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      一種用于隱身飛機(jī)的電加熱防冰防霧透明導(dǎo)電膜及其制備方法與流程

      文檔序號:11829089閱讀:來源:國知局

      技術(shù)特征:

      1.一種用于隱身飛機(jī)的電加熱防冰防霧透明導(dǎo)電膜,其特征在于:所述用于隱身飛機(jī)的電加熱防冰防霧透明導(dǎo)電膜包括A面和B面,所述A面和B面上分別設(shè)置有不同的透明薄膜,A面為電加熱膜系,B面為隱身功能膜系;

      所述電加熱膜系由玻璃基底由內(nèi)向外依次為電加熱附著層、電加熱功能層和電加熱保護(hù)層;所述隱身功能膜系由玻璃基底由內(nèi)向外依次為隱身附著層、隱身功能層和隱身保護(hù)層。

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于隱身飛機(jī)的電加熱防冰防霧透明導(dǎo)電膜,其特征在于:所述玻璃基底為座艙有機(jī)玻璃基底。

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于隱身飛機(jī)的電加熱防冰防霧透明導(dǎo)電膜,其特征在于:所述電加熱附著層由兩個(gè)連續(xù)的膜層組成,所述兩個(gè)連續(xù)的膜層包括第一氧化硅層或第一氮氧化硅層(1-11)、第一氧化鋅鋁層(1-12),所述第一氧化硅層或第一氮氧化硅層(1-11)的膜層厚度為18~25nm,第一氧化鋅鋁層(1-12)的膜層厚度為75~115nm。

      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于隱身飛機(jī)的電加熱防冰防霧透明導(dǎo)電膜,其特征在于:所述電加熱功能層由四個(gè)連續(xù)的膜層組成,所述四個(gè)連續(xù)的膜層包括第一金屬鈦層或金屬銀層(1-21)、第一氧化鈦層(1-22)、氧化鈮層(1-23)、第一氧化銦錫層(1-24),

      所述第一金屬鈦層或金屬銀層(1-21)的膜層厚度為6~11nm,第一氧化鈦層(1-22)的膜層厚度為15~22nm,氧化鈮層(1-23)的膜層厚度為10~15nm,第一氧化銦錫層(1-24)的膜層厚度為120~165nm。

      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于隱身飛機(jī)的電加熱防冰防霧透明導(dǎo)電膜,其特征在于:所述電加熱保護(hù)層為第二氧化鈦層或氮化鈦層(1-3),所述第二氧化鈦層或氮化鈦層(1-3)的膜層厚度為65~150nm;所述A面電加熱透明導(dǎo)電膜層兩側(cè)涂覆導(dǎo)電銀漿或銅電極與電加熱電源相連接。

      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于隱身飛機(jī)的電加熱防冰防霧透明導(dǎo)電膜,其特征在于:所述隱身附著層由內(nèi)向外依次為第二氧化硅層或第二氮氧化硅層(2-11)和第二氧化鋅鋁層(2-12),所述第二氧化硅層或第二氮氧化硅層(2-11)的膜層厚度為18~25nm,第二氧化鋅鋁層(2-12)的膜層厚度為25~40nm。

      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于隱身飛機(jī)的電加熱防冰防霧透明導(dǎo)電膜,其特征在于:所述隱身功能層由內(nèi)向外依次為第一氧化鋯層(2-21)、第二金屬鈦層(2-22)、第二氧化鋯層(2-23)、第三金屬鈦層(2-24)和第三氧化鋯層(2-25),所述第一氧化鋯層(2-21)的膜層厚度為20~40nm,所述第二氧化鋯層(2-23)的膜層厚度為10~15nm,所述第三氧化鋯層(2-25)的膜層厚度為2~20nm,第二金屬鈦層(2-22)的膜層厚度為6~8nm,所述第三金屬鈦層(2-24)的膜層厚度為4~6nm。

      8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于隱身飛機(jī)的電加熱防冰防霧透明導(dǎo)電膜,其特征在于:所述隱身保護(hù)層由內(nèi)而外依次包括第二氧化銦錫層(2-31)和第三氮氧化硅層(2-32),所述第二氧化銦錫層(2-31)的膜層厚度為150~265nm,第三氮氧化硅層(2-32)的膜層厚度為65~150nm。

      9.權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的用于隱身飛機(jī)的電加熱防冰防霧透明導(dǎo)電膜的制備方法,其特征在于包括如下步驟:

      (1)采用連續(xù)式磁控濺射方式,鍍膜環(huán)境要求:潔凈度萬級以內(nèi)、溫度在18~23℃、濕度60%以下,陰極冷卻水溫度10~22℃,開啟真空泵系統(tǒng),先使真空腔室達(dá)到本底真空要求:緩沖室真空度<0.1Pa、鍍膜室真空度<1~3×10-3Pa;

      (2)座艙有機(jī)玻璃基底經(jīng)過超聲波清洗或自動(dòng)化清洗設(shè)備清洗后,以臥式或立式方式進(jìn)入鍍膜設(shè)備,依次經(jīng)過進(jìn)基片室、緩沖室到達(dá)鍍膜室,緩沖室氣壓在0.1~1.5Pa,充入工作氣體,同時(shí)鍍膜室氣壓維持在0.2~0.85Pa之間,根據(jù)實(shí)際工藝需求充入工作氣體和工藝氣體;

      (3)待腔體內(nèi)氣壓穩(wěn)定后,將有機(jī)玻璃基底待鍍膜B面正對靶面,保持基底至靶面距離在8~25cm范圍,連續(xù)開啟磁控濺射鍍膜設(shè)備的中頻或直流電源,起輝穩(wěn)定后依次在基底上沉積隱身附著層、隱身功能層、隱身保護(hù)層,各層中對應(yīng)膜層依據(jù)技術(shù)需求工藝氣體采用氧氣或氮?dú)猓?/p>

      (4)B面鍍膜結(jié)束后,基底經(jīng)過緩沖室、出膜室;

      (5)清洗上片,重復(fù)上述步驟(1)~(3),第二次鍍膜正面為A面,依次沉積電加熱附著層、電加熱功能層、電加熱保護(hù)層,鍍膜過程中基底傳輸速度保持平穩(wěn)均勻,速度范圍為0.5~2.5m/min,制得用于隱身飛機(jī)的電加熱防冰防霧透明導(dǎo)電膜。

      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的用于隱身飛機(jī)的電加熱防冰防霧透明導(dǎo)電膜的制備方法,其特征在于:在步驟(2)中,所述工作氣體為氬氣,所述工藝氣體為氧氣或氮?dú)?;在步驟(3)中,連續(xù)開啟磁控濺射鍍膜設(shè)備的中頻或直流電源,采用恒功率的范圍為3~40kw或恒電流的范圍為1~40A。

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