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      一種耐高溫鐳射鍍鋁膜的制作方法

      文檔序號:11096690閱讀:1245來源:國知局

      本發(fā)明涉及鐳射鍍鋁膜領(lǐng)域,特別是涉及一種耐高溫鐳射鍍鋁膜。



      背景技術(shù):

      鐳射鍍鋁膜用于高檔印刷品的紙塑復(fù)合,再加以印刷可成為高檔一體化鐳射彩印紙盒包裝(煙盒、日化、食品、禮品盒等),在光線照射下可見強(qiáng)烈的高亮七彩光圖案效果,提升印刷品檔次。鍍鋁鐳射膜按用途可分為包裝膜、轉(zhuǎn)移膜、燙印膜、彩色膜、鏤空膜等。

      然而,目前使用的鐳射鍍鋁膜的耐高溫性能差,不能夠長期在高溫環(huán)境中使用。



      技術(shù)實現(xiàn)要素:

      本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種耐高溫鐳射鍍鋁膜,耐高溫性能佳,能夠長期在高溫環(huán)境中使用。

      為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是:提供一種耐高溫鐳射鍍鋁膜,包括:膜基體層和鍍鋁層,所述的膜基體層由以下組分制成:3-(2-溴-4,5-二甲氧基苯基)丙酸異丙酯、α-甲基丙烯酸-2-乙基己酯、聚琥珀酸丁二酯、甲基丙烯酸二甲氨乙酯、丙烯腈-丁二烯-丙烯酸酯塑料和聚對苯二甲酸丙二酯,其各組分的重量含量為:3-(2-溴-4,5-二甲氧基苯基)丙酸異丙酯35~53份、α-甲基丙烯酸-2-乙基己酯20~38份、聚琥珀酸丁二酯10~23份、甲基丙烯酸二甲氨乙酯18~35份、丙烯腈-丁二烯-丙烯酸酯塑料30~43份和聚對苯二甲酸丙二酯40~52份。

      在本發(fā)明一個較佳實施例中,所述的3-(2-溴-4,5-二甲氧基苯基)丙酸異丙酯的重量含量為35~48份。

      在本發(fā)明一個較佳實施例中,所述的α-甲基丙烯酸-2-乙基己酯的重量含量為22~36份。

      在本發(fā)明一個較佳實施例中,所述的甲基丙烯酸二甲氨乙酯的重量含量為21~33份。

      本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明耐高溫性能佳,能夠長期在高溫環(huán)境中使用。

      具體實施方式

      下面將對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅是本發(fā)明的一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

      實施例1

      一種耐高溫鐳射鍍鋁膜,包括:膜基體層和鍍鋁層,所述的膜基體層由以下組分制成:3-(2-溴-4,5-二甲氧基苯基)丙酸異丙酯、α-甲基丙烯酸-2-乙基己酯、聚琥珀酸丁二酯、甲基丙烯酸二甲氨乙酯、丙烯腈-丁二烯-丙烯酸酯塑料和聚對苯二甲酸丙二酯,其各組分的重量含量為:3-(2-溴-4,5-二甲氧基苯基)丙酸異丙酯43份、α-甲基丙烯酸-2-乙基己酯29份、聚琥珀酸丁二酯16份、甲基丙烯酸二甲氨乙酯27份、丙烯腈-丁二烯-丙烯酸酯塑料36份和聚對苯二甲酸丙二酯46份。

      實施例2

      一種耐高溫鐳射鍍鋁膜,包括:膜基體層和鍍鋁層,所述的膜基體層由以下組分制成:3-(2-溴-4,5-二甲氧基苯基)丙酸異丙酯、α-甲基丙烯酸-2-乙基己酯、聚琥珀酸丁二酯、甲基丙烯酸二甲氨乙酯、丙烯腈-丁二烯-丙烯酸酯塑料和聚對苯二甲酸丙二酯,其各組分的重量含量為:3-(2-溴-4,5-二甲氧基苯基)丙酸異丙酯48份、α-甲基丙烯酸-2-乙基己酯36份、聚琥珀酸丁二酯23份、甲基丙烯酸二甲氨乙酯33份、丙烯腈-丁二烯-丙烯酸酯塑料43份和聚對苯二甲酸丙二酯52份。

      實施例3

      一種耐高溫鐳射鍍鋁膜,包括:膜基體層和鍍鋁層,所述的膜基體層由以下組分制成:3-(2-溴-4,5-二甲氧基苯基)丙酸異丙酯、α-甲基丙烯酸-2-乙基己酯、聚琥珀酸丁二酯、甲基丙烯酸二甲氨乙酯、丙烯腈-丁二烯-丙烯酸酯塑料和聚對苯二甲酸丙二酯,其各組分的重量含量為:3-(2-溴-4,5-二甲氧基苯基)丙酸異丙酯35份、α-甲基丙烯酸-2-乙基己酯22份、聚琥珀酸丁二酯10份、甲基丙烯酸二甲氨乙酯21份、丙烯腈-丁二烯-丙烯酸酯塑料30份和聚對苯二甲酸丙二酯40份。

      本發(fā)明耐高溫鐳射鍍鋁膜的有益效果是:本發(fā)明耐高溫性能佳,能夠長期在高溫環(huán)境中使用。

      以上所述僅為本發(fā)明的實施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。

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