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      泰地唑胺合成中間體的晶型的制作方法

      文檔序號:11061410閱讀:460來源:國知局
      泰地唑胺合成中間體的晶型的制造方法與工藝
      本發(fā)明屬于藥物化學(xué)領(lǐng)域,涉及合成泰地唑胺的中間體,具體涉及合成泰地唑胺的中間體的晶型。
      背景技術(shù)
      :泰地唑胺(Tedizolid)是一種新型噁唑烷酮類抗菌素,其磷酸鹽(tedizolidphosphate)已經(jīng)獲得FDA批準(zhǔn)用于治療金黃色葡萄球菌(包括耐甲氧西林菌株,甲氧西林敏感菌株)和各種鏈球菌屬和糞腸球菌等革蘭氏陽性細(xì)菌引起的急性細(xì)菌性皮膚和皮膚結(jié)構(gòu)感染(ABSSSI)?;瘜W(xué)名為(R)-3-(4-(2-(2-甲基四唑-5-基)吡啶-5-基)-3-氟苯基)-5-羥甲基噁唑烷-2-酮。CN104496979公開了一種泰地唑胺的制備方法,其中所用的中間體就包括下列化合物416b:416b藥物多晶型是藥物研發(fā)中的常見現(xiàn)象,是影響藥品質(zhì)量的重要因素。同一藥物分子的不同晶型在外觀、溶解度、熔點(diǎn)、溶出度、生物有效性等性質(zhì)方面可能會有顯著差異,從而直接影響藥物的穩(wěn)定性、生物利用度及療效。因此,在藥品研發(fā)中,應(yīng)全面考慮藥品的多晶型問題,全面系統(tǒng)地進(jìn)行晶型篩選,對晶型進(jìn)行深入研究,從而找到最合適開發(fā)的晶型。因此,需要對416b的晶型進(jìn)行研究,以開發(fā)出最穩(wěn)定的晶型,從而有利于泰地唑胺的工業(yè)化生產(chǎn)。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明提供一種416b的新晶型,該晶型穩(wěn)定性較好,有利于泰地唑胺的工業(yè)化生產(chǎn)。本發(fā)明另一方面,提供了該晶型的制備方法。本發(fā)明第三方法,提供了該晶型在制備泰地唑胺方面的應(yīng)用。416b其X-射線粉末衍射圖中在2θ±0.2具有如下特征吸收峰:9.54、14.28、19.12、19.48、20.86。進(jìn)一步說,其X-射線粉末衍射圖中在2θ±0.2具有如下特征吸收峰:9.54、14.28、19.12、19.48、20.86、28.77。其X-射線粉末衍射圖具有以下特征:表1:X-射線粉末衍射序號峰位置(°)晶面間距D(?)峰強(qiáng)度(%)19.549.2688690.30214.286.2024042.11319.124.6411855.38419.484.5560734.92520.864.25840100.00628.773.1030326.51其X-射線粉末衍射圖如圖1所示。其差示掃描量熱法測定該晶型,起始吸熱溫度約為177.9℃,吸熱峰峰值約在179.4℃,如圖2所示。值得注意的是,對于以上所述晶型的X-射線粉末衍射峰,在一臺機(jī)器和另一臺機(jī)器之間以及一個樣品和另一個樣品之間,X-射線粉末衍射圖譜的2θ可能會略有變化,其數(shù)值可能相差大約1個單位,或者相差大約0.8個單位,或者相差大約0.5個單位,或者相差大約0.3個單位,或者相差大約0.2個單位,或者相差大約0.1個單位,因此所給出的數(shù)值不能視為絕對的,均在本發(fā)明保護(hù)范圍內(nèi)。對于以上所述晶型的DSC的值,在一臺機(jī)器和另一臺機(jī)器之間以及一個樣品和另一個樣品之間,熔點(diǎn)可能會略有變化,其數(shù)值可能相差大約小于等于5℃,或者相差大約小于等于4℃,或者相差大約小于等于3℃,或者相差大約小于等于2℃,因此所給出的數(shù)值不能視為絕對的,均在本發(fā)明保護(hù)范圍內(nèi)。本發(fā)明還提供了該晶型的制備方法:將416b粗品加入二氯甲烷,升溫至回流,并保持至固體全溶,然后緩慢降溫至30℃左右,緩慢滴加正庚烷使固體大量析出,然后于1-2h內(nèi)降溫至5~10℃,保持析晶1-2h后過濾,將濾餅于40~45℃減壓烘干得到白色固體。還可利用本發(fā)明所提供的該晶型的416b,按照CN104496979的方法制備泰地唑胺:相關(guān)術(shù)語定義:術(shù)語“晶型”是指因分子內(nèi)或分子間鍵合方式不同,致使分子在晶格空間排列不同,形成不同的晶體結(jié)構(gòu)。