(jí)二氧化娃(白 炭黑),從而可W減少釉層表面有過多的水分停留。
[0023] 2)調(diào)整面釉配方如下: 調(diào)整前:
[0024] 在一個(gè)更優(yōu)選的示例中,調(diào)整面釉配方如下: 調(diào)整前: 烙塊C 烙塊D 賠塊E 寫峰主 7 27 傲 斗 調(diào)整后: 賠塊C 館塊D 烙塊E 商嶺± 白炭黑 后 刻 如 斗 6,
[0025] 本發(fā)明在一般面釉配方中加入納米級(jí)二氧化娃(白炭黑),從而可W減少釉層表 面有過多的水分停留。而且,本發(fā)明中設(shè)置底釉層和面釉層,底釉層是不透水層,有效地避 免了由于瓷磚巧體吸水而導(dǎo)致的透底,面釉層是錯(cuò)白釉層,提升了釉面的質(zhì)感W及白度。
[0026]上述白炭黑是納米級(jí)二氧化娃,可購自商用。其粒徑范圍可為7~40皿,比表面積 可為210~300m7g W上,堆積孔孔徑為80~100皿。所述白炭黑可包括沉淀二氧化娃、氣 相二氧化娃和/或超細(xì)二氧化娃凝膠,但不限于此,包括所有應(yīng)用不同生產(chǎn)原理和工藝而 制得的超細(xì)二氧化娃(納米級(jí)二氧化娃)。
[0027]3、淋釉工藝 根據(jù)上述調(diào)整后的釉料配方,在瓷磚素巧上依次淋底釉和面釉。其中所述瓷磚素巧可 W是按常規(guī)方法制備的瓷質(zhì)磚生巧。
[0028] 底釉所用的漿料的溶劑可為水,漿料的固含量可為65~80%。在一個(gè)示例中,底 釉所用的漿料通過如下方法制備:1)按配方進(jìn)行稱量和配料,2)將配好的原料送入球磨機(jī) 進(jìn)行球磨,球磨介質(zhì)為水,球磨時(shí)間為10~12小時(shí),即可得到底釉所用的漿料。形成的底 釉層的厚度可為0. 1~0. 16mm。
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