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      一種角度變換炫彩玻璃及其制備方法_2

      文檔序號:9701485閱讀:來源:國知局
      SiNx,最優(yōu)選TiOx、SiNx。膜層厚度 20nm-100nm,優(yōu)選 30nm-80nm,最優(yōu)選 40nm-60nm。
      [0032] 在第三介質(zhì)層上鍍制第四介質(zhì)層,該介質(zhì)層折射率在1.38-1.8之間,材料是SiOx、 31他0丫、]\^?2等一種或幾種材料組合,優(yōu)選3;[01、3丨他07,最優(yōu)選3;[01。膜層厚度在3011111-120nm,優(yōu)選 40nm_l00nm,最優(yōu)選 60nm-80nm。
      [0033] 在第四介質(zhì)層上鍍制第五介質(zhì)層,該介質(zhì)層折射率在2.0-2.7之間,材料可以是如 TiOx、SiNx、NbOx、ZrOx、TiNx、ZnSnOx、ΤΝ0等中的一種或幾種材料組合,優(yōu)選TiOx、ZrOx、 SiNx,最優(yōu)選TiOx、SiNx。膜層厚度 20nm-80nm,優(yōu)選 30nm-70nm,最優(yōu)選 40nm-60nm。
      [0034]本例中一種優(yōu)選的實施方式如圖2所示,其顏色及色調(diào)隨觀察角度的變化如下表2 所示,主要有藍(lán)色、黃色、茶色、綠色四種色調(diào),具有漸變炫彩的效果。
      [0035]表2
      [0036]
      [0037] 實施例3
      [0038]將玻璃原片在清洗拋光后,采用測控濺射鍍膜設(shè)備依次在玻璃原片上鍍制介質(zhì) 層。
      [0039]首先玻璃基片上鍍制第一介質(zhì)層,該介質(zhì)層折射率在2.0-2.7之間,材料可以是如 !';[01、31^、仙01、21'01、1'1^、21131101、1購等中的一種或幾種材料組合,優(yōu)選1';!_01、21'01、 31^,最優(yōu)選1';[01、31^。膜層厚度在7511111-15011111之間,優(yōu)選8011111-13011111之間,最優(yōu)選8511111-100nm之間。
      [0040]在第一介質(zhì)層上鍍制第二介質(zhì)層,該介質(zhì)層折射率在1.38-1.8之間,材料是SiOx、 SiNxOy、MgF2等一種或幾種材料組合,優(yōu)選Si0x、SiNx0y,最優(yōu)選SiOxJ莫層厚度在70nm-150nm,優(yōu)選 80nm_l40nm,最優(yōu)選 90nm_l20nm。
      [0041]在第二介質(zhì)層上鍍制第三介質(zhì)層,該介質(zhì)層折射率在2.0-2.7之間,材料可以是如 !';[01、31^、仙01、21'01、1'1^、21131101、1購等中的一種或幾種材料組合,優(yōu)選1';!_01、21'01、 SiNx,最優(yōu)選!';[01、31啦。膜層厚度 20nm-100nm,優(yōu)選 30nm-90nm,最優(yōu)選 40nm-80nm。
      [0042] 在第三介質(zhì)層上鍍制第四介質(zhì)層,該介質(zhì)層折射率在1.38-1.8之間,材料是SiOx、 SiNxOy、MgF2等一種或幾種材料組合,優(yōu)選Si0x、SiNx0y,最優(yōu)選SiOxJ莫層厚度在70nm-180nm,優(yōu)選 80nm_l60nm,最優(yōu)選 90nm_l20nm。
      [0043]在第四介質(zhì)層上鍍制第五介質(zhì)層,該介質(zhì)層折射率在2.0-2.7之間,材料可以是如 !';[01、31^、仙01、21'01、1'1^、21131101、1購等中的一種或幾種材料組合,優(yōu)選1';!_01、21'01、 31啦,最優(yōu)選1';[(^、31啦 (3膜層厚度4011111-12011111,優(yōu)選5011111-10011111,最優(yōu)選6011111-8011111。
      [0044] 本例中一種優(yōu)選的實施方式如圖3所示,其顏色及色調(diào)隨觀察角度的變化如下表3 所示,主要有橙色、金黃、藍(lán)色、青綠四種色調(diào),具有漸變炫彩的效果。
      [0045]表3

      [0048]以上所述僅為本發(fā)明創(chuàng)造的較佳實施例而已,并不用以限制本發(fā)明創(chuàng)造,凡在本 發(fā)明創(chuàng)造的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明創(chuàng)造 的保護(hù)范圍之內(nèi)。
      【主權(quán)項】