本發(fā)明獲得的晶型是基本上純凈的,術(shù)語“基本上純凈的”是指一種晶型基本上不含有一種或多種其他晶型,其晶型純度至少60%,或至少70%,或至少80%,或至少85%,或至少90%,或至少93%,或至少95%,或至少98%,或至少99%,除此主要晶型,還可以混合少量的其他晶型,其他晶型的重量百分比少于20%,或少于10%,或少于5%,或少于3%,或少于1%,或少于0.5%,或少于0.1%,或少于0.01%。在本發(fā)明的上下文中,X-射線粉末衍射圖中的2θ值均以度(°)為單位。本發(fā)明所述的416b可以按照已公開的專利或者文獻(xiàn)中報道的方法進(jìn)行制備,如按照CN104496979實(shí)施例1公開的方法進(jìn)行制備。本發(fā)明晶型在高溫條件下,晶型沒有變化,有關(guān)物質(zhì)也沒有明顯增加,在長期試驗(yàn)中,晶型也沒有變化,有關(guān)物質(zhì)也沒有明顯增加。說明本發(fā)明晶型較為穩(wěn)定,有利于泰地唑胺的工業(yè)化生產(chǎn)。附圖說明圖1:416b的X-射線粉末衍射圖;圖2:416b的差示掃描量熱(DSC)圖。具體實(shí)施例為了使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好的理解本發(fā)明的技術(shù)方案,下面進(jìn)一步披露一些非限制性的實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。本發(fā)明所使用的試劑均可以從市場上購得或者可以通過本發(fā)明所描述的方法制備而得。儀器參數(shù)除非參數(shù)中另行規(guī)定,所有分析都在環(huán)境溫度下進(jìn)行。X-射線粉末衍射(XRPD)XRPD測試使用Panalytical(帕納科)公司的XPERT-3型X射線衍射儀。將約10毫克樣品均勻平鋪在單晶硅樣品盤上,用以下描述的參數(shù)進(jìn)行XRPD測試:表2:XRPD掃描參數(shù)StartPosition[°2Th.]:3.0056EndPosition[°2Th.]:39.9906StepSize[°2Th.]:0.0130ScanStepTime[s]:23.9700K-Alphal[?]:1.54060K-Alphal2[?]:1.54443GeneratorSettings:40mA,45kV差示掃描量熱法(DSC)DSC圖譜在TAQ200差示掃描量熱儀上采集,下表列出了試驗(yàn)參數(shù):表3:DSC試驗(yàn)參數(shù)樣品盤鋁盤,壓蓋溫度范圍/℃25-250℃掃描速率/(℃/min)10保護(hù)氣體氮?dú)鈱?shí)施例1416b晶型的制備:將100g粗品加入2L三口燒瓶中,再加入500ml二氯甲烷,升溫至回流,并保持至固體全溶,然后緩慢降溫至30℃左右,緩慢滴加500ml正庚烷使固體大量析出,然后于1-2h內(nèi)降溫至5~10℃,保持析晶1-2h后過濾,將濾餅于40~45℃減壓烘干得到白色固體85.7g。實(shí)施例2穩(wěn)定性實(shí)驗(yàn)(1)加速試驗(yàn)儀器:恒溫恒濕培養(yǎng)箱條件:溫度50℃±2℃,相對濕度RH75%±5%將實(shí)施例1中制備的416b晶型放入恒溫恒濕培養(yǎng)箱中,分別于第1天、第2天、第5天、第10天取樣測定樣品的晶型和有關(guān)物質(zhì)。由試驗(yàn)結(jié)果可知,本晶型在高溫條件下,晶型沒有變化,有關(guān)物質(zhì)也沒有明顯增加。(2)長期試驗(yàn)儀器:恒溫恒濕培養(yǎng)箱條件:溫度25℃±2℃,相對濕度RH60%±5%將實(shí)施例1中制備的416b晶型放入恒溫恒濕培養(yǎng)箱中,分別于第1個月、第3個月、第6個月取樣測定樣品的晶型和有關(guān)物質(zhì)。由試驗(yàn)結(jié)果可知,本晶型在長期試驗(yàn)中,晶型沒有變化,有關(guān)物質(zhì)也沒有明顯增加。盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實(shí)施例,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解:在不脫離本發(fā)明的原理和宗旨的情況下可以對這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型,本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。當(dāng)前第1頁1 2 3 
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