1.一種復(fù)合原子氧防護(hù)涂層，其特征在于：所述涂層由PHPS過(guò)渡層(2)和硅氧烷原子氧防護(hù)涂層(3)構(gòu)成，PHPS過(guò)渡層(2)附著在有機(jī)基底材料(1)表面，厚度為100～300nm；硅氧烷原子氧防護(hù)涂層(3)附著在PHPS過(guò)渡層(2)上，厚度為200～500nm；其中PHPS過(guò)渡層(2)采用液相化學(xué)制膜法制備，硅氧烷原子氧防護(hù)涂層(3)采用化學(xué)氣相沉積技術(shù)制備。
2.如權(quán)利要求1所述的一種復(fù)合原子氧防護(hù)涂層，其特征在于：所述有機(jī)基底材料(1)為聚酰亞胺薄膜或聚酯薄膜。