      1. 一種角度變換炫彩玻璃,在玻璃基底上交替沉積有折射率分別在2.0-2.7之間以及 1.38- 1.8之間的介質(zhì)層,其中,第一層介質(zhì)層與最后一層介質(zhì)層的折射率均為2.0-2.7之 間。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種角度變換炫彩玻璃,其特征在于,所述介質(zhì)層的層數(shù)優(yōu)選 為3層或5層。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種角度變換炫彩玻璃,其特征在于,所述折射率在2.0-2.7 之間的介質(zhì)層材料可以是1';1(^、3丨啦、他(^、21'(^、11啦、211311(^、1腸中的一種或多種,優(yōu)選4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種角度變換炫彩玻璃,其特征在于,所述折射率在1.38-1.8 之間的介質(zhì)層材料可以是3;1(^、31他〇7、]\^?2中的一種或多種,優(yōu)選3;[(^、31他〇7,最優(yōu)選 SiOx〇5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種角度變換炫彩玻璃,其特征在于,自玻璃基底向上,第一 介質(zhì)層的厚度在30_150nm之間,第二介質(zhì)層的厚度在60-200nm之間,第三介質(zhì)層的厚度在 20-150nm之間,第四介質(zhì)層的厚度在30-180nm之間,第五介質(zhì)層的厚度在20-120nm之間。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種角度變換炫彩玻璃,其特征在于,自玻璃基底向上依次為 第一介質(zhì)層、第二介質(zhì)層和第三介質(zhì)層;所述第一介質(zhì)層折射率在2.0-2.7之間,膜層厚度 在30nm-80nm之間,優(yōu)選40nm-70nm之間,最優(yōu)選45_65nm之間;所述第二介質(zhì)層折射率在 1.38- 1.8之間,膜層厚度在80nm-200nm,優(yōu)選90nm-180nm,最優(yōu)選100nm-150nm;所述第三介 質(zhì)層折射率在2 · 0-2 · 7之間,膜層厚度40nm-150nm,優(yōu)選50nm-130nm,最優(yōu)選60nm-120nm〇7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種角度變換炫彩玻璃,其特征在于,自玻璃基底向上依次為 第一介質(zhì)層、第二介質(zhì)層、第三介質(zhì)層、第四介質(zhì)層和第五介質(zhì)層;所述第一介質(zhì)層折射率 在2.〇-2.7之間,膜層厚度在3〇11111-7〇111]1之間,優(yōu)選4〇11111-65111]1之間,最優(yōu)選45-6〇111]1之間;所 述第二介質(zhì)層折射率在1.38-1.8之間,膜層厚度在60nm-140nm,優(yōu)選80nm-120nm,最優(yōu)選 90nm-110nm;所述第三介質(zhì)層折射率在2.0-2 · 7之間,膜層厚度20nm-100nm,優(yōu)選30nm-80nm,最優(yōu)選40nm-60nm;所述第四介質(zhì)層折射率在1.38-1.8之間,膜層厚度在30nm-120nm, 優(yōu)選40nm-100nm,最優(yōu)選60nm-80nm;所述第五介質(zhì)層折射率在2 · 0-2 · 7之間,膜層厚度 20nm-80nm,優(yōu)選 30nm-70nm,最優(yōu)選 40nm-60nm。8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種角度變換炫彩玻璃,其特征在于,自玻璃基底向上依次為 第一介質(zhì)層、第二介質(zhì)層、第三介質(zhì)層、第四介質(zhì)層和第五介質(zhì)層;所述第一介質(zhì)層折射率 在2.0-2 · 7之間,膜層厚度在75nm-150nm之間,優(yōu)選80nm-130nm之間,最優(yōu)選85nm-100nm之 間;所述第二介質(zhì)層折射率在1.38-1.8之間,膜層厚度在70nm-150nm,優(yōu)選80nm-140nm,最 優(yōu)選90腹-12〇]1111;所述第三介質(zhì)層折射率在2.〇-2.7之間,膜層厚度2〇11111-10〇11111,優(yōu)選3〇11111-90nm,最優(yōu)選40nm-80nm;所述第四介質(zhì)層折射率在1.38-1.8之間,膜層厚度在70nm-180nm, 優(yōu)選80nm-160nm,最優(yōu)選90nm-l20nm;所述第五介質(zhì)層折射率在2 · 0-2 · 7之間,膜層厚度 40nm_l20nm,優(yōu)選 50nm_lOOnm,最優(yōu)選 60nm-80nm。9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種角度變換炫彩玻璃的制備方法,其特征在于,包括采用磁 控濺射鍍膜技術(shù)在玻璃基底上交替鍍制折射率分別在2.0-2.7之間以及1.38-1.8之間的介 質(zhì)層的步驟,所述磁控濺射鍍膜過程真空度要求在3X1(Γ3-8XKT3mbar之間。
      【專利摘要】本發(fā)明創(chuàng)造提供一種角度變換炫彩玻璃,通過交替在玻璃基底上沉積折射率分別在2.0-2.7之間以及1.38-1.8之間的介質(zhì)層獲得,其中,第一層介質(zhì)層與最后一層介質(zhì)層的折射率均為2.0-2.7之間。本發(fā)明創(chuàng)造能夠通過各膜層對光的干涉、反射、折射等物理作用,使玻璃在不同角度觀察時,呈現(xiàn)不同的顏色及色調(diào),從而達(dá)到隨著觀察角度變化玻璃顏色逐漸發(fā)生變化的炫彩特性。
      【IPC分類】C03C17/34
      【公開號】CN105461236
      【申請?zhí)枴緾N201510931292
      【發(fā)明人】劉雙, 胡冰, 宋宇, 童帥, 李龍
      【申請人】天津南玻節(jié)能玻璃有限公司
      【公開日】2016年4月6日
      【申請日】2015年12月11日
